任思雨
- 作品数：6 被引量：26H指数：3
- 供职机构：暨南大学理工学院物理学系更多>>
- 发文基金：广东省自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学环境科学与工程化学工程电子电信更多>>
- 光纤ZnO薄膜的制备及光催化性能研究被引量：3
- 2005年
- 实验利用射频磁控溅射镀膜工艺,分别在光纤和石英玻璃上成功制备了ZnO薄膜。采用X射线衍射仪、原子力显微镜和荧光分光光度计对薄膜进行了测试分析,并对其光催化降解苯酚的性能进行了对比测试。结果表明,该薄膜具有良好的C轴取向性,光致发光峰分别位于362nm、421nm和486nm附近,且随着薄膜样品晶粒的减小而出现蓝移,光纤上ZnO薄膜的光催化能力是以石英玻璃为基底的ZnO薄膜的193倍,光催化效果显著。
- 王英连刘玉华任思雨孙汪典
- 关键词：石英玻璃镀膜工艺ZNO薄膜C轴取向蓝移射频磁控溅射
- 磁控溅射法制备TiO_2空穴缓冲层的有机发光器件被引量：5
- 2005年
- 采用磁控溅射方法在ITO表面制备了不同厚度的TiO2超薄膜用做有机发光二极管(OLEDs)的空穴缓冲层,使OLEDs(ITO/TiO2/TPD/A lq3/A l)的发光性能得到很大改善。研究TiO2缓冲层厚度对器件性能影响的结果表明,当TiO2缓冲层厚度为1 nm,电流密度为100 mA/cm2时,器件的发光效率为2 cd/A,比未加缓冲层器件的发光效率增加了近一倍。这是由于加入适当厚度的TiO2缓冲层限制了空穴的注入并且提高了空穴与电子注入之间的平衡。
- 仲飞刘彭义任思雨
- 关键词：磁控溅射有机发光二极管空穴缓冲层
- 射频磁控溅射ZnO多晶薄膜的制备及其荧光光谱被引量：5
- 2006年
- 用射频磁控溅射方法在未进行人为加热的石英玻璃衬底上,生长了良好c轴择优取向的ZnO多晶薄膜。研究了该ZnO薄膜的晶粒大小与其荧光光谱的关系,发现369 nm的本征峰和406 nm的缺陷峰随着薄膜晶粒的增大晶界应力的增加而出现红移,但469 nm的缺陷峰峰位却基本保持不变,并对各峰的形成和强度大小的变化规律作出了相应的解释。
- 孙汪典任思雨刘彭义
- 关键词：射频磁控溅射晶粒荧光光谱红移
- ZnO薄膜的制备及光催化性能研究被引量：11
- 2005年
- 采用溶胶 凝胶法在石英玻璃基底上制备出性能优良的ZnO薄膜。并通过XRD、AFM和UV VIS吸收光谱对薄膜的结构及形貌进行表征,研究了降解温度、苯酚溶液的初始浓度和空气流量对ZnO薄膜光催化性能的影响,ZnO薄膜光催化降解苯酚的最佳条件:降解温度25～45℃,空气流量40mL·min-1。起始浓度越低,降解效果越显著,同时实现了ZnO薄膜催化剂的固载,催化效果显著。同时研究了ZnO薄膜催化剂的固载。固载后的ZnO薄膜催化剂催化效果显著,且便于回收利用。
- 王英连孙汪典任思雨卢希龙
- 关键词：ZNO薄膜溶胶-凝胶光催化氧化苯酚
- 溶胶-凝胶法与射频磁控溅射法制备ZnO薄膜及其表征对比被引量：1
- 2004年
- 分别对溶胶-凝胶法和磁控溅射法制备ZnO进行了详细的介绍,并借助X射线衍射、原子力显微镜、拉曼光谱分析、紫外吸收等检测手段对这两种方法生长的薄膜进行了分析比较。分析显示:相同石英基底,相同退火温度下生长ZnO薄膜,磁控溅射法生长的ZnO薄膜要比溶胶-凝胶法生长的ZnO薄膜有更优异的c轴取向特性,生长的薄膜结晶更加均匀、致密。
- 任思雨王英连孙汪典刘玉华
- 关键词：ZNO薄膜溶胶-凝胶磁控溅射
- 射频磁控溅射氧化锌薄膜的制备、改性及光催化性能研究
- 随着地球环境问题的日益严重,利用纳米半导体光催化剂进行环境净化已经引起了广泛的重视。目前的应用主要集中在水和空气的净化和处理方面。然而传统的粉末光催化剂在应用中存在许多缺点,如反应过程中必须搅拌,反应后催化剂难于分离和回...
- 任思雨
- 关键词：ZNO薄膜射频磁控溅射光催化苯酚
- 文献传递
