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周江

作品数:3 被引量:4H指数:1
供职机构:南京大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划国家教育部博士点基金更多>>
相关领域:电子电信理学更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 3篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 2篇纳米硅
  • 2篇场发射
  • 1篇电子发射
  • 1篇小球
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米阵列
  • 1篇刻蚀
  • 1篇刻蚀技术
  • 1篇激光
  • 1篇激光晶化
  • 1篇胶体
  • 1篇非晶
  • 1篇非晶碳
  • 1篇场电子发射

机构

  • 3篇南京大学
  • 1篇东京工业大学

作者

  • 3篇徐骏
  • 3篇周江
  • 3篇李伟
  • 2篇马忠元
  • 2篇徐岭
  • 2篇陈坤基
  • 1篇万建国
  • 1篇小田俊理
  • 1篇李卫
  • 1篇方忠慧
  • 1篇韦德远
  • 1篇黄信凡
  • 1篇宋凤麒
  • 1篇姚尧
  • 1篇张贤高
  • 1篇宫本恭幸

传媒

  • 2篇物理学报
  • 1篇发光学报

年份

  • 3篇2008
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
利用胶体小球掩蔽刻蚀技术制备的半导体纳米阵列的场电子发射特性
2008年
利用胶体小球掩蔽刻蚀技术,制备了单晶硅纳米阵列,利用原子力显微镜观察了硅阵列的表面形貌,实验结果表明,硅柱阵列具有高密度和较好的均匀性。同时研究了单晶硅纳米阵列的场电子发射特性。为了提高样品的场发射性能,在所制备的单晶硅有序纳米阵列上生长了一层非晶碳薄膜。与单晶纳米硅柱阵列相比,覆盖有非晶碳膜的样品的场电子发射特性有了明显的改善,表现在场发射的开启电场下降,同时场发射增强因子得到增加。结果表明非晶碳膜确实能够降低电子发射的表面有效势垒,从而增强了场电子发射特性。
周江李卫张贤高徐骏徐岭李伟陈坤基
关键词:场发射非晶碳
激光晶化形成纳米硅材料的场电子发射性质研究被引量:4
2008年
利用KrF准分子激光退火超薄非晶硅膜,并结合热退火技术制备了单层纳米硅薄膜并研究了薄膜的场电子发射性质.在晶化形成的纳米硅薄膜中可以观测到稳定的场电子发射现象,其开启电场从原始淀积的非晶硅薄膜的17V/μm降低到8·5V/μm,而场发射电流密度可以达到0·1mA/cm2.激光晶化后形成的纳米硅材料的场电子发射特性的改善可以从薄膜表面形貌的改变以及高密度纳米硅的形成所导致的内部电场增强作用来解释.
周江韦德远徐骏李伟宋凤麒万建国徐岭马忠元
关键词:纳米硅场发射激光晶化
激光干涉结晶法制备一维周期结构的纳米硅阵列
2008年
利用激光干涉结晶方法,采用周期为400nm的一维(1D)移相光栅掩模调制KrF准分子激光器的脉冲激光束斑的能量分布,在不同厚度的超薄氢化非晶硅(a-Si:H)膜内直接制备1D有序纳米硅(nc-Si)阵列.拉曼散射谱表明,样品上呈条状分布的受辐照区域发生晶化.原子力显微镜和透射电子显微镜测试结果表明:1D的nc-Si阵列的周期和移相光栅掩模一样.随着a-Si:H膜厚度从10nm降至4nm,通过控制激光的能量密度,每个周期中nc-Si条状分布区宽度可达到30nm.nc-Si条状分布区的高分辨电子显微镜照片显示出清晰的nc-Si晶格像.
姚尧方忠慧周江李伟马忠元徐骏黄信凡陈坤基宫本恭幸小田俊理
关键词:纳米硅
共1页<1>
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