易新建
- 作品数：274 被引量：846H指数：15
- 供职机构：华中科技大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划中国博士后科学基金更多>>
- 相关领域：电子电信机械工程自动化与计算机技术一般工业技术更多>>
- 基于各向异性规整化的总变分盲复原算法研究
- 针对大气湍流退化图像复原问题,提出了一种基于各向异性和非线性规整化的总变分盲复原新算法0该算法主要结合图像和湍流点扩展函数的一些性质采用基于各向异性的空间自适应规整化处理,分别建立了一个具有非线性和空间各向异性的规整化函...
- 洪汉玉何成剑陈以超易新建张天序
- 关键词：湍流退化图像图像复原总变分
- 文献传递
- 超导红外／毫米波多功能传感器研究
- 1994年
- 该文论述了超导红外／毫米波多功能传感器的原理以及我们利用ＹＢａＣｕＯ超导薄膜制备该传感器的实验结果。器件对８─１４μｍ红外辐射的比探测度Ｄ达１．５×１０９ＣｍＨｚ，响应率为３．８×１０３Ｖ／Ｗ；对８ｍｍ波．其等效噪声功率为６．９×１０（－１０）ＷＨｚ（－１）．响应率为４０６Ｖ／Ｗ。此外，观察了器件对８ｍｍ波响应信号与偏置电流，调制频率及辐射功率的关系。
- 孙汉东周方桥郝建华麦志洪赵兴荣易新建
- 关键词：超导薄膜红外探测器毫米波传感器
- 硅微透镜阵列被引量：5
- 1996年
- 采用融熔法制备球冠形的光致抗蚀剂掩膜，用离子束刻蚀实现球冠形向硅片上转移，有效地在较低衬底温度下（低于２００℃）制备出了硅微透镜阵列。通过扫描电子显微镜（ＳＥＭ）和表面探针实验证实了微透镜为球冠形。
- 麦志洪易新建赵兴荣
- 关键词：微透镜阵列硅离子束刻蚀
- 现阶段末制导红外成像跟踪系统性能提高的技术途径被引量：1
- 2003年
- 提出现阶段提高末制导红外成像跟踪系统性能的几个主要技术途径:变帧频技术、非均匀性校正技术、识别与跟踪技术等,并探讨其实现方法。
- 吴晗平易新建
- 关键词：末制导红外成像
- 利用离子束技术原位制备高温超导薄膜被引量：1
- 1993年
- 超导薄膜是高温超导材料弱电应用的关键技术。目前磁控溅射(包括直流和射频)和激光淀积方法已被广泛应用获得高温超导薄膜。相比这两种常用制膜方法,离子束溅射(IBS)具有独特优势。IBS工作气压很低,靶与衬底间不存在外加电场,减少了薄膜中杂质,消除了普通等离子体溅射方法中负离子反溅射有害效应。同时也不存在激光淀积薄膜均匀性差、薄膜中颗粒较大等缺点,是一种很有发展前途的制膜手段。
- 郝建华赵兴荣周方桥易新建李再光
- 关键词：离子束溅射超导体高TC
- 一种多波段灵巧红外光学系统
- 本实用新型提供了一种多波段灵巧红外光学系统，属于红外光学系统，解决现有双波段光学系统测谱波段窄、光路布局受限、体积重量大的问题。本实用新型系统包括红外扫描镜、多波段红外镜头、光路切换装置、光路切换控制器、FPA接口和光纤...
- 张天序刘祥燕戴小兵易新建何旭东高鹏程季剑飞
- 文献传递
- YBa_2Cu_3O_(7-x)高温超导薄膜在转变温区光响应机理研究被引量：1
- 1992年
- 自从1986年发现高温氧化物超导体以来,超导材料在液氮温区的实用成为可能,超导应用的一个重要领域是制备超导光学探测器件。这种器件无论以测辐射热还是以约瑟夫逊结模式,都具有响应波段宽(从可见光到毫米波)、噪声小、功耗低等优异性能。由于YBa_2Cu_3O_(7-x)高温氧化物超导材料的结构特性不同于低温超导体。
- 郝建华周方桥赵兴荣孙汉东王玲杰易新建
- 关键词：高TC超导体YBACUO光响应
- 气动光学效应退化图像循环迭代复原算法研究被引量：7
- 2005年
- 为了从湍流序列退化图像中有效地去除模糊、抖动等气动光学效应,提出一种基于内外循环迭代的湍流退化图像复原新算法.该算法利用多帧湍流退化图像,建立了一个基于航天图像随机场概率模型的联合对数似然函数.通过极大化该对数似然函数,推导出了基于内外循环交替求解目标图像及各帧点扩展函数的迭代关系,据此可将目标图像和各帧点扩展函数同时估计出来.在微机上进行了复原实验,实验结果表明该算法能用多帧图像获取目标图像和点扩展函数的最佳联合估计,可有效地去除模糊、抖动等气动光学效应.
- 洪汉玉张天序易新建喻九阳
- 关键词：气动光学效应湍流退化图像图像复原最大似然估计
- 大F数硅微透镜阵列的制作及光学性能测试研究
- 提出了一种补偿刻蚀法:在经过常规光刻热熔成形和离子束刻蚀技术制成的硅微透镜阵列上再涂敷几层光刻胶,以降低各单元微透镜的曲率。然后再次进行加热固化和离子束刻蚀。扫描电子显微镜(SEM)显示微透镜阵列为表面极为平缓的球冠形阵...
- 何苗易新建程祖海黄光刘鲁勤
- 关键词：微透镜阵列离子束刻蚀光刻胶点扩散函数
- 文献传递
- GaAs衬底上分子束外延α-Sn薄膜及其量子阱结构考虑被引量：1
- 1998年
- 利用分子束外延 (MBE)在GaAs( 0 0 1)单晶衬底上进行了α Sn薄膜的生长 ,利用反射高能电子显微镜 (RHEED) ,原位监控α Sn的生长过程和利用透射电子显微镜 (TEM )分析了界面结构 .测试结果表明 ,与以往报道相比亚稳态的α Sn膜具有高得多的温度稳定性 (由 70℃提高到 10 0℃ )和厚度稳定性 (由 5 0 0nm提高到 70 0nm) ,并观察到在其他电性能方面的改进 .此外 ,还提出了一种新型量子阱结构 .
- 易新建郝建华张新宇G.K.Wong
- 关键词：量子尺寸效应分子束外延
