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冯殊瑞

作品数：2 被引量：13H指数：2
供职机构：国防科学技术大学机电工程与自动化学院更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：机械工程航空宇航科学技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇机械工程
  • 1篇航空宇航科学...

主题

  • 2篇晶体
  • 2篇KDP晶体
  • 1篇铁粉
  • 1篇抛光
  • 1篇离子束
  • 1篇离子束加工
  • 1篇晶体表面
  • 1篇KDP
  • 1篇磁流变
  • 1篇磁流变抛光
  • 1篇粗糙度

机构

  • 2篇国防科学技术...

作者

  • 2篇冯殊瑞
  • 2篇周林
  • 2篇解旭辉
  • 2篇袁征
  • 1篇关朝亮
  • 1篇戴一帆

传媒

  • 1篇人工晶体学报
  • 1篇航空精密制造...

年份

  • 1篇2013
  • 1篇2012
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
基于离子束抛光的KDP晶体表面嵌入铁粉清洗研究被引量：8
2013年
磁流变抛光技术是实现KDP晶体超精密加工的新方法,但磁流变液中的铁粉容易嵌入质软的KDP晶体表面。本文提出了利用基于低能离子溅射原理的离子束抛光技术去除KDP表面嵌入的铁粉。利用红外拉曼光谱和白光干涉仪分别分析了低能离子束抛光前后KDP晶体表面物质结构变化和表面粗糙度的变化;结果显示,低能离子束溅射不改变KDP晶体表面的组成结构,并改善了KDP晶体表面质量,因此离子束抛光可用于KDP晶体的加工;利用飞行时间二次离子质谱分析技术分别对单点金刚石车削、磁流变抛光和低能离子束抛光后的KDP晶体表面进行元素分析,结果显示低能离子束抛光可有效去除磁流变抛光在KDP晶体表面嵌入的铁粉。
袁征戴一帆解旭辉周林关朝亮冯殊瑞
关键词：KDP晶体磁流变抛光
离子束加工KDP晶体材料表面粗糙度演变被引量：6
2012年
针对KDP晶体材料在离子束加工时晶体表面粗糙度变化情况进行了研究,研究了束电压和束电流的大小对KDP晶体表面粗糙度的影响,采用PSD功率谱分析方法探究了KDP晶体在离子束加工前后表面粗糙度频域分布及其演变情况,研究结果表明KDP晶体表面粗糙度的变化不仅与加工工艺参数有关还与材料本身性质有关,在采用较大入射角时可以使晶体表面的高频段误差得到改善。
冯殊瑞解旭辉周林袁征
关键词：KDP晶体离子束粗糙度
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