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张涛峰

作品数：15 被引量：1H指数：1
供职机构：天津理工大学更多>>
相关领域：电子电信金属学及工艺一般工业技术化学工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 13篇专利
  • 1篇学位论文
  • 1篇科技成果

领域

  • 2篇金属学及工艺
  • 2篇电子电信
  • 1篇化学工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 8篇抛光
  • 6篇抛光液
  • 5篇抛光速率
  • 5篇平坦化
  • 4篇电路
  • 4篇电路工艺
  • 4篇磨料
  • 4篇金刚石薄膜
  • 4篇化学机械平坦...
  • 4篇集成电路
  • 4篇集成电路工艺
  • 3篇热化学
  • 3篇纳米
  • 3篇金刚石
  • 3篇划痕
  • 3篇机械抛光
  • 3篇刚石
  • 2篇导热
  • 2篇导热率
  • 2篇氧化锌

机构

  • 15篇天津理工大学

作者

  • 15篇张涛峰
  • 14篇王芳
  • 14篇张楷亮
  • 5篇曲长庆
  • 5篇王莎莎
  • 4篇任君
  • 2篇孙大智
  • 2篇额日特
  • 2篇赵金石
  • 2篇苗银萍
  • 2篇尹立国
  • 1篇刘宇航
  • 1篇胡智翔
  • 1篇王兰兰
  • 1篇蔡文波
  • 1篇袁育杰
  • 1篇吴晓国
  • 1篇许旺
  • 1篇张扬
  • 1篇朱宇清

年份

  • 2篇2014
  • 3篇2013
  • 5篇2012
  • 5篇2011
共 15 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
超高声速材料金刚石纳米膜制备及平坦化技术研究
张楷亮苗银萍王芳袁育杰曲长庆吴晓国王莎莎张涛峰许旺
近年来，随着无线通讯技术的高速发展，使得无线通信频带成为一个有限而宝贵的自然资源。人们对高数据传输速率的要求使得声表面波(SAW)器件的使用频率不断提高。该发展趋势迫使广大研究学者不断探索高质量超高声速材料制备技术和微细...
关键词：
一种用于氧化锌化学机械平坦化的酸性纳米抛光液及应用
一种用于氧化锌化学机械平坦化的酸性纳米抛光液，由纳米研磨料、pH调节剂、表面活性剂、消泡剂、杀菌剂、助清洗剂和溶剂组成，纳米研磨料为氧化钛、氧化铈或二氧化硅，pH调节剂包括无机酸为HNO<Sub>3</Sub>和有机酸醋...
张楷亮张涛峰王芳蔡文波
文献传递
一种基于金刚石薄膜的LED散热基底及其制作方法
一种基于金刚石薄膜的散热基底，包括硅衬底、金刚石薄膜和过渡层，在硅衬底上制备金刚石薄膜具有硅上金刚石(DOS)结构，所述金刚石薄膜表面粗糙度在去除封端顶层和进行表面平坦化处理后为纳米量级并进行表面改性；过渡层为Ti薄膜，...
张楷亮张涛峰王芳曲长庆王莎莎
文献传递
一种用于硫系相变材料的化学机械抛光方法
一种用于硫系相变材料的化学机械抛光方法，步骤为：1）先对硫系相变材料粗抛，以快速去除镶嵌结构中通孔之外大量多余的硫系化合物；2）然后对粗抛后的硫系相变材料继续进行超精细抛光，以将剩余的通孔之外的硫系化合物去除并露出最终的...
张楷亮张涛峰王芳赵金石曲长庆
文献传递
一种磨料经过表面活性剂处理的水基切削液及其制备方法
一种磨料经过表面活性剂处理的切削液及其制备方法，配制分两步完成：1）将磨料经过表面活性剂处理，形成高分散、高稳定的磨料悬浮液，然后利用高压高剪切微流喷射机将磨料悬浮液进行处理，将少数由于絮凝作用产生的大粒径磨料粉碎，保证...
张楷亮张涛峰王芳额日特
文献传递
一种基于金刚石薄膜的LED散热基底及其制作方法
一种基于金刚石薄膜的散热基底，包括硅衬底、金刚石薄膜和过渡层，在硅衬底上制备金刚石薄膜具有硅上金刚石(DOS)结构，所述金刚石薄膜表面粗糙度在去除封端顶层和进行表面平坦化处理后为纳米量级并进行表面改性；过渡层为Ti薄膜，...
张楷亮张涛峰王芳曲长庆王莎莎
一种用于氧化钛薄膜化学机械平坦化的纳米抛光液及应用
一种用于氧化钛薄膜化学机械平坦化的纳米抛光液，由纳米研磨料、pH调节剂、表面活性剂、消泡剂、杀菌剂、助清洗剂和溶剂混合组成，其中纳米研磨料为氧化铈或二氧化硅，pH调节剂由无机pH调节剂和有机pH调节剂组成复合pH调节剂，...
张楷亮张涛峰王芳任君尹立国王兰兰朱宇清
文献传递
一种蓝宝石衬底材料的热化学机械抛光法及抛光液
一种蓝宝石衬底材料的热化学机械抛光法，在抛光过程中加热抛光盘，抛光盘的温度为30℃-100℃；该抛光法采用的抛光液，由复合磨料、pH复合调节剂、表面活性剂、分散剂和去离子水组成，其中复合磨料由硬质磨料和软质磨料两种磨料粒...
张楷亮张涛峰王芳任君苗银萍
文献传递
一种高致密纳米金刚石薄膜的生长方法
一种高致密纳米金刚石薄膜的生长方法，采用多步生长法来沉积纳米金刚石薄膜，具体步骤如下：1）将硅衬底用磨料进行研磨处理；2)在上述研磨处理后的硅衬底上沉积金刚石；3）对上述已沉积的金刚石薄膜表面用磨料进行研磨处理；4）在上...
张楷亮任君王芳张涛峰王莎莎孙大智
ZnO光电功能薄膜材料的CMP研究
Ⅱ-VI族半导体材料ZnO以其优异的性能在深紫外光电子、蓝光发光器件、激光器件、压电转换器和传感器等领域获得广泛应用,但常用的生长方法沉积的ZnO薄膜表面粗糙,某种程度上影响了上述器件的性能及进一步应用。如何通过IC兼容...
张涛峰
关键词：氧化锌薄膜表面粗糙度抛光速率
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共2页<12>
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