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朱沛林

作品数:3 被引量:6H指数:1
供职机构:中国科学院上海冶金研究所上海微系统与信息技术研究所更多>>
相关领域:理学电子电信一般工业技术电气工程更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 2篇理学
  • 1篇电子电信
  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 3篇电化学
  • 3篇电极
  • 3篇金刚石薄膜
  • 3篇掺杂
  • 2篇
  • 1篇电化学特性
  • 1篇电化学特性研...
  • 1篇硼掺杂

机构

  • 3篇中国科学院上...

作者

  • 3篇朱沛林
  • 3篇张国雄
  • 2篇朱建中

传媒

  • 2篇化学传感器
  • 1篇功能材料与器...

年份

  • 2篇1996
  • 1篇1995
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
硼掺杂金刚石薄膜电极电化学特性的研究被引量:5
1996年
本文用未经任何表面处理的硼掺杂金刚石薄膜为电极材料,采用循环伏安法和计时电流法检测含K3Fe(CN)6的KCl和HCl-KCl溶液的响应电流,对电极的基本特性,如响应时间,稳定性等进行了研究;同时也对溶液pH值变化与因而造成的响应电流变化进行了研究。从与玻碳电极比较的角度出发,分别在含汞的酸性KCl-HNO3和中性KCl体系中,在一定电位下预富集铅,而后用阳极扫描法检测Pb-Hg的溶出峰电流,对金刚石膜电极的分辨率,重现性,稳定性等作了进一步的探讨;并对实际水样进行了测试。大量的实验结果表明,这种低电阻率的CVD金刚石膜具有很多优越的电化学特性,有望在电化学中作为电极材料而被使用。
朱沛林朱建中杨申仲张国雄
关键词:硼掺杂金刚石薄膜电极电化学
硼掺杂金刚石薄膜电极电化学特性研究
1995年
金刚石是一种集多种优良物理和化学性能于一体的优越功能材料。近年来,低温低压法,尤其是CVD(化学蒸气沉积)法人工合成金刚石薄膜技术的重大突破,使金刚石的广泛应用成为可能。其应用范围已涉及机械、光学、声学及热学等诸多领域。CVD金刚石的掺杂技术发展更使其在电学和半导体器件等方面的应用有所扩展。
朱沛林张国雄
关键词:金刚石薄膜电极电化学掺杂
硼掺杂金刚石薄膜电极电化学特性的研究被引量:1
1996年
本论文以未经任何表面处理的硼掺杂金刚石薄膜为电极材料,应用循环伏安法和计时电流法检测KCl和HCl—KCl底液中K_3Fe(CN)_6的响应电流,对电极的基本特性,如响应时间、稳定性等进行了研究;同时也对溶液pH值变化所造成响应电流的变化进行了研究。从与玻碳电极比较的角度出发,分别在含有汞的酸性KCl—HNO_3和中性KCl体系中,在一定电位下预富集铅,而后用阳极扫描法检测Ph—Hg的溶出峰电流,对金刚石膜电极的分辨率、重现性、稳定性等作进一步的探讨;并对实际水样进行了测试。大量实验结果表明,这种低电阻率的CVD金刚石膜具有很多优越的电化学特性,有望在电化学研究中用作电极材料。
朱沛林朱建中杨申仲张国雄
关键词:掺杂金刚石薄膜电极电化学
共1页<1>
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