马占吉
- 作品数：53 被引量：101H指数：8
- 供职机构：兰州空间技术物理研究所更多>>
- 发文基金：中国人民解放军总装备部预研基金甘肃省中青年科技研究基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术金属学及工艺理学机械工程更多>>
- 偏压对MPP制备AlTiSiN纳米复合涂层结构及性能的影响被引量：4
- 2020年
- 目的实现对AlTiSiN纳米复合涂层微观组织结构的调控及力学性能优化。方法利用可调控脉冲磁控溅射技术,通过调控基体偏压(-50^-250 V)制备了不同偏压条件下的AlTiSiN纳米复合涂层。采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、能量色散谱仪(EDS)、原子力显微镜(AFM)、薄膜综合性能测试仪及球盘摩擦试验仪,测试了涂层的微观组织结构、组成成分、表面形貌、力学性能及摩擦学性能。结果偏压对涂层元素组成影响不大。微观组织结构方面,不同偏压条件下制备AlTiSiN纳米复合涂层的晶面衍射峰宽化现象明显,呈现纳米晶组织结构。-200 V条件下制备的涂层的晶面衍射峰呈“馒头峰”形态,表明涂层结晶性能出现明显下降,呈类非晶组织结构;偏压升至-250 V时,高能离子对涂层生长表面的持续轰击作用,使得涂层生长表面升温明显,导致结晶性能出现明显改善。涂层表面光滑致密,表面粗糙度最低可达1.753 nm。力学性能方面,随基体偏压的升高,涂层硬度在取得最大值后逐渐下降,最高硬度可达25.9 GPa,H/E^*系数可达0.13。摩擦学性能方面,偏压为-200 V时,涂层磨损率取得最小值4.7×10^-15 m^3/(N×m)。结论改变基体偏压,成功实现了涂层微观组织结构的调控生长,进而达到了优化涂层组织结构、力学性能及摩擦学性能的目的。
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- 关键词：力学性能摩擦学性能
- 真空阴极电弧离子源磁场分析与设计被引量：2
- 2019年
- 真空阴极电弧离子源是多弧离子镀膜设备的核心部件,直接影响镀膜系统的整体性能。真空阴极电弧离子源在工作时,大液滴发射是阻碍电弧离子镀技术广泛深入应用的瓶颈问题。合理设计并利用磁场可以很好地控制弧斑运动,大幅度地减少液滴、减小液滴尺寸、提高膜层质量和使用寿命。对真空阴极电弧离子源的附加磁场进行了理论分析和仿真计算,为附加磁场的优化设计提供了重要的指导依据。
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- 关键词：电弧放电磁场
- 一种滚珠表面镀膜的装置
- 本发明公开了一种滚珠表面镀膜的装置。本发明采用将上转盘通过限位孔与固定架固定，而下转盘与旋转轴相连的方式，即下转盘转动，上转盘固定不动，使得滚珠的各表面与旋转轴的旋转中心的距离不一样，进而导致滚珠的自转，使得直线传播的膜...
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- 文献传递
- 一种可伸展收缩型真空镀膜机用阴极保护装置
- 本发明涉及一种可伸展收缩型真空镀膜机用阴极保护装置，属于真空镀膜装备制造技术领域。所述装置包括所述装置包括摆动气缸、磁流体、保护挡板、旋转轴和旋转轨道；所述保护挡板为分片式挡板，包括固定挡板和旋转挡板；固定挡板包括左固定...
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- 文献传递
- 掺铜对DLC膜力学性能影响研究
- 类金刚石(DLC)薄膜因其高的内应力及其与基底的不匹配性导致了低的附着力,很难制备较厚的薄膜,这限制了大规模商业化生产。为了改善这种缺陷,可从提高薄膜附着力和降低薄膜应力两方面解决。本研究利用电弧离子镀膜技术,在高硬度的...
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- 关键词：类金刚石掺铜应力
- 文献传递
- 一种轻质合金构件表面纳米多层耐蚀涂层及制备方法
- 本发明公开了一种轻质合金构件表面纳米多层耐蚀涂层及制备方法，本发明属于轻质合金结构部件表面真空镀膜改性领域。本发明涉及一种轻质合金表面纳米复合多层Cr/CrN/CrSiN耐蚀涂层低温制备方法，具体是采用独特的同步HiPI...
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- 七种金属基底上类金刚石膜的过渡层制备研究被引量：10
- 2008年
- 为了解决类金刚石(DLC)膜在金属基底上附着力低的困难,本研究分别利用了两种厚度不同的Ti/TiCx/DLC过渡层和一种Ti/TiNy/TiNyCx/DLC过渡层在7种金属基底上(W18Cr4V、Cr12、GCr15、TC4、40Cr、9Cr18、1Cr18Ni9Ti)制备了DLC薄膜。利用Si(100)基底镀膜前后的形变,计算的薄膜应力高达3.9 GPa,这种应力在过渡层中部分释放而制备了较厚(0.9μm)DLC膜。薄膜的附着力通过拉拔试验发现,选择合适的过渡层,薄膜的附着力有很大的提高,拉拔中只有胶被拉开。纳米硬度计测试结果表明,薄膜的硬度都在5000 Hv左右,不随基底材料改变。往复式摩擦试验结果显示,稳定后的摩擦系数在0.1附近。通过Raman谱发现,所有基底上薄膜的谱图一致,这说明薄膜的结构不受基底影响。
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- 关键词：类金刚石膜附着力
- 利用离子源掺铁制备多层类金刚石膜被引量：1
- 2008年
- 对离子源进行合理设计,使离子源中的Ar离子溅射产生Fe离子,利用裹挟Fe离子的Ar离子在制备类金刚石薄膜的过程中进行间歇性注入掺杂,制备多层类金刚石薄膜。这种多层类金刚石薄膜和单层类金刚石薄膜相比,应力从4.5 GPa降至3.9 GPa,摩擦系数从0.14降至0.1附近,同时保持硬度值不变。
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- 关键词：类金刚石膜掺铁多层膜力学性能
- 一种聚焦式阳极层离子源装置
- 本发明公开了一种聚焦式阳极层离子源装置，包括壳体，在所述壳体内间隔相对设置有阳极环与阴极环，在所述壳体上还固定设置有进气管，所述阳极环与所述阴极环表面均为圆锥面，所述阴极环包括外阴极环与内阴极环，所述外阴极环与所述内阴极...
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- 文献传递
- 掺硅类金刚石膜的制备与力学性能研究被引量：18
- 2008年
- 用脉冲电弧离子镀技术,通过调整掺硅石墨靶和纯石墨靶的数量,制备了一系列不同硅含量的类金刚石薄膜样品.研究发现:当硅含量达6.7at.%时,类金刚石薄膜的应力从4.5GPa降低到3.1GPa,薄膜的硬度还保持在3600Hv,和没有掺杂的类金刚石薄膜的硬度相比,基本保持不变;当硅含量小于6.7at.%时薄膜的摩擦系数相对于未掺杂的类金刚石薄膜也保持不变,为0.15.当薄膜中硅含量继续增加时,薄膜中C—Si键的含量增多,导致薄膜硬度和应力都有较大幅度地减小、摩擦系数增大、磨损性能也变差了.
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- 关键词：类金刚石膜应力力学性能
