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文献类型

  • 9篇期刊文章
  • 4篇会议论文

领域

  • 12篇电子电信
  • 2篇一般工业技术

主题

  • 3篇电子领域
  • 3篇清洗工艺
  • 3篇微电子领域
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  • 3篇激光
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  • 3篇激光清洗技术
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  • 1篇等离子体
  • 1篇等离子体显示...
  • 1篇电极
  • 1篇曝光台
  • 1篇清洗技术
  • 1篇显示器件

机构

  • 13篇西安交通大学

作者

  • 13篇赵志明
  • 2篇范玉锋
  • 1篇姚宗熙
  • 1篇张剑锋
  • 1篇徐伟军
  • 1篇胡文波
  • 1篇王文江

传媒

  • 5篇真空电子技术
  • 1篇现代显示
  • 1篇彩色显像管
  • 1篇电子电路与贴...
  • 1篇洗净技术
  • 1篇2004清洗...
  • 1篇第二届中国西...
  • 1篇中国电子学会...

年份

  • 1篇2005
  • 2篇2004
  • 3篇2003
  • 1篇2002
  • 1篇2001
  • 1篇2000
  • 3篇1999
  • 1篇1997
13 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
感光性浆料法制作PDP电极的工艺被引量:3
2003年
 对利用感光性浆料制作ACPDP电极的工艺进行了研究,获得了良好结果,并对研究中遇到的一些问题进行了分析和讨论。
范玉锋张剑锋王文江徐伟军赵志明
关键词:PDP厚膜
浅谈纳米技术在相关领域的应用
对纳米技术这一新兴技术进行了较为详细的阐述、分析,并着重分析了纳米技术在现代各个领域的特殊应用。
赵志明
关键词:纳米材料光催化剂半导体纳米结构
文献传递
激光清洗技术在微电子领域的应用
2005年
本文介绍了激光清洗技术在微电子领域的应用,对该技术在清除细微颗粒方面所具有的独到的优越性进行了探讨。
赵志明
关键词:激光清洗微电子
激光清洗技术在微电子领域的应用被引量:8
2004年
本文介绍了激光清洗技术在微电子领域的应用,对该技术在清除细微颗粒方面所具有的独到的优越性进行了探讨。
赵志明
关键词:激光清洗微电子激光辐射激光器
PDP上,下基板清洗工艺的探索
1999年
本文阐述了彩色等离子体显示板(PDP)用上、下基板的清洗工艺流程,针对清洗过程遇到的问题,找出相应的解决办法;针对清洗过程中遇到的:A、基板玻璃本身的质量及被污染情况;B、清洗剂的选择及其浓度与温度、水质、;C、环境的清洁程度;D1清洗后的干燥温度等因素对清洗质量的影响,逐条做了详尽的论述,找出较为合理、有效的工艺流程。
赵志明
关键词:彩色PDP基板玻璃
21世纪的技术革命——纳米技术被引量:1
2002年
简要阐述了纳米技术的发展与现状,并着重介绍了纳米材料的获得及纳米技术在各领域的特殊应用。
赵志明范玉锋
关键词:纳米材料
等离子体上、下基板清洗工艺的摸索
本文阐述了彩色等离子体PDP上、下基板清洗工艺流程及各种对清洗质量造成影响的因素的解决办法。
赵志明
文献传递
影响彩色等离子体显示器质量的因素分析
2001年
通过理论分析及实践工艺操作,对影响PDP产品质量的某些因素作了较为详尽的分析,着重分析了提高清洗质量的方法。
赵志明
关键词:玻璃基板等离子体显示器
超声波清洗技术在等离子体显示器件基板上的应用
2003年
通过对超声波清洗技术的理论分析以及实际工艺操作结果分析 ,与以往传统的清洗方式做一比较 ,说明了在清除微细污染物方面 ,超声波清洗技术在等离子体显示器件障壁基板清洗方面的优越性。
赵志明
关键词:超声波等离子体显示器件
三维图形程序用于曝光台校正透镜的研制
本文介绍了一种在SUN4上用SunCore编写的三维图形程序,用于CPT和CDT用曝光台校正透镜的研制.
赵志明
关键词:曝光台校正透镜
文献传递
共2页<12>
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