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臧亮坤
作品数:
2
被引量:9
H指数:1
供职机构:
复旦大学
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发文基金:
国家自然科学基金
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相关领域:
一般工业技术
理学
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合作作者
王月霞
复旦大学现代物理研究所核科学与...
李之杰
复旦大学现代物理研究所核科学与...
魏启
复旦大学现代物理研究所核科学与...
潘正瑛
复旦大学现代物理研究所核科学与...
刘提将
复旦大学现代物理研究所核科学与...
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复旦大学
作者
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臧亮坤
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周亮
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朱靖
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刘提将
1篇
潘正瑛
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魏启
1篇
李之杰
1篇
王月霞
传媒
1篇
物理学报
年份
2篇
2005
共
2
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离子束辅助沉积对类金刚石膜结构影响的计算机模拟
被引量:9
2005年
采用分子动力学 (MD)模拟研究了离子束辅助沉积 (1BAD)生长类金刚石 (DLC)膜的物理过程 .分别选C2 分子和Ar离子作为沉积源和辅助沉积粒子 .改变Ar的入射能量和到达比 (Ar/C) ,研究了它对DLC膜结构的影响 .重点讨论了Ar辅助沉积引起表面原子的瞬间活性变化对薄膜结构产生的影响 .分析表明 ,由于Ar离子的轰击引起的能量和动量的传递 ,大大地增强了C原子在表面的反冲动能及迁移概率 ,增加了合成薄膜的SP3键含量 .研究结果和实验观察一致 ,并从合成机理上给出了一些定量解释 .
李之杰
潘正瑛
朱靖
魏启
王月霞
臧亮坤
周亮
刘提将
关键词:
类金刚石薄膜
离子束辅助沉积
分子动力学
计算机模拟
Cu团簇在金属表面沉积的可控制研究:惰性气体缓冲层的作用
纳米团簇外延生长已应用于合成具有特殊的光、电、磁以及力学性质的纳米薄膜。近年来,实现可控制生长,使合成的薄膜具有团簇的特定结构,成为人们关注的焦点。应用Ar缓冲层实现辅助沉积已成为团簇结构无碎裂沉积的最有前途的方法之一。...
臧亮坤
关键词:
金属团簇
分子动力学模拟
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