姚伟国
- 作品数：36 被引量：99H指数：5
- 供职机构：苏州大学物理科学与技术学院（能源学院）物理学系更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金江苏省教委自然科学基金江苏省重点实验室开放基金更多>>
- 相关领域：电子电信一般工业技术理学电气工程更多>>
- 高温超导超晶格ＹＢａ<,2>Ｃｕ<,3>Ｏ<,7>／ＰｒＢａ<,2>Ｃｕ<,3>Ｏ<,7>的热激活磁通运动特性
- 李可斌姚伟国
- 关键词：晶格场钇化合物钡化合物
- Nb和N_2在球磨过程中的固-气反应被引量：9
- 1999年
- 利用改装后可充一定压力气体的球磨罐，装入一定量的高纯金属，经抽真空后充入一定压力的氮气，在室温下进行球磨产生固－气反应制备出金属氢化物的超细微粒．以金属铌为例，用XRD和TEM分别对生成物的晶粒尺度和相结构进行了分析测量．从热力学讨论了金属氮化的形成机制，在固－气反应中氮气分子在金属清洁表面的化学吸附起着重要作用．球磨过程中产生的大量缺陷对金属－氮气的反应有重要影响．
- 吴雪梅陈静诸葛兰剑姚伟国
- 关键词：NBN2球磨化学吸附铌机械合金化
- 纳米Ge颗粒镶嵌硅基薄膜的结构与光吸收特性的研究被引量：3
- 2003年
- 采用射频磁控共溅射方法制备了纳米Ge颗粒镶嵌于SiO2中的复合薄膜(Ge-SiO2),结合样品结构对光吸收特性进行深入的研究。研究发现该类样品存在较强的光吸收,并且光吸收边随Ge颗粒尺寸变小有显著的蓝移现象。采用量子限域模型和介电限域模型分别作了相应的理论计算,结果表明两种模型的理论计算结果与实验值均有一定的偏差;在小尺寸的Ge颗粒情况下,前者与实验值有明显的差异。对此结果我们给出了相应的分析讨论。
- 梁昌振欧阳义芳吴雪梅姚伟国
- 关键词：硅基薄膜光吸收量子限域效应
- Fe-Al-N薄膜的制备和磁性能
- 2003年
- 用双离子束溅射法在(100)硅片和NaCl单晶基片上制备出FeAlN薄膜,研究了主源气氛和基片温度对FeAlN薄膜的结构及磁性能的影响。在基片温度较高或主源中氮的含量较低时,FeAlN薄膜有较高的饱和磁化强度M_s。加入Al使薄膜的晶粒细化,也使其矫顽力下降,热稳定性提高。在500℃退火后,Al的原子分数为10.0％的FeAlN薄膜仍具有较好的软磁性能,饱和磁化强度M_s和矫顽力H_c分别为2.02T和0.96kA/m。
- 诸葛兰剑吴雪梅姚伟国
- 关键词：金属材料磁性能离子束溅射热稳定性
- 球磨条件对氮化铌超细粉结构的影响被引量：4
- 1999年
- 利用特殊设计的球磨装置，经抽真空后充入一定压力的氮气，通过球磨纯金属，在室温下制备出金属氮化物的超细微粒。对不同球磨条件下制备的ＮｂＮ超细粉，采用ＸＲＤ、ＴＥＭ、ＤＳＣ对晶粒尺度、相结构及热稳定性进行了分析，研究不同球磨条件对ＮｂＮ超细粉结构的影响。
- 吴雪梅陈静姚伟国诸葛兰剑孙建平金宗明
- 关键词：球磨超细微粒
- 超晶格YBa_2Cu_3O_7/PrBa_2/Cu_3O_7的X射线衍射研究
- 1995年
- 随着薄膜制备技术的发展,高质量的高温超导超晶格YBa_2Cu_3O_7/PrBa_2Cu_3O_7样品的获得为实验研究高温超导有关物性方面提供了其它试样所无法替代的可能性,其中一个非常有意义的特性是当一比较薄的YBCO超导层被PrBCO层隔开时,其T_c将随着非超导层PrBCO层的厚度增加而下降,据此在理论上也相应地提出了各种解释模型,诸如自旋极化模型、Kosterlitz-Thouless相变模型及最近临效应模型等.
- 李可斌姚伟国戚震中
- 关键词：超晶格X射线衍射超导体YBCO
- 镶嵌在SiO_2薄膜中的锗纳米晶粒的光致发光被引量：11
- 1997年
- 采用６３０ｎｍ波长的激发光在室温下对镶嵌有锗纳米晶的ＳｉＯ２薄膜进行了光致发光研究。在室温下观察到了由于双光子吸收而导致的蓝色荧光峰。按照量子限域理论对所观察到的峰的特征进行了讨论。
- 姚伟国岳兰平戚震中何怡贞
- 关键词：量子点锗纳米晶二氧化硅光致发光
- α''-Fe_(16)N_2的制备及性能研究被引量：4
- 2000年
- 通过球磨 α-Fe和脲的混合粉末 ,制得 α -Fe( N)超细粉末 ,其 N原子摩尔分数 x为8.8% ,饱和磁化强度 σs为 2 4 2 .7A· m2 /kg。再经 1 60℃真空退火 1 0 h,部分 α -Fe( N)相转变为 α"-Fe16N2相 ,样品中 α"-Fe16N2 相的质量分数为 2 3.5% ,σs约为 2 87A·m2 /kg。在 350℃退火 1 h,α"-Fe16N2 转变为σ-Fe相和 γ-Fe4
- 诸葛兰剑吴雪梅董业民孙建平姚伟国
- 关键词：球磨软磁超细微粉
- LaNi5薄膜的制备及其充、放氢过程的电阻特性
- LaNi
- 朱开贵姚伟国陈志祥张立德
- 文献传递
- 基片及基片温度对Fe_4N薄膜的形成及其特性的影响被引量：3
- 2002年
- 以双离子束溅射法在 (111)硅片和玻璃上分别制得了单一γ′ Fe4 N薄膜 ,研究了基片及基片温度对薄膜的结构和磁性能的影响。结果表明 ,以 (111)硅片为基片 ,可制得无晶粒择优取向的单一γ′ Fe4 N相 ;而以玻璃为基片 ,在基片温度为160℃时 ,则可制得具有 (10 0 )面晶粒取向的单一γ′ Fe4 N相薄膜 ;与无晶粒择优取向的γ′ Fe4 N相比较 ,具有 (10 0 )面晶粒取向的γ′ Fe4 N相的矫顽力较低 ,易达到磁饱和 ,但二者的饱和磁化强度基本一致。
- 诸葛兰剑姚伟国吴雪梅王文宝
- 关键词：基片温度基片晶粒取向
