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杜康

作品数:8 被引量:7H指数:2
供职机构:广州大学更多>>
发文基金:广州市属高校科技计划项目更多>>
相关领域:理学机械工程一般工业技术更多>>

文献类型

  • 7篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 7篇理学
  • 2篇机械工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 8篇金刚石膜
  • 4篇气相沉积
  • 4篇微波等离子体
  • 4篇化学气相
  • 4篇化学气相沉积
  • 4篇MPCVD
  • 4篇磁镜
  • 4篇磁镜场
  • 3篇色度
  • 3篇CVD金刚石...
  • 2篇色度学
  • 2篇激发温度
  • 2篇光谱
  • 1篇等离子体化学...
  • 1篇谱线
  • 1篇谱线强度
  • 1篇微波等离子体...
  • 1篇发射光谱
  • 1篇AR

机构

  • 8篇广州大学

作者

  • 8篇杜康
  • 7篇徐伟
  • 7篇吴智量
  • 6篇彭军
  • 6篇贺中信

传媒

  • 1篇物理实验
  • 1篇光散射学报
  • 1篇真空与低温
  • 1篇真空电子技术
  • 1篇光学仪器
  • 1篇甘肃联合大学...
  • 1篇纳米科技

年份

  • 1篇2010
  • 7篇2009
8 条 记 录,以下是 1-8
排序方式:
MPCVD金刚石膜装置中Ar的光谱特性分析被引量:1
2009年
在MPCVD装置中,通过调节微波功率、气体流量及反应压强,使用高分辨率的多道光学分析仪采集得到Ar的400-440 nm光谱,利用玻耳兹曼"斜率法"得到Ar激发温度Texc.结果显示:随气体流量增加Texc降低;随着微波功率的增加Texc升高;谱线强度随着功率的增加而上升,在550 W及700 W处开始降低继而又上升,此点是制备金刚石膜的功率关键点.
杜康徐伟吴智量
关键词:MPCVD金刚石膜发射光谱激发温度谱线强度
MPCVD金刚石膜的制备及其应用的研究
金刚石具有多方面的优异性质,在力学、光学、声学和电学等方面有广泛的应用前景。由于天然金刚石含量稀少且昂贵,使其应用受到很大的限制。随着科技的发展,人工合成金刚石技术近几十年来发展迅速,主要合成方法包括高温高压金刚石合成方...
杜康
关键词:金刚石膜MPCVD色度光谱激发温度
文献传递
氢气浓度对MPCVD金刚石膜色度的影响被引量:3
2009年
利用自行设计的直接耦合石英管微波等离子体化学气相沉积装置,以氢气和甲烷为反应气体,沉积出八个金刚石膜样品。研究了氢气浓度对所沉积金刚石膜色度的影响。结果表明,饱和纯度和色纯度随着H2浓度的增大而升高;当H2浓度达到94.137%时,饱和纯度和色度纯度达到最大,分别为8.5%和9.5%;之后随着H2浓度的进一步升高饱和纯度和色纯度开始下降。
杜康徐伟贺中信吴智量彭军
关键词:色度学金刚石膜
直接耦合式微波等离子体CVD金刚石膜装置的研究被引量:4
2009年
利用实验室自行设计了直接耦合式微波等离子体化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)金刚石膜装置,并在石英管反应腔加上磁镜场来更好的约束等离子体,使等离子体球成为"碟盘"状,使沉积面积大、性能稳定、减少在石英管壁和观察窗的沉积,从而有效的提高电离的活性基团利用率,沉积出高质量的(类)金刚石膜.
杜康徐伟吴智量贺中信彭军
关键词:微波等离子体化学气相沉积金刚石膜磁镜场
甲烷浓度对MPCVD金刚石膜色度的影响
2009年
运用自行设计的直接耦合石英管微波等离子体化学气相沉积(microwave plasmachemical vapor deposition,MPCVD)装置,以氢气和甲烷为反应气体,沉积出八个金刚石膜样品。研究了甲烷浓度对所沉积金刚石膜色度的影响。结果显示随着甲烷浓度的升高,饱和纯度和色纯度逐渐升高,甲烷浓度达到5.863%时,饱和纯度和色度纯度达到最大,分别为8.5%和9.5%,之后随着CH_4浓度的升高饱和纯度和色纯度开始下降。
杜康徐伟贺中信吴智量彭军
关键词:色度学金刚石膜
磁镜场在直接耦合式微波等离子体化学气相沉积金刚石膜制备装置中的应用被引量:1
2009年
在直接耦合式微波等离子体化学气相沉积金刚石膜装置的石英管反应腔加上磁镜场来更好地约束等离子体,使等离子体球成为"碟盘"状,提高了等离子体球的密度,在基本参数:反应压力2.5 kPa、基片温度450℃、气体流量为Ar:40sccm、CH4:4sccm、H2:60sccm不变的情况下,沉积面积直径由30 mm增长到50 mm,沉积速度由3.3μm/h增长到3.8μm/h,最大反射电流由15μA减小5μA。从而大大减少了在石英管壁和观察窗的沉积,有效利用微波能量电离出更多的活性基团沉积出高质量的(类)金刚石薄膜。
杜康徐伟吴智量贺中信彭军
关键词:微波等离子体化学气相沉积金刚石膜磁镜场
磁镜场在直接耦合式微波等离子体CVD金刚石膜装置中的应用
2009年
在自行设计的直接耦合石英管式微波等离子体化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)金刚石膜装置的石英管反应腔加上磁镜场来约束等离子体,使等离子体球成为"碟盘"状,提高了等离子体球的密度,在基本参数为反应压力2.5kPa、基片温度450℃、Ar、CH4、H2气体流量分别为40sccm、4sccm、60sccm,则沉积面积可由30mm增长到50mm,沉积速率由3.3μm/h增长到3.8μm/h,反射电流由15μA减小到5μA。从而大大减少了薄膜在石英管壁和观察窗上的沉积,更好地利用微波能量,有效利用电离的活性基团沉积出高质量的金刚石薄膜。
杜康徐伟吴智量贺中信彭军
关键词:微波等离子体化学气相沉积金刚石膜磁镜场
磁镜场在直接耦合式微波等离子体CVD金刚石膜装置中的应用被引量:2
2009年
在自行设计出的直接耦合石英管式微波等离子体化学气相沉积fchemical Vapor Deposition,CVD)金刚石膜装置的石英管反应腔加上磁镜场,以更好地约束等离子体,使等离子体球成为“碟盘”状,提高了等离子体球的密度,在基本参数不变的情况下,沉积面积可由ψ30mm增长到50mm,沉积速度由每小时3.3μm增长到3.8μm,反射电流减小,从而减少了在石英管壁和观察窗的沉积,更好地利用微波能量,有效利用电离的活性基团沉积出高质量的(类)金刚石薄膜。
杜康徐伟吴智量贺中信彭军
关键词:微波等离子体化学气相沉积金刚石膜磁镜场
共1页<1>
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