米高园
- 作品数：36 被引量：32H指数：4
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- 相关领域：电子电信理学一般工业技术自动化与计算机技术更多>>
- 一种大口径超径厚比异形平面光学零件柔性抛光盘
- 本发明公开了一种大口径超径厚比异形平面光学零件柔性抛光盘，包括配形抛光盘和异形零件加工抛光盘，异形零件加工抛光盘嵌入配形抛光盘内，异形零件加工时，柔性抛光盘放置在抛光模上，待抛光面与抛光模表面之间磨削抛光；配形抛光盘包括...
- 冯耕李明伟昌明杨崇民张建付王松林吴斌马方斌张岩刘青龙米高园
- 一种基于金属光栅的可调谐双通道窄带偏振滤光器及调谐方法
- 本发明提出一种基于金属光栅的可调谐双通道窄带偏振滤光器及调谐方法，滤光器依次由基底、HL交替组成的多层反射膜系、下层金属光栅层、可调谐间隔层、上层金属光栅层、HL交替组成的多层反射膜系组成；可调谐间隔层材料为随外加电场材...
- 金柯刘永强王颖辉韩俊杨崇民杨海成王慧娜刘青龙张建付李明伟赵兴梅米高园王松林董莹黎明杨建军
- 一种ZnS基底反0.5～0.8μm可见光及1.064μm激光并透3.7～4.8μm中波红外分色膜的膜系结构
- 本发明提出一种ZnS基底反0.5～0.8μm可见光及1.064μm激光并透3.7～4.8μm中波红外分色膜的膜系结构，包括ZnS基片和分色膜膜系；分色膜膜系由三种薄膜材料制成；膜层层数共计51层，其中第1层和第51层为氧...
- 张建付杨崇民米高园刘永强刘青龙王松林刘方杨华梅李明伟王颖辉孙婷黎明韩俊
- 文献传递
- 双离子束溅射ITO薄膜在电磁屏蔽窗口中的应用被引量：1
- 2022年
- 为了研究ITO薄膜在宽角度电磁屏蔽激光窗口中的应用效果,采用双离子束溅射镀膜技术在不同工艺条件下制备了ITO薄膜,根据薄膜的光电性能测试结果,分析了氧气流量、辅助离子源、基片烘烤温度等工艺条件对ITO薄膜透光性和导电性的影响。用Ti_(2)O_(3)和SiO_(2)作为高、低折射率材料,ITO薄膜作为电磁屏蔽膜层,在K9玻璃基片上设计了对2~18GHz电磁波高效屏蔽的0°~45°宽角度入射的1064nm激光窗口膜层,并利用双离子束溅射技术在合适的工艺条件下完成了薄膜的制备。测试结果显示,制备的薄膜透光性和电磁屏蔽性能良好,具有一定的耐酸性,适合作为高效电磁屏蔽、0°~45°宽角度入射的1064nm激光窗口膜层。
- 王松林杨崇民张建付李明伟米高园赵红军贾雪涛
- 关键词：ITO薄膜电磁屏蔽激光窗口
- 基底温度对电子束蒸发制备氧化铝薄膜的影响被引量：5
- 2013年
- 为了考察基底温度对氧化铝薄膜折射率以及沉积厚度的影响情况,在不同基底温度环境下,通过离子辅助电子束蒸发方式,在玻璃基底上制备了同一Tooling因子条件下所监测到相同厚度的Al2O3薄膜,利用分光光度计测量光谱透过率,依据光学薄膜相关理论,计算了基底温度在25℃~300℃范围内获得的膜层实际物理厚度为275.611nm^348.447nm,以及膜层折射率的变化。通过对实验结果的数值计算和曲线模拟,给出了基底温度对于薄膜的折射率和实际厚度的影响情况。
- 王松林杨崇民张建付刘青龙黎明米高园王慧娜
- 关键词：薄膜光学常数基底温度氧化铝薄膜
- 一种超宽带能量分光镜
- 本发明属于光电元器件领域，公开了一种超宽带能量分光镜，所述能量分光镜是光学透明基底上，通过制作具有一定占空比的网格状金属反射膜，实现对入射光的透射能量和反射能量达到特定的比值；能量分光镜的透射/反射分光比可以通过网格状金...
- 王松林张建付米高园刘方王宏浩杨崇民
- 大曲率球面零件光学膜厚分布数值计算被引量：2
- 2012年
- 为了对沉积在大曲率球面零件表面的光学膜厚分布进行理论分析计算,首先确定了工艺配置,然后通过数学建模确定出计算函数式,最后通过数值积分分别对蒸发源为点源(n=0)和蒸发源为面源(n=1,2)进行了计算。计算结果与实验结果比较后表明:在本文确定的工艺条件下,n=2时计算结果与实验结果比较吻合。证明采用本文设计的建模方法结合恰当的蒸发源发射特性,通过数值计算,完全可以对大曲率球面零件的膜厚分布进行计算。
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- 一种实现均匀加热除冰除霜的圆形光学窗口镀膜方法
- 本发明属于光学薄膜领域，具体涉及一种实现均匀加热除冰除霜的圆形光学窗口镀膜方法。所述方法通过对圆形光学窗口表面镀制的可加热薄膜厚度分布进行设计，并制作相应的薄膜厚度调控挡板来调控制备的导电加热薄膜厚度，以改善圆形光学窗口...
- 王松林杨崇民张建付刘青龙米高园陶忠朱筱群李明伟
- 文献传递
- 一种内嵌式电磁屏蔽金属网栅制作方法
- 本发明公开了一种内嵌式电磁屏蔽金属网栅制作方法，包括如下步骤：在光学基底上制作反向掩膜；等离子束刻蚀金属网栅沟槽；金属薄膜镀制；底层薄膜镀制；去胶及清洁；耐环境侵蚀性能的光学增透膜镀制。本发明通过在光学基底表面采用掩膜制...
- 王松林张建付李明伟杨崇民米高园阴万宏陶忠王颖辉赵红军
- ITO薄膜的电阻并联效应研究被引量：1
- 2020年
- 采用电子束蒸发镀膜方法在K9玻璃基底上分别镀制了ITO/SiO2/ITO,ITO/Ti2O3/ITO和ITO/MgF2/ITO结构的多层薄膜,用四探针方块电阻仪测量薄膜表面的方块电阻,用原子力显微镜观测样品的表面微观形貌。结果显示,当ITO薄膜的粗糙度较大且介质薄膜的物理厚度小于100nm时,各层ITO薄膜之间通过山峰状的凸起结构相连通,导致样片表面的方块电阻测量值与各层ITO薄膜电阻的并联值相当。这表明,当ITO薄膜的粗糙度较大且介质薄膜厚度较小时,各层ITO薄膜表现出电阻并联效应。利用多层ITO薄膜的电阻并联效应设计并制备了450~1 200nm超宽光谱透明导电薄膜,用四探针方块电阻仪测量了试验样片的表面方块电阻,用紫外-可见-近红外分光光度计测试了样片的光谱透射率。结果显示,在相同表面方块电阻条件下,相比于单层ITO薄膜,利用ITO薄膜电阻并联效应所制备的多层透明导电薄膜具有更高的光谱透射率。
- 王松林杨崇民张建付李缘米高园刘青龙
- 关键词：电子束蒸发ITO薄膜方块电阻
