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牛仕超

作品数:7 被引量:38H指数:4
供职机构:中南大学材料科学与工程学院更多>>
发文基金:国家科技部专项基金更多>>
相关领域:一般工业技术金属学及工艺理学电子电信更多>>

文献类型

  • 5篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 4篇金属学及工艺
  • 4篇一般工业技术
  • 1篇化学工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 5篇磁控
  • 5篇磁控溅射
  • 2篇性能研究
  • 2篇中频磁控溅射
  • 2篇钛合金
  • 2篇钛合金表面
  • 2篇离子
  • 2篇离子源
  • 2篇摩擦磨损性能
  • 2篇溅射
  • 2篇合金
  • 2篇合金表面
  • 2篇非平衡磁控溅...
  • 2篇C/C
  • 2篇CRN
  • 1篇氧分压
  • 1篇直流磁控
  • 1篇直流磁控溅射
  • 1篇使用寿命
  • 1篇梯度过渡层

机构

  • 7篇中南大学
  • 5篇广州有色金属...
  • 1篇湖南三才光电...

作者

  • 7篇牛仕超
  • 5篇李洪武
  • 5篇代明江
  • 5篇林松盛
  • 3篇侯惠君
  • 3篇朱霞高
  • 3篇余志明
  • 2篇林凯生
  • 2篇候惠君
  • 1篇魏秋平
  • 1篇伍水平

传媒

  • 1篇摩擦学学报
  • 1篇中国表面工程
  • 1篇真空
  • 1篇中国有色金属...
  • 1篇模具制造

年份

  • 4篇2007
  • 3篇2006
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
Cr/CrN/CrNC/CrC/Cr-DLC梯度膜层的研究被引量:11
2007年
采用中频磁控溅射结合离子源技术沉积Cr/CrN/CrNC/CrC/Cr-DLC膜层。利用扫描电镜(SEM)、电子能谱(EDS)、Raman光谱和俄歇深层剥层分别对膜层微观形貌、成分组成、键结构及梯度成分深层分布进行分析;采用努氏显微硬度计、摩擦磨损试验机、划痕仪及洛氏硬度计测评膜层机械性能。结果表明:采用中频磁控溅射可沉积出大面积Cr/CrN/CrNC/CrC/Cr-DLC梯度膜层;Cr溅射功率对C键结构影响不大,但表层DLC中Cr的含量和膜层厚度随中频功率增大而增大;随DLC中掺Cr量增多,膜层硬度及摩擦因数略有上升;采用梯度过渡层及掺入金属Cr提高了膜层附着力,但过高的中频功率使沉积离子能量偏高,膜层压应力增加反而降低了膜层附着性能。
牛仕超余志明代明江林松盛候惠君李洪武
关键词:中频磁控溅射离子源附着力
中频磁控溅射沉积梯度过渡Cr/CrN/CrNC/CrC膜的附着性能被引量:9
2007年
采用中频磁控溅射结合无灯丝离子源技术沉积梯度Cr/CrN/CrNC/CrC膜层,设计两组正交实验对膜层中界面Cr层及梯度层沉积的工艺参数对附着性能的影响进行研究。利用扫描电镜(SEM)、电子能谱(EDS)对其表面形貌及梯度成分进行表征;用划痕仪、显微硬度计及洛氏硬度计测评其附着性能,并对比两者测评的有效性。所得最优工艺参数为:梯度层沉积偏压100 V,中频功率6.5 kW,真空度0.6 Pa;Cr层的沉积时间、离子源电流及中频功率分别为2 min、4 A和6.5 kW。高中频功率及离子辅助沉积Cr层能有效提高膜层附着力。
牛仕超余志明代明江林松盛侯惠君李洪武
关键词:CRC中频磁控溅射离子源
掺Cr类金刚石及其梯度过渡层的制备与性能研究
类金刚石(DLC)优异的性能使其在工业中的应用受到越来越大的重视。在各种工模具上沉积DLC,可延长其使用寿命、提高工作效率并可改善工作环境。良好的附着性能是膜层工业应用的首要条件。改善具有高内应力的DLC膜层的附着性能,...
牛仕超
关键词:梯度过渡层
文献传递
选择合理涂层提高模具的使用寿命被引量:1
2006年
对常用模具钢的热处理工艺、表面强化处理作了简单叙述。着重叙述了常用于模具的镀膜涂层的性能与用途。
候惠君林松盛朱霞高李洪武代明江牛仕超
关键词:使用寿命
钛合金表面掺金属类金刚石薄膜的摩擦磨损性能研究被引量:12
2007年
采用阳极层流型矩形气体离子源结合非平衡磁控溅射法在钛合金基体表面制备掺金属类金刚石(Me-DLC)薄膜,通过X射线光电子能谱仪、俄歇微探针、表面形貌仪及扫描电子显微镜等对薄膜结构进行表征,用SRV型摩擦磨损试验机评价其摩擦磨损性能.结果表明,类金刚石薄膜可以提高钛合金基体的承载能力和硬度,对基体材料起到有效的耐磨减摩作用,掺钨类金刚石薄膜的硬度及膜/基结合强度较高,具有良好的耐磨减摩性能,且在膜层承载能力范围内,载荷越高,DLC梯度薄膜的摩擦系数越小.
林松盛代明江侯惠君李洪武朱霞高林凯生牛仕超
关键词:非平衡磁控溅射钛合金摩擦磨损性能
钛合金表面掺金属类金刚石膜的摩擦磨损性能研究
采用无灯丝离子源结合非平衡磁控溅射的方法,在钛合金基体上制备了掺金属类金刚石 (Me-DLC)膜层,利用摩擦磨损试验机对膜层进行摩擦磨损性能的研究,通过表面形貌仪、扫描电镜、硬度计、划痕仪等手段对膜层的摩擦磨损结果进行表...
林松盛代明江侯惠君李洪武朱霞高林凯生牛仕超
关键词:钛合金摩擦磨损性能非平衡磁控溅射
文献传递
基底温度和氧分压对直流磁控溅射制备的ZnO∶Al薄膜性能的影响被引量:6
2006年
利用直流磁控溅射法在玻璃衬底上制备了ZnO:A l(ZAO)透明导电薄膜。详细研究了沉积时的基片温度、氧分压强对膜的透光率和电阻率的影响。结果表明:ZAO薄膜具有六角纤锌矿结构且呈c轴择优取向,晶粒垂直于衬底方向柱状生长;衬底温度和氧分压对薄膜的电阻率有很大影响;基底温度对薄膜的可见光透过率影响不大,但随氧分压的增大而增大;在衬底温度为250℃、氧分压为1%时,薄膜有最优化的电阻率和平均透光率,分别达到8.35×10-4Ω.cm和85.2%。
余志明伍水平魏秋平牛仕超彭传才李京增魏敏
关键词:ZAO薄膜氧分压直流磁控溅射
共1页<1>
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