您的位置: 专家智库 > >

郑理

作品数:73 被引量:2H指数:1
供职机构:中国科学院上海微系统与信息技术研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信金属学及工艺一般工业技术电气工程更多>>

文献类型

  • 66篇专利
  • 4篇期刊文章
  • 3篇会议论文

领域

  • 28篇电子电信
  • 4篇金属学及工艺
  • 2篇电气工程
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇机械工程
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇轻工技术与工...
  • 1篇医药卫生
  • 1篇文化科学
  • 1篇理学

主题

  • 14篇金属
  • 12篇电极
  • 10篇增强型
  • 8篇栅介质
  • 8篇石墨
  • 8篇石墨烯
  • 8篇介质
  • 8篇功率器件
  • 7篇外延层
  • 7篇半桥电路
  • 6篇源区
  • 6篇探测器
  • 6篇重掺杂
  • 6篇金属电极
  • 6篇半导体
  • 6篇P-GAN
  • 6篇衬底
  • 5篇单片
  • 5篇单片集成
  • 5篇钝化层

机构

  • 73篇中国科学院
  • 4篇中国科学院大...
  • 1篇上海理工大学
  • 1篇上海科技大学

作者

  • 73篇郑理
  • 70篇程新红
  • 57篇俞跃辉
  • 37篇沈玲燕
  • 25篇王谦
  • 23篇张栋梁
  • 17篇曹铎
  • 16篇王中健
  • 9篇夏超
  • 8篇徐大伟
  • 7篇李静杰
  • 5篇贾婷婷
  • 2篇俞文杰
  • 1篇王丁
  • 1篇万文艳

传媒

  • 3篇半导体技术
  • 1篇功能材料与器...

年份

  • 4篇2025
  • 20篇2024
  • 4篇2023
  • 3篇2022
  • 4篇2021
  • 8篇2020
  • 3篇2019
  • 6篇2018
  • 7篇2017
  • 4篇2016
  • 5篇2015
  • 1篇2014
  • 3篇2013
  • 1篇2012
73 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
一种基于硅基GaN功率管的单片集成半桥电路及其制备方法
本发明涉及一种基于硅基GaN功率管的单片集成半桥电路及其制备方法,在硅基GaN功率器件制备完成后通过晶圆减薄、键合、凹槽刻蚀、介质隔离而得。本发明实现高低边硅基GaN功率器件的全介质隔离,彻底解决硅基GaN功率器件半桥电...
沈玲燕程新红郑理俞跃辉
一种SJ-IGBT器件结构及其制作方法
本发明提供一种SJ-IGBT器件结构及其制作方法,包括以下步骤:提供一衬底;在该衬底上形成漂移区并在该漂移区预设源端和漏端;提供一设有若干第一窗口的第一掩膜版,所述第一窗口的宽度沿源端到漏端方向依次增大;自上述第一窗口向...
程新红夏超王中健曹铎郑理贾婷婷俞跃辉
文献传递
一种SOI RESURF超结器件结构及其制作方法
本发明提供一种SOI RESURF超结器件结构及其制作方法,首先提供一SOI衬底;在该衬底的顶层硅上形成漂移区及源、漏端;提供一设有若干第一窗口的第一掩膜版,所述第一窗口的宽度沿源端到漏端方向依次增大;该掩膜版在该漂移区...
程新红夏超王中健曹铎郑理贾婷婷俞跃辉
文献传递
一种提高UIS能力和栅氧可靠性的分裂栅MOSFET器件及其制备方法
本发明涉及一种提高UIS能力和栅氧可靠性的分裂栅MOSFET器件及其制备方法,所述分裂栅MOSFET器件包括:漏极(1)、N<Sup>+</Sup>衬底(2)、N<Sup>‑</Sup>外延层(3)、电流扩展层(4)、P...
程新红汪胜鑫郑理
基于界面钝化层的MOS电容器及其制备方法
本发明提供一种基于界面钝化层的MOS电容器及其制备方法,制备包括:提供一重掺杂的衬底,并于衬底一表面上形成轻掺杂的外延层;于外延层内形成欧姆接触区;于外延层表面形成界面钝化层,并于界面钝化层表面形成栅结构,于结构表面形成...
程新红王谦李静杰郑理沈玲燕张栋梁顾子悦钱茹俞跃辉
文献传递
一种半导体开关器件的工作结温监测系统和方法
本发明涉及一种半导体开关器件工作结温监测系统、监测方法及过温保护方法。所述监测系统包括控制单元、驱动单元、电压检测单元和模数转换单元;其中,驱动单元与半导体开关器件的栅极连接;电压检测单元的第一采集端口、第二采集端口分别...
程新红全宇华郑理
一种基于SOI-量子点异质结的红外探测器制备方法
本发明提供一种基于SOI‑量子点异质结的红外探测器制备方法,包括:1)提供SOI衬底,包括顶层硅、底层硅以及埋氧层;2)刻蚀顶层硅的边缘区域;3)在顶层硅表面两侧沉积金属接触材料,再经退火形成金属硅化物作为源区接触层和漏...
郑理程新红宁志军徐大伟沈玲燕王谦张栋梁顾子悦俞跃辉
文献传递
SiC器件栅介质层及SiC器件结构的制备方法
本发明提供一种SiC器件栅介质层及SiC器件结构的制备方法,栅介质层的制备方法包括:提供一SiC基材,并将SiC基材置于ALD反应腔室中;将ALD反应腔室升温至适于后续所要形成的栅介质层生长的温度;采用ALD工艺于SiC...
程新红王谦郑理沈玲燕张栋梁顾子悦钱茹俞跃辉
文献传递
一种定制漏感的磁集成平面变压器设计方法
本发明涉及一种定制漏感的磁集成平面变压器设计方法,包括以下步骤:S0获取目标励磁电感和目标漏感;S1计算达到目标励磁电感所需的磁芯气隙长度;S2通过有限元仿真得到未开设气隙时磁芯窗口内的最大漏感L<SUB>lk0_max...
郑理莫志立程新红周学通沈玲燕
一种硅基氮化镓微波器件及制备方法
本发明涉及一种硅基氮化镓微波器件及制备方法,包括:将衬底预处理,沉积第一层钝化层;刻蚀,形成凹槽,然后沉积源极和漏极欧姆接触金属,并退火形成欧姆接触;对器件刻蚀;在第一层钝化层及欧姆接触上进行第二层钝化层的淀积,随后对第...
程新红刘晓博郑理俞跃辉
文献传递
共8页<12345678>
聚类工具0