严谨
- 作品数：2 被引量：5H指数：2
- 供职机构：清华大学理学院化学系更多>>
- 发文基金：表面物理与化学国家重点实验室开放基金国家创新方法工作专项更多>>
- 相关领域：理学更多>>
- 真空环境中多场耦合对Au/Cu/Si薄膜界面结构的影响被引量：2
- 2013年
- 采用磁控溅射方法在Si基底上制备了Au/Cu薄膜。利用扫描俄歇微探针(SAM)纳米化分析技术进行表面成分分析与深度剖析,研究在真空环境中,紫外辐照、微氧氧含量及处理温度等因素作用对Au/Cu薄膜界面结构的影响。实验结果表明:环境温度的升高,使薄膜内缺陷增加,为Cu原子的扩散提供了更多的扩散通道;紫外辐照产生了等同的热效应,加剧了Cu原子在Au层中的扩散;微氧的存在诱导了Cu原子的扩散。三种因素协同作用下,诱导迁移扩散机制在室温下形成,并于处理温度达到100℃后趋于稳定。
- 严楷曹江利姚文清严谨李展平朱永法
- 关键词：紫外辐照微氧
- Zr/Nb薄膜材料的制备及界面结构研究被引量：3
- 2011年
- 通过直流磁控溅射法在单晶Si(100)基底上制备了Zr/Nb/Si薄膜材料。X射线衍射(XRD)研究表明Zr薄膜以多晶形式存在,而Nb薄膜则形成了(110)晶面择优生长。薄膜中Zr和Nb晶粒大小分别为14,6 nm。扫描电镜研究表明形成的薄膜表面平整光滑,没有微裂纹存在。扫描俄歇电子能谱及X射线光电子能谱的研究表明,Zr/Nb/Si薄膜样品具有清晰的界面结构。在薄膜表面形成了致密的氧化层物种,而在膜层内部少量氧则以吸附态形式存在。
- 姚文清张立武牟豪杰张川严谨朱永法杨江荣刘柯钊鲜晓斌
- 关键词：磁控溅射法扫描电镜X射线衍射俄歇电子能谱X射线光电子能谱
