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郑春海

作品数：18 被引量：1H指数：1
供职机构：沈阳芯源微电子设备有限公司更多>>
相关领域：电子电信文化科学更多>>

合作作者

文献类型

  • 16篇专利
  • 1篇期刊文章
  • 1篇科技成果

领域

  • 5篇电子电信
  • 1篇文化科学

主题

  • 9篇电路
  • 9篇半导体
  • 8篇电路制造
  • 8篇集成电路
  • 7篇晶圆
  • 7篇集成电路制造
  • 6篇晶片
  • 5篇涂胶
  • 4篇硅片
  • 3篇喷涂
  • 3篇显影
  • 3篇显影机
  • 3篇光刻
  • 3篇光刻胶
  • 3篇半导体晶片
  • 2篇单片
  • 2篇电机
  • 2篇照相机
  • 2篇湿法
  • 2篇湿法处理

机构

  • 18篇沈阳芯源微电...

作者

  • 18篇郑春海
  • 4篇王阳
  • 3篇张怀东
  • 3篇魏猛
  • 2篇康宁
  • 2篇汪明波
  • 2篇郑右非
  • 1篇李东海
  • 1篇徐春旭
  • 1篇张军
  • 1篇卢继奎
  • 1篇宗润福
  • 1篇陈焱
  • 1篇王绍勇
  • 1篇刘正伟
  • 1篇苗涛
  • 1篇孙大伟
  • 1篇许凯

传媒

  • 1篇中国高新技术...

年份

  • 2篇2017
  • 1篇2016
  • 3篇2015
  • 4篇2012
  • 4篇2011
  • 1篇2010
  • 1篇2009
  • 2篇2008
共 18 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种涂胶显影机的工艺模块布局方法
本发明涉及半导体生产中涂胶显影机内工艺处理模块的技术领域，具体地说是一种涂胶显影机的工艺模块布局方法。所述涂胶显影机包括依次串接的片盒站、工艺站及接口站，其中工艺站内设有涂胶模块、显影模块、热处理模块及工艺站机器人，所述...
王阳魏猛郑春海胡延兵
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涂胶显影机的快捷传送晶圆方法
本发明涉及用以在集成电路生产时与光刻机联线作业的涂胶显影机的快捷传送晶圆方法。具体为将涂胶、显影工艺处理的晶圆传送路径平坦化分布，减少环形传送路径，提升晶圆的传送效率；去除涂胶显影机内的晶圆传送通道环节，提高晶圆传送速度...
胡延兵郑春海卢继奎
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一种双喷嘴三角形喷胶方法
本发明属于半导体集成电路制造工艺中涂胶工艺技术领域，具体地说是一种双喷嘴三角形喷胶方法。该方法包括以下几个步骤：第一步骤，将晶圆放置在承载台上；第二步骤，第一胶嘴和第二胶嘴从晶圆的中心位置分别向两侧以三角形喷胶轨迹往复移...
郑春海
文献传递
一种均匀喷涂光刻胶的方法
本发明涉及集成电路制造晶圆的加工技术，具体地说是一种在晶圆上获得均匀光刻胶喷涂的方法，解决现有技术中存在的光刻胶层厚度均匀性指标需要进一步提高等问题。将待喷涂加工的晶圆进行离心式旋转、喷嘴沿晶圆直径方向水平移动喷洒光刻胶...
胡延兵郑春海王阳
文献传递
双向传递片盒机构
本发明涉及涂胶显影和半导体晶片加工的相关领域，具体为一种双向传递晶片片盒机构，用于在半导体晶片上获得均布光刻胶及光刻胶图形的涂胶显影设备、单片湿法处理设备等，解决现有技术中晶片在进出片盒只能作单向运动，影响整机的产能等问...
魏猛郑春海
一种提高传片速度的机械手移动方法
本发明是一种提高传片速度的机械手移动方法，运用到半导体实际晶圆传送过程当中去，可以缩短机械手一个单周期晶圆传送的时间，使得晶圆在传送过程中消耗的时间缩短，对于多单元堆叠式加工工艺设备的产能提高有明显的积极作用。
郑春海王阳
文献传递
双整定精确定位硅片圆心的方法
本发明涉及集成电路制造硅片处理技术，具体来说是一种双整定精确定位硅片圆心的方法。本发明将硅片沿圆心方向旋转，利用不同精度的线性图像识别传感器依次对硅片边缘进行识别，确认硅片平边或缺口位置，确定硅片圆心偏移量；通过双向移动...
郑春海康宁田广霖
一种提高涂胶产能的方法
本发明涉及集成电路制造硅片处理技术，具体来说是一种提高涂胶产能的方法，解决现有技术中对硅片喷涂的产能低等问题。首先将加工载体硅片置于承片台上；然后将涂胶胶嘴从与硅片一端对应的起始位置处开始涂胶，涂胶胶嘴喷涂感光胶同时，在...
郑春海郑右非汪明波
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双向传递片盒机构
本发明涉及涂胶显影和半导体晶片加工的相关领域，具体为一种双向传递晶片片盒机构，用于在半导体晶片上获得均布光刻胶及光刻胶图形的涂胶显影设备、单片湿法处理设备等，解决现有技术中晶片在进出片盒只能作单向运动，影响整机的产能等问...
魏猛郑春海
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对中系统
本实用新型涉及半导体晶片加工技术，具体地说是一种对中系统，解决半导体加工过程中调整被加工件晶片的中心位置误差大的问题。该系统设有工作盘，工作盘上的晶片及上方的工业照相机，工业照相机连至中央控制器的输入端，中央控制器的输出...
张怀东郑春海
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