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刘世元
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296
被引量:259
H指数:9
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华中科技大学
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国家自然科学基金
教育部“新世纪优秀人才支持计划”
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陈修国
华中科技大学机械科学与工程学院...
张传维
武汉颐光科技有限公司
谷洪刚
华中科技大学
江浩
华中科技大学机械科学与工程学院...
史铁林
武汉光电国家实验室筹
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2006
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2005
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一种基于二维硒化亚锡的可调波长偏振器及其设计方法
本发明提供了一种基于二维硒化亚锡的可调波长偏振器及其设计方法,属于新型偏振光学器件领域,偏振器包括带有二氧化硅的硅基底和二维SnSe层;二维SnSe层用于当入射光以不同角度斜射至其表面时,将p光反射率最小值对应的不同波长...
谷洪刚
郭正峰
刘世元
一种OLED器件多个目标的协同优化方法
本发明属于OLED器件相关技术领域,其公开了一种OLED器件多个目标协同优化方法,该方法首先分别获取多个目标与OLED器件膜层的厚度矩阵的关系式;然后分别获取多个关系式与其对应的预设目标期望值的偏差,并建立多个偏差的联合...
谷洪刚
刘世元
陈林雅
柯贤华
赵雪楠
江浩
文献传递
层析穆勒矩阵散射仪研制及纳米结构测量应用
<正>椭偏测量术是一种利用光的偏振特性获取样品的光学测量方法,伴随着其应用领域的延伸,仅能收集平面反射光或零级衍射光的传统椭偏测量设备无法满足更广泛的应用测量需求。为此,本文以传统光谱椭偏仪为基础,结合层析成像技术,提出...
陈超
陈修国
刘世元
文献传递
一种套刻标记形貌和测量条件优化方法
本发明公开了一种套刻标记形貌和测量条件优化方法,属于光刻领域。首先,根据光刻工艺确定套刻标记形貌结构和材料光学常数。其次,通过解析或数值的建模方法可计算套刻光学表征曲线。然后,根据泰勒公式得到套刻测量重复性精度和准确度的...
石雅婷
李旷逸
陈修国
刘世元
文献传递
一种高压光谱椭偏测量装置及测量方法
本发明属于光学测量相关技术领域,并公开了一种高压光谱椭偏测量装置及测量方法。该装置包括入射起偏光路、反射检偏光路和装夹单元,入射起偏光路中设置有第一微透镜,用于将直径为毫米级的平行光束汇聚成直径为微米级的光斑并照射在待测...
江浩
刘佳敏
王勐
刘世元
王一帆
谷洪刚
文献传递
基于主分量分析的信号白化解相关处理
被引量:8
2005年
介绍了主分量分析及其计算方法,论证了采用主分量分析方法对混合信号进行白化解相关处理的理论基础,对基于主分量分析方法的解相关处理进行了仿真。结果表明,对信号进行解相关处理可以大幅度降低信号之间的互相关程度。
王峻峰
史铁林
刘世元
何岭松
关键词:
解相关
白化
主分量
盲源分离
一种成像椭偏仪测量系统及系统参数校准方法
本发明公开了一种成像椭偏仪测量系统及系统参数校准方法,属于光学仪器测量领域,包括:样品台,用于放置样品;入射光生成模块,用于生成工作波长范围内的平行的入射光;起偏模块,用于调制入射光的偏振态;第一会聚透镜,用于将偏振入射...
陈修国
钟海硕
张传维
刘世元
一种小角X射线散射仪器准直系统结构参数的优化方法
本发明属于精密光学测量仪器相关技术领域,并公开了一种小角X射线散射仪器准直系统结构参数的优化方法。该方法包括:S1构建散射仪器准直系统的仿真模型并设定该仿真模型的初始结构参数;S2设定光源的位置,以该光源为原点构建几何坐...
陈修国
刘章勇
许志冕
刘世元
一种用于X射线关键尺寸测量的纳米结构散射场计算方法
本发明属于X射线关键尺寸测量方法领域,具体涉及一种用于X射线关键尺寸测量的纳米结构散射场计算方法,包括:将位于XOZ坐标系中的曲线与XOZ坐标系的X坐标轴所围成的区域,描述为纳米结构周期单元的截面轮廓,X坐标轴代表纳米结...
陈修国
张家豪
杨天娟
马健源
刘世元
一种材料介电张量测量方法
本发明属于材料基础物理特性研究领域,并具体公开了一种材料介电张量测量方法,其首先由预设待测材料介电张量初始值ε(E)确定偏转换矩阵T<Sub>p</Sub>和透射矩阵T<Sub>t</Sub>,进而由偏转换矩阵T<Sub...
谷洪刚
宋宝坤
刘世元
郭正峰
方明胜
江浩
陈修国
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