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李延国

作品数：4 被引量：30H指数：3
供职机构：沈阳化工股份有限公司更多>>
相关领域：化学工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 4篇化学工程

主题

  • 3篇氧化硅
  • 3篇气相法
  • 3篇气相法二氧化...
  • 3篇二氧化硅
  • 2篇羟基
  • 2篇消光
  • 2篇消光性
  • 2篇硅羟基
  • 2篇比表面
  • 2篇比表面积
  • 1篇电解
  • 1篇电解槽
  • 1篇离子膜

机构

  • 4篇沈阳化工股份...

作者

  • 4篇李延国
  • 2篇王刚
  • 2篇方彬
  • 1篇王刚
  • 1篇徐岩
  • 1篇王欣
  • 1篇安杉

传媒

  • 2篇氯碱工业
  • 1篇无机盐工业
  • 1篇硅铝化合物

年份

  • 1篇2012
  • 1篇2008
  • 2篇2004
共 4 条 记 录，以下是 1-4
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排序方式：
离子膜和电解槽性能的主要影响因素被引量：7
2008年
综合分析盐水、阴极液、阳极液、温度、气体压力、电流分布、开停车等对离子膜和电解槽性能的影响。
王刚徐岩李延国
关键词：离子膜电解槽
气相法二氧化硅应用机理及特性被引量：20
2004年
主要介绍了气相法二氧化硅在液态体系、干燥体系、固态体系中的作用机理;气相法二氧化硅在应用中的特殊性能;以及比表面积、pH、含水量、添加量、表面处理程度等气相法二氧化硅各项物理性能对应用性能的影响。
方彬李延国王刚
关键词：气相法二氧化硅硅羟基消光性比表面积
气相法二氧化硅应用机理及特性
2004年
主要介绍了气相法二氧化硅在液态体系、干燥体系、固态体系中的作用机理；气相法二氧化硅在应用中的特殊性能；以及比表面积、pH、含水量、添加量、表面处理程度等气相法二氧化硅各项物理性能对应用性能的影响。
方彬李延国王刚
关键词：气相法二氧化硅比表面积硅羟基消光性
气相法二氧化硅生产现状和展望被引量：3
2012年
通过对气相法二氧化硅生产技术和市场前景进行分析,提出发挥资源优势、扩大生产规模、降低生产成本及加大科研投入、加快应用技术服务步伐的应对策略。
王欣安杉李延国吴子路
关键词：气相法二氧化硅
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