彭晶
- 作品数：18 被引量：32H指数：3
- 供职机构：电子科技大学更多>>
- 相关领域：电气工程一般工业技术理学机械工程更多>>
- 单晶表面加工损伤的评价方法被引量：5
- 2006年
- 单晶表面加工损伤是衡量工艺水平以及单晶片质量的一个主要参数。综述对单晶表面加工损伤进行分析评价的各种方法,对各种分析方法的基本原理、主要特点及应用做了概要介绍。由于单晶表面损伤以及表面残余应力存在一定的梯度及各种表征方法的作用机理、作用深度不尽相同,因此不同的评价方法对同一样品的分析往往会出现差异。根据不同的分析目的,给出了选择分析手段的建议。
- 彭晶包生祥马丽丽
- 关键词：单晶分析评价
- LiNbO_3铁电畴结构扫描力显微镜表征
- 2007年
- 为了分析评价铌酸锂(LiNbO3)单晶单畴化的效果,应用扫描力显微镜(SFM),对LiNbO3单晶片的电畴微观结构进行了分析表征。由于在压电力模式下,电畴的成像受到了样品本身结构的影响,畴图中出现的图像结构多与划痕相关。电畴的图像结构随着电压的加大越趋明显,可以断定,检测信号的确为样品本身压电响应。实验中对厚为1 mm的LiNbO3单晶加10 V直流偏压2 min,极化强度发生改变,但远没达到反转电压。这些对电畴结构的表征为表面加工工艺的改进提供了微观分析依据。
- 彭晶包生祥马丽丽王艳芳
- 关键词：铌酸锂晶体畴结构
- 导致MLCC失效的常见微观机理被引量：18
- 2007年
- 多层陶瓷电容器(MLCC)在实际使用过程中,电参数会发生不同程度的偏离,降低了可靠性,直到MLCC失效。其失效原因可分为外部因素和内在因素,分析讨论了影响MLCC可靠性的内在因素——MLCC内部分层、导电粒子、金属离子迁移和介电老化等常见微观失效机理,并提出了主要应对措施。
- 李世岚包生祥彭晶马丽丽
- 关键词：电子技术MLCC
- 粉末特性对Sm_2(Co,Cu,Fe,Zr)_(17)永磁材料及性能的影响被引量：2
- 2007年
- 在粉末冶金工艺生产Sm_2(Co,Cu,Fe,Zr)_(17)的过程中,粉末特性对材料的性能存在较大影响。本研究对气流磨和滚动球磨两种工艺所制备的粉末进行比较,通过粒度分析及显微镜观察,研究了粉末的粒径与形状对材料性能的影响。分析结果表明,气流磨所制备的粉末平均粒径为4.53μm,尺寸分布范围较窄,粉末颗粒成近似球状,所得材料磁性能参数中Br,(BH)max优于滚动球磨。
- 王艳芳包生祥王敬东谭福明马丽丽彭晶
- 关键词：气流磨磁性能
- 一种大输入功率的高效率2.45GHz微波整流电路
- 本发明公开了一种新型大输入功率的高效率2.45GHz微波整流电路，使用了0.8mm厚度的FR4介质为板材，通过SMA‑KHD输入插座将能量输入整流电路，输入端微带线为50Ω阻抗微带线，再通过梯型微带线实现输入微带线阻抗和...
- 李晓宁李祥泽王科毛先胤彭晶邹超何伟伟田龙峰邓云坤赵现平
- 压电石英亚表面损伤层分析
- 2008年
- 压电石英基片在加工过程中会带来表面/亚表面损伤,这种损伤会直接影响电子器件的性能、稳定性及寿命。该文采用扫描电镜(SEM)观测与X-射线双晶回摆曲线检测化学腐蚀逐层剥离深度相结合的方法,定量分析了36°AT切压电石英基片亚表面损伤层厚度,并探讨了亚表面损伤层的形成原因及对器件性能的影响。
- 李世岚包生祥马丽丽彭晶杜支波周勋
- 关键词：压电石英化学机械抛光
- 一种基于主动式前端触发的交流过压保护电路及保护方法
- 本发明公开了一种基于主动式前端触发的交流过压保护电路及保护方法，主要用于输电线路架空地线取能装置中的雷击保护以及雷击并发的短路电流保护。该保护电路包括在变压器L2一次侧输入线圈和交流输入电源间传接的继电器开关K，用于触发...
- 杨军王科李晓宁彭晶邓云坤赵现平
- 氧对Sm_2(Co,Cu,Fe,Zr)_(17)微观结构及磁性能的影响
- 2006年
- 王艳芳包生祥马丽丽彭晶
- 关键词：ND-FE-B微观结构CU工作温度氧
- 一种基于自动化测试框架的电网设备状态数据获取系统
- 本发明公开了一种基于自动化测试框架的电网设备状态数据获取系统，及信息检索领域，特别是在自动数据获取领域和搜索引擎领域。该数据获取系统包括：登录模块、任务调度模块、页面解析模块、过滤模块；所述登录模块包括：USB Key检...
- 郑泽忠杨加利彭晶王胜利钟平川张亚萌李江
- 文献传递
- 一种基于自动化测试框架的电网设备状态数据获取系统
- 本发明公开了一种基于自动化测试框架的电网设备状态数据获取系统，及信息检索领域，特别是在自动数据获取领域和搜索引擎领域。该数据获取系统包括：登录模块、任务调度模块、页面解析模块、过滤模块；所述登录模块包括：USB Key检...
- 郑泽忠杨加利彭晶王胜利钟平川张亚萌李江
- 文献传递
