您的位置: 专家智库 > >

王正铎

作品数:68 被引量:70H指数:5
供职机构:北京印刷学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金北京市自然科学基金北京市教育委员会科技发展计划面上项目更多>>
相关领域:理学一般工业技术金属学及工艺电子电信更多>>

文献类型

  • 31篇会议论文
  • 21篇期刊文章
  • 15篇专利
  • 1篇学位论文

领域

  • 21篇理学
  • 15篇一般工业技术
  • 14篇金属学及工艺
  • 5篇电子电信
  • 4篇化学工程
  • 4篇轻工技术与工...
  • 2篇电气工程
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇水利工程
  • 1篇农业科学
  • 1篇文化科学

主题

  • 22篇等离子体
  • 9篇原子层沉积
  • 9篇溅射
  • 8篇化学气相
  • 8篇化学气相沉积
  • 8篇硅薄膜
  • 7篇氧化硅
  • 7篇磁控
  • 7篇磁控溅射
  • 6篇涂层
  • 6篇气相沉积
  • 6篇耐磨层
  • 5篇镀铝膜
  • 5篇附着力
  • 4篇等离子体技术
  • 4篇等离子体应用
  • 4篇电池
  • 4篇电子束蒸发
  • 4篇离子
  • 3篇等离子体辅助

机构

  • 68篇北京印刷学院
  • 1篇北京航空航天...

作者

  • 68篇王正铎
  • 50篇陈强
  • 36篇刘忠伟
  • 30篇杨丽珍
  • 23篇桑利军
  • 12篇张海宝
  • 10篇张跃飞
  • 8篇张广秋
  • 8篇葛袁静
  • 5篇张受业
  • 5篇袁燕
  • 4篇张春梅
  • 3篇付亚波
  • 3篇桑立军
  • 2篇霍俐霞
  • 2篇张新林
  • 2篇许文才
  • 2篇郝燕萍
  • 2篇李斌
  • 2篇刘福平

传媒

  • 5篇真空科学与技...
  • 3篇真空与低温
  • 3篇第十五届全国...
  • 3篇第十四届全国...
  • 2篇包装工程
  • 2篇表面技术
  • 2篇第十六届全国...
  • 2篇第十三届全国...
  • 1篇现代化工
  • 1篇材料保护
  • 1篇强激光与粒子...
  • 1篇光谱学与光谱...
  • 1篇中国表面工程
  • 1篇真空
  • 1篇金属材料研究
  • 1篇北京印刷学院...
  • 1篇中国印刷与包...
  • 1篇第7届全国表...
  • 1篇第十届全国包...
  • 1篇全国第九届包...

年份

  • 1篇2024
  • 4篇2023
  • 2篇2022
  • 1篇2021
  • 4篇2019
  • 1篇2018
  • 2篇2017
  • 4篇2016
  • 4篇2015
  • 9篇2014
  • 5篇2013
  • 4篇2012
  • 4篇2011
  • 6篇2010
  • 5篇2009
  • 2篇2008
  • 1篇2007
  • 3篇2006
  • 3篇2005
  • 3篇2004
68 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
气相沉积技术制备氧化锰薄膜及其组分调控的研究进展
2024年
本文介绍了利用气相沉积技术,包括物理气相沉积、化学气相沉积、原子层沉积等技术制备氧化锰薄膜以及组分调控的研究现状,重点介绍了等离子体辅助化学气相沉积/原子层沉积氧化锰薄膜的研究进展,对所使用的锰前驱体做了总结,并展望了氧化锰薄膜的发展趋势。
任家轩方弘历杨斗豪刘博文王正铎刘忠伟
关键词:物理气相沉积化学气相沉积原子层沉积
等离子体技术制备高阻隔薄膜作用方式和应用现状(一)被引量:1
2023年
近年来,在食品和药品包装、可穿戴有机电子封装、有机发光二极管(OLED)和量子点封装、真空绝缘板密封、生物医学和可再生能源防护等方面,以柔性塑料为基体的阻湿、阻氧、高透明的薄膜得到了广泛的应用,促进了阻隔膜制备技术的发展。等离子体技术在阻隔膜制备中显示出独特的优势,包括:可以大规模生产制备阻隔膜、薄膜性能优异、产品成本低廉等。这些等离子体技术包括等离子体增强物理气相沉积(PEPVD)、等离子体增强/辅助化学气相沉积(PECVD/PACVD)和等离子体增强/辅助原子层沉积(PEALD/PAALD)技术等。本文综述了基于等离子体技术制备阻隔膜的方法和理论,主要介绍等离子体源、等离子体作用方式、等离子体诊断和等离子体增强沉积阻隔膜的生长机制,以阐明等离子体参数和阻隔膜制备及性能之间的内在联系,为阻隔薄膜乃至类似柔性功能材料的制备和应用提出指导性建议。
刘忠伟杨丽珍桑利军王正铎张海宝程久珊刘博文陈强
关键词:等离子体
离子辅助制备凹印耐磨层工艺研究
本文针对凹印版电镀存在的污染和高能耗,采用射频感应偶合(ICP)离子源辅助电子束沉积技术在凹印镍版表面沉积了硬铬薄膜,通过控制离子源参数和加入过渡层来提高薄膜的与基体的结合力和显微硬度.研究了不同工艺条件制备薄膜的组织结...
张跃飞王正铎付亚波陈强张广秋葛袁静
关键词:耐磨涂层凹版印刷
文献传递
用等离子体技术制备凹印版材耐磨层被引量:1
2005年
用电镀法制备凹印版材存在环境污染严重、成本高等缺点,为此研究用等离子体表面镀膜层替代电镀法制备凹印版材的新工艺。利用等离子体磁控溅射、多弧离子镀和离子束辅助沉积技术在镍基表面制备了硬质铬薄膜。研究表明,本法制备的薄膜表面致密均匀,中间有过渡层的离子束辅助沉积层表面显微硬度为800~1100HV,磁控溅射的为300~400HV,多弧离子镀的为600~800HV,多弧离子镀和离子束辅助沉积层表面显微硬度接近于电镀法(700~1100HV)。划痕试验表明,制备的薄膜与基体结合力均在5N左右,凹版电子束辅助沉积铬后表面光滑,网点线条清晰,粗细均匀,可替代电镀法凹印版材。
张跃飞张广秋王正铎葛袁静陈强
关键词:等离子体磁控溅射多弧离子镀离子束辅助沉积耐磨层
使用斯塔克展宽计算大气压射频介质阻挡放电氮气等离子体的电子密度被引量:3
2012年
大气压射频等离子体是近几年发展起来的一种新型非平衡等离子体。以氮气掺杂少量氩气为放电气体,实现了大气压射频介质阻挡放电。利用发射光谱对放电进行在线诊断研究,并分析谱线线型,从中分离出谱线的Stark线型,从而计算出放电通道的电子密度。研究了单个放电通道中电子密度的空间分布并测量了通道同一位置的电子密度随放电输入功率的变化。结果显示,在放电通道中部,当放电输入功率由138W增加至248W,电子密度由4.038×1021 m-3升高至4.75×1021 m-3。
李森刘忠伟陈强刘福平王正铎杨丽珍
关键词:电子密度大气压射频放电
网络虚拟包装工程实验室的构建
针对高校包装工程实验室面临的一些困难,提出了网络虚拟实验室的解决方案。在方案中,通过对实验室工作的模块分析,确定了网络虚拟实验室的框架结构,按照开放性、网络化的要求制作了网络平台内容,并编制了相应的实验技术资料。利用所建...
鲁建东王正铎刘晶
关键词:网络
文献传递
一种原子层沉积装置
一种原子层沉积装置属于等离子体应用技术领域,涉及一种阵列式空心阴极结构的等离子体发生装置。该装置包括配气系统(1)、真空腔室(2)、阵列式空心阴极上电极(3)、平板式接地下电极(4)、抽真空系统(5)、电源系统(6),所...
陈强杨丽珍王正铎桑利军刘忠伟张受业
文献传递
高功率脉冲磁控溅射沉积氧化镁薄膜
氧化镁是良好的功能薄膜材料,绝缘、热稳定性能好、化学性质稳定,广泛应用于等离子显示屏中的介质保护膜以及功能薄膜外延生长的介质缓冲层.目前,沉积氧化镁薄膜的方法很多[1],主要包括液相的溶胶凝胶法、物理气相沉积法(电子束蒸...
张海宝袁燕王正铎桑利军杨丽珍陈强
具有磁场增强旋转阵列电极的等离子体装置
具有磁场增强旋转阵列电极的等离子体装置属于等离子体物理基础和应用领域。其特征在于包括:真空室、放电系统、卷绕系统;其中放电系统、卷绕系统均装在真空室内;放电系统包括旋转阵列电极(2-1)、射频或高频电源(2-2)、绝缘块...
陈强杨丽珍刘忠伟王正铎桑利军
文献传递
一种提高有机玻璃基材镀铝膜附着力的新工艺研究
采用电子束蒸镀的方法,以有机玻璃为基材,在其表面蒸镀铬过渡层,再蒸镀铝。镀铝膜的附着力通过胶粘带剥离和划痕仪进行测量,实验结果表明:争未加铬过渡层的样品相比,增加铬过渡层的样品,附着力得到很大的提高,铝膜结合的非常牢固。...
桑利军王正铎张跃飞陈强
关键词:有机玻璃附着力
文献传递
共7页<1234567>
聚类工具0