杨廷毅
- 作品数：29 被引量：56H指数：4
- 供职机构：山东理工大学机械工程学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金山东省自然科学基金教育部留学回国人员科研启动基金更多>>
- 相关领域：机械工程金属学及工艺自动化与计算机技术理学更多>>
- 粗糙度模式对硬盘气膜承载特性的影响被引量：4
- 2012年
- 当前硬盘中磁头磁盘之间气膜的厚度已经接近或低于分子平均自由程,在这种情况下表面粗糙度及气体稀薄效应的影响不容忽视。应用最小二乘有限差分法,求解考虑气体稀薄效应并引入压力流因子和剪切流因子的量纲一雷诺方程,研究了不同粗糙度模式下硬盘超低飞高(1nm 2nm)气膜的承载特性。数值结果表明:粗糙度模式对超低飞高气膜压力分布及承载力的影响较大,而对压力中心的影响较小;在各种粗糙度模式情形下,磁头取横向粗糙度模式时,可使气膜压力分布升高,并提高气膜的承载力。
- 史宝军季家东杨廷毅
- 关键词：机械设计及理论期刊论文气膜雷诺方程表面粗糙度
- 摄动法研究硬盘磁头滑块动态飞行特性被引量：1
- 2018年
- 硬盘工作时,磁头滑块飞行在磁盘上方,其动态飞行特性对硬盘工作性能有重要影响。该文利用摄动法推导了磁头滑块的气膜刚度和阻尼摄动方程,且通过有限体积法进行求解,获得了初始摄动条件下的气膜刚度和阻尼矩阵。结合磁头滑块动力学方程,研究了扰动速度、扰动俯仰角和扰动侧倾角对磁头滑块动态飞行特性的影响。研究结果表明:(1)扰动速度会导致磁头滑块向磁盘表面作竖直方向的移动,增加了与磁盘接触碰撞的风险;(2)扰动俯仰角或侧倾角的增加都会导致磁头滑块振动幅度的增加,但扰动俯仰角更容易引起磁头滑块的振动。
- 杨廷毅白雪
- 关键词：磁头滑块硬盘摄动法飞行特性
- 表面粗糙度对硬盘超低飞高气膜静态特性的影响被引量：9
- 2011年
- 硬盘(Hard disk drives,HDDs)是当前信息存储的主要器件,它的尺寸越来越小、容量越来越大,磁头的飞行高度越来越低。基于考虑气体稀薄效应修正Reynolds方程的线性流比(Linearized flow rate,LFR)模型,采用一种无网格法——最小二乘有限差分(Least square finite difference,LSFD)法,求解引入压力流因子和剪切流因子的量纲一雷诺方程,并且研究表面粗糙度对硬盘超低飞高(1～2 nm)气膜静态特性的影响。数值结果表明,表面粗糙度对超低飞高气膜压力分布和承载力的影响较大,而对压力中心的影响较小;飞行高度越低和/或表面粗糙度值越大,对压力分布及承载力的影响越明显;在粗糙度值相同的条件下,仅磁头粗糙且取横向粗糙度时,系统压力分布最高,气膜承载力最大;各种情况下,表面粗糙度对压力中心的变化影响不大,说明磁头飞行比较平稳,系统稳定性较好;另外,基于LFR模型研究表面粗糙度对硬盘气膜静态特性的影响,不仅数值结果精度高,并且具有很高的计算效率。
- 史宝军季家东杨廷毅
- 关键词：硬盘存储器雷诺方程表面粗糙度无网格法
- 头/盘界面均匀化Reynolds方程及其高效数值求解被引量：1
- 2017年
- 当硬盘工作时,磁头滑块飞行在高速旋转的磁盘上方,头/盘界面产生了一层只有几个纳米的气膜,该气膜润滑方程为考虑气体稀薄效应的修正Reynolds方程。为了提高磁记录密度,人们正在考虑用离散磁道(Discrete Track Recording,DTR)磁盘取代传统的光滑磁盘。由于这种DTR磁盘表面磁道和沟槽的影响,在数值求解修正Reynolds方程的过程中,就需要足够多的离散网格来分辨出DTR磁盘表面几何形状,从而带来了计算效率问题。基于均匀化理论和修正Reynolds方程的线性流率(Linearized Flow Rate,LFR)模型,该文推导了一个适合分析DTR磁盘气体润滑特性的均匀化Reynolds方程,并采用有限体积法对均匀化Reynolds方程进行了求解和验证。其结果显示:相对于修正Reynolds方程,求解均匀化Reynolds方程只需要很少的离散网格,从而节省了大量的计算时间,大幅提高了计算效率,且两者压力分布、压力中心和承载力的最大相对误差都小于3.5%。
- 白雪史宝军贺磊杨廷毅
- 关键词：有限体积法
- 磁头//磁盘界面修正Reynolds方程的新模型及其数值模拟分析
- 近几年,硬盘的数据存储密度越来越大,其主要原因之一就是因为磁头和磁盘之间的间隙/(飞行高度/)大幅度减小以及复杂滑块设计技术的进步。当磁头与磁盘之间的间隙接近或小于分子平均自由程时,气体的动力学性能就不能直接用连续润滑理...
- 杨廷毅
- 关键词：硬盘数值模拟
- 文献传递
- 硬盘中模拟超薄气膜雷诺方程的简化二阶新模型
- 本发明为硬盘中模拟超薄气膜雷诺方程的简化二阶新模型。基于目前广泛应用的FK模型，通过数学方法，推出了一种模拟硬盘中具有超低飞高气膜浮动块修正雷诺方程的简化二阶新模型，这种雷诺方程的新模型具有比FK模型简单的数学表达式。在...
- 史宝军季家东杨廷毅
- 文献传递
- 润滑层对浮动块与磁盘间分子作用力的影响被引量：1
- 2010年
- 当硬盘驱动器的磁头飞行高度处于几纳米的范围内,需要考虑浮动块与磁盘间介质对分子间作用力的影响。采用修正的Hamaker常数,推导出适合于浮动块与磁盘界面的分子作用力计算公式;然后,以双轨浮动块和ASS浮动块为例,采用数值积分方法,研究了润滑层对分子作用力与最小飞行高度之间关系。数据结果显示,当润滑层厚度小于1nm时,润滑层能明显地减小分子作用力;当润滑层厚度大于2nm时,继续增加润滑层厚度,分子作用力减小幅度降低。通过研究润滑层对分子作用力与俯仰角之间关系,可以发现润滑层对其影响较小。最后,采用有限体积法计算楔形浮动块的气膜压力分布,研究了楔形浮动块考虑润滑层的分子间作用力与气膜力耦合后的总承载力与最小飞行高度的关系。结果表明:润滑层在浮动块最小飞行高度小于2nm时对总承载力的影响较大;浮动块在没有润滑层的磁盘上以超低飞行高度飞行时更容易与磁盘发生碰撞。
- 李芳芬杨廷毅于慧孟令欢
- 关键词：分子间作用力硬盘驱动器
- 磁头/磁盘系统冲击响应数值分析及实验研究
- 硬盘(Hard Disk Drive，HDD)是一种重要的数据存储设备，主要由磁盘、磁头、滑块、悬臂、转轴、主轴电机等组成。其中，磁头附着在滑块尾部，当硬盘工作时，磁头滑块在悬臂和转轴的作用下飞行在高速旋转的磁盘上方，实...
- 杨廷毅
- 关键词：冲击响应
- 三相流体介质电火花加工材料去除率研究
- 电火花加工工作介质影响电火花加工效率、加工表面质量和形状精度。介绍了三相流体介质中电火花加工的原理。借助正交实验设计方法开展实验研究。研究了峰值电流、脉冲宽度、脉冲间隔、流量和浓度对三相流体介质中电火花加工的材料去除率的...
- 白雪杨廷毅
- 关键词：电火花加工材料去除率
- 文献传递
- 化学机械抛光技术研究现状与展望被引量：16
- 2009年
- 化学机械抛光技术几乎是迄今唯一可以提供全局平面化的表面精加工技术,可广泛用于集成电路芯片、计算机硬磁盘、微型机械系统(MEMS)、光学玻璃等表面的平整化。本文综述了CMP的技术原理和CMP设备及消耗品的研究现状,指出了CMP急待解决的技术和理论问题,并对其发展方向进行了展望。
- 张健史宝军杜运东杨廷毅
- 关键词：化学机械抛光
