吕反修
- 作品数：309 被引量：805H指数：13
- 供职机构：北京科技大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划国家教育部博士点基金更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术金属学及工艺化学工程更多>>
- 等离子体化学气相沉积法金刚石涂层的温度测量装置
- 一种等离子体化学气相沉积法金刚石涂层的温度测量装置，属于金刚石涂层技术领域。包括：阴极部分、真空室、真空泵系统、压力测控装置、电源、阴极杆、阴极体、阳极、直流电弧弧柱、制品架、磁场线圈。在拉长的直流电弧弧柱(9)的周围装...
- 唐伟忠孟宪明黑立富李成明陈广超宋建华吕反修佟玉梅
- 文献传递
- 强电流直流电弧等离子体化学气相沉积装置
- 本实用新型提供了一种强电流直流电弧等离子体化学气相沉积装置，由阴极部分、阳极、真空室、真空泵系统、压力测控装置、直流电弧弧柱、制品架、电源、磁场线圈组成；阴极部分(1)和阳极(8)处于圆桶状真空室(2)轴线的两端；一对磁...
- 唐伟忠李成明吕反修陈广超佟玉梅宋建华刘素田
- 文献传递
- 磁控溅射类金刚石碳膜的显微硬度被引量：1
- 1991年
- 采用显微硬度测试方法,研究在单晶硅衬底上沉积厚度仅为0.09-0.56μm的磁控溅射类金刚石碳膜的力学性能。结果表明,溅射碳膜的硬度随溅射工艺参数呈规律性变化,且可以和碳膜的类金刚石性质以及碳膜结构的SP^3和SP^2成分的变化相联系。采用Johnson复合硬度模型进行的分析表明,溅射碳膜的真实硬度在HV6000-6600之间,比天然金刚石的硬度略低。溅射类金刚石碳膜具有明显的压痕尺寸效应(ISE),其指数约为m=1.9。
- 吕反修杨金旗杨保雄叶锐曾
- 关键词：显微硬度类金刚石碳膜溅射
- 大面积金刚石自支撑膜机械抛光的优化工艺研究被引量：1
- 2007年
- 研究了一种用于抛光等离子体溅射CVD法制备的金刚石自支撑膜的高效安全的抛光工艺。试验探索了转盘转速、金刚石粉颗粒尺寸、磨盘表面形状对金刚石自支撑膜磨抛速率的影响。研究表明:带槽盘对金刚石自支撑膜的粗研磨效果明显,速率较高,平面盘对提高金刚石自支撑膜的表面粗糙度有利;不同颗粒的金刚石粉对应着各自合适的能充分利用其磨削能力的转速,在这个转速下,金刚石自支撑膜的磨抛速率在12μm/h左右。本文通过对新的工艺参数的探索,为金刚石自支撑膜后续加工提供有力的技术支持。
- 郭世斌曲杨吕反修唐伟忠佟玉梅宋建华
- 关键词：机械抛光
- 新型MPCVD装置在高功率密度下高速沉积金刚石膜被引量：9
- 2011年
- 使用自行研制的新型MPCVD装置,以H2-CH4为气源,在输入功率为5kW,沉积压力分别为13.33、26.66kPa和不同的甲烷浓度下制备了金刚石膜。利用等离子体发射光谱法对等离子体中的H原子和含碳的活性基团浓度进行了分析。用扫描电镜、激光拉曼谱对金刚石膜的表面和断口形貌、金刚石膜的品质等进行了表征。实验结果表明,使用新型MPCVD装置能够在较高的功率密度下进行金刚石膜的沉积;提高功率密度能使等离子体中H原子和含碳活性基团的浓度明显增加,这将提高金刚石膜的沉积速度,并保证金刚石膜具有较高的质量。
- 于盛旺李晓静张思凯范朋伟黑鸿君唐伟忠吕反修
- 关键词：金刚石膜功率密度生长速率
- 金刚石膜红外光学窗口的化学气相沉积技术
- 在众多的红外光学窗口材料中,金刚石拥有众多优异性能的组合,因而受到了人们的广泛关注。自上世纪80年代化学气相沉积方法制备金刚石膜的技术开始取得进展以后,以金刚石膜制作红外光学窗口的设想就被提了出来,并在国际范围内广泛开展...
- 唐伟忠于盛旺李成明陈广超吕反修
- 关键词：金刚石膜化学气相沉积
- 文献传递
- 红外光学材料硫化锌衬底上沉积金刚石膜的研究被引量：3
- 2005年
- 采用微波等离子体化学气相沉积法,在预镀陶瓷过渡层的硫化锌衬底上沉积金刚石膜。在以前的实验中,我们发现在陶瓷过渡层上沉积金刚石膜极其困难,但采用金刚石诱导形核方法后,我们已经在过渡层/硫化锌试样表面获得了很小面积(约1mm宽的环状区域)的金刚石形核。本文对前期的诱导形核工作进行了一定改进,目前已经使形核生长范围大大增加,沉积面积超过原来10倍。此外,本文对金刚石/过渡层/硫化锌试样的红外透过特性以及金刚石膜质量等进行了评价。
- 高旭辉吕反修魏俊俊李成明陈广超余怀之
- 关键词：金刚石膜
- 静电辅助气溶胶化学气相沉积法制备Al_2O_3薄膜
- 2009年
- 以乙酰丙酮铝为前驱体,N,N-二甲基甲酰胺为溶剂,采用静电辅助的气溶胶化学气相沉积(ESAVD)方法,在Si(100)衬底上制备了Al2O3薄膜,并采用场发射扫描电镜、能谱仪、X射线衍射仪和自动划痕仪等设备对制备的薄膜进行了表征。结果表明:采用ESAVD法制备的Al2O3薄膜平整致密而且晶粒细小,薄膜与基体之间及薄膜内部都未出现开裂现象;薄膜与基体的结合力约为5.56 N;沉积得到的薄膜为化学计量比为2∶3的氧化物薄膜;退火前的薄膜为非晶态,在1 200℃退火保温2 h后薄膜转变为-αAl2O3。
- 王耀华贺琦李成明吕反修
- 关键词：氧化铝
- 磁控溅射类金刚石薄膜结构的XPS研究
- 吕反修黄原定张建伟
- 关键词：溅射金刚石化学分析电子谱法磁控溅射
- 高频大功率金刚石薄膜场效应管的研究进展被引量：2
- 2010年
- 随着CVD人工合成金刚石薄膜质量的不断提高,其优异的电学性能在高频、大功率领域特别是场效应管中的应用受到了极大地关注.制作金刚石薄膜场效应管,电子级质量的薄膜、形成良好的接触以及半导体的形成是其关键技术.以此为基础,为达到其在高频大功率下使用的目的,减小栅长和各种寄生参数以及提高耐压和散热能力成为决定其性能优劣的关键因素.本文针对金刚石薄膜场效应管制作的关键技术的突破、H端基表面导电机制、目前高频大功率场效应管的水平以及出现的一些相关在研热点进行了综述,展望了其巨大的优越性和广阔的应用前景.
- 刘金龙李成明陈良贤黑立富吕反修
- 关键词：金刚石薄膜高频大功率场效应管
