邱万奇
- 作品数：229 被引量：324H指数：9
- 供职机构：华南理工大学材料科学与工程学院更多>>
- 发文基金：广东省自然科学基金国家自然科学基金广东省科技计划工业攻关项目更多>>
- 相关领域：金属学及工艺一般工业技术理学化学工程更多>>
- PS45/CuAl8伪合金复合涂层高温循环氧化行为被引量：2
- 2011年
- 采用超音速活性电弧喷涂技术在Q235钢基体表面制备PS45/CuAl8伪合金复合涂层,将该涂层在600℃和800℃进行循环氧化,采用XRD、SEM和精密天不等手段对涂层的显微结构进行表征,研究了涂层的循环氧化性能。结果表明:PS45/CuAl8伪合金复合涂层主要由Al_2O_3、Cr_2O_3、α-Cu和γ-Ni固溶体组成,组织致密,颗粒成扁平状且扁平化程度高、分布均匀。经高温循环氧化后在涂层表面形成了一层致密的Al_2O_3+Cr_2O_3+Ni(Al,Cr)_2O_4薄膜,避免了Al_2O_3薄膜的剥落,从而降低了涂层氧化速率,提高了基体的抗高温循环氧化性能。
- 吴姚莎邱万奇余红雅钟喜春刘仲武曾德长李尚周
- 关键词：材料表面与界面
- 划痕法综合评定膜基结合力被引量：48
- 2009年
- 用划痕实验探索了综合表征膜基结合力的方法。在瑞士CSM仪器的微划痕测试仪(Micro-Scratch Tester,MST划痕仪)对真空多弧离子镀设备制备的WC-Co/TiN膜基结合力进行划痕实验,系统地介绍了如何利用MST划痕仪所测的声发射数据、摩擦力数据及光学、电子扫描划痕形貌来综合评定膜基结合力,并用WS-92划痕仪对评定结果进行验证。评定结果表明,单一的声发射图谱或摩擦力曲线不能准确判定膜基结合力的表征值临界载荷,声发射图谱、摩擦力曲线与划痕形貌综合评定临界载荷结果才可信。WS-92划痕仪测量的结果验证了MST划痕仪评定结果的准确性。
- 瞿全炎邱万奇曾德长刘正义
- 关键词：结合力
- 一种柔性硼势固体渗硼剂及制备单相Fe<Sub>2</Sub>B渗硼层的方法
- 本发明属于渗硼技术领域，公开了一种柔性硼势固体渗硼剂及制备单相Fe<Sub>2</Sub>B渗硼层的方法。所述渗硼剂由供硼剂B<Sub>4</Sub>C、活化剂KBF<Sub>4</Sub>、添加剂Ni粉和填充剂构成。将...
- 邱万奇王耀辉熊成焦东玲刘仲武钟喜春张辉
- 文献传递
- 一种交换耦合双相纳米复合永磁颗粒及其制备方法
- 本发明公开了一种交换耦合双相纳米复合NdFeB永磁颗粒及制备方法和应用。该纳米复合稀土永磁颗粒是将软磁纳米颗粒均匀分布在硬磁颗粒表面，软磁纳米颗粒占纳米复合稀土永磁颗粒质量百分比3～20％，所述软磁纳米颗粒为铁、钴或铁钴...
- 刘仲武苏昆朋邱万奇余红雅钟喜春曾德长
- 挡板对电弧离子镀TiN薄膜性能的影响被引量：4
- 2008年
- 在传统离子镀电弧靶前安装挡板,用镜面抛光Si(100)片作基体,对有/无挡板时沉积的TiN薄膜的大颗粒分布和性能进行了研究。结果表明,在挡板影响区域,大颗粒最大直径由无挡板时16μm降低至2μm,大颗粒密度从2.3×105mm-2降低至1.4×103mm-2;挡板影响区外,大颗粒密度变化不显著。加挡板后TiN薄膜的硬度降低,挡板影响区外降低10%,影响区内降低25%。
- 邱万奇傅涛向兴华陈灵
- 关键词：离子镀挡板TIN薄膜大颗粒
- 一种基于SPS技术的La-Fe-Si基磁制冷复合材料及其制备方法
- 本发明公开了一种基于SPS技术的La‑Fe‑Si基磁制冷复合材料及其制备方法，将La‑Fe‑Si基磁制冷材料粉末和微米级Fe粉混合均匀，利用高温放电等离子烧结成型，制备得到磁制冷块体材料；所述烧结温度为1100‑1300...
- 钟喜春郝中原黄譞刘仲武余红雅邱万奇焦东玲
- 一种Gd-Mn基非晶磁制冷材料的制备方法
- 本发明涉及磁性材料领域，公开了一种Gd-Mn基非晶磁制冷材料及其制备方法，其化学通式为：Gd<Sub>65</Sub>Mn<Sub>35-x</Sub>M<Sub>x</Sub>(0<x≤10)，式中M为Si或Ge...
- 钟喜春闵继雄曾德长刘仲武余红雅邱万奇
- 文献传递
- 铜基镶嵌结构界面金刚石涂层及其膜/基结合力的研究
- 在铜基体上沉积电沉积Cu-Diamond复合膜作过镀层,然后在热丝CVD系统中沉积出了连续的金刚石膜。用压痕法对所沉积的金刚石膜/基结合力进行了评估,用扫描电镜SEM、Raman光谱对沉积的金刚石膜进行了表征。结果表明,...
- 邱万奇曾艳祥贺礼贤刘仲武曾德长钟喜春余红雅
- 关键词：CVD铜金刚石膜结合力
- 文献传递
- α籽晶促进低温反应溅射沉积α-Al_(2)O_(3)薄膜
- 2022年
- 分别使用反应溅射Al+α-Al_(2)O_(3)(15%α-Al_(2)O_(3),质量分数)复合靶和在金箔基体表面预植α-Al_(2)O_(3)籽晶,促进α-Al_(2)O_(3)薄膜的低温沉积。使用扫描电子显微镜(SEM)、掠入射X射线衍射(GIXRD)和能谱仪(EDS)等方法表征薄膜样品的表面形貌、相结构和元素组成。结果表明,在射频反应溅射Al+α-Al_(2)O_(3)复合靶、沉积温度为560℃条件下能在Si(100)基体上沉积出化学计量比的单相α-Al_(2)O_(3)薄膜;使用射频反应溅射Al靶、沉积温度为500℃条件下能在预植α-Al_(2)O_(3)籽晶(籽晶密度为106/cm 2)的金箔表面沉积出化学计量比的单相α-Al_(2)O_(3)薄膜。两种研究方案的结果均表明,α-Al_(2)O_(3)籽晶能促进低温沉积单相α-Al_(2)O_(3)薄膜。
- 李修贤邱万奇焦东玲钟喜春刘仲武
- 关键词：材料表面与界面反应溅射
- 一种铜-金刚石复合镀层及其制备方法
- 本发明公开了一种铜-金刚石复合镀层及其制备方法。所述复合镀层从下到上由铜镀层、铜-金刚石复合上砂镀层和铜加固层组成。制备方法包括以下步骤：在工件表面先用电镀法沉积铜镀层，然后在铜镀层的表面沉积铜-金刚石复合上砂镀层，最后...
- 邱万奇曾艳祥钟喜春余红雅刘仲武曾德长
