范东升
- 作品数：8 被引量：13H指数：3
- 供职机构：中国科学院微电子研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
- 相关领域：电子电信更多>>
- 纳米压印与光学光刻混合制作T型栅的方法
- 本发明纳米压印与光学光刻混合制作T型栅的方法，属于微电子技术中的纳米、深亚微米加工领域。一种纳米压印与光学光刻混合制作T型栅的方法，其工艺步骤如下：1.在半导体基片上涂上底层压印胶；2.用纳米压印方法压印出底层压印胶图形...
- 谢常青范东升刘明
- 文献传递
- 纳米压印光刻模版制作技术被引量：7
- 2005年
- 在下一代光刻技术中,光刻的成本越来越高,这使得工业界开始寻找新的技术。纳米压印作为非光学的下一代光刻技术,具有分辨率高、成本低、产率高等诸多优点,因而可能应用于将来的半导体制造中。同时,纳米压印也可以用于微机电系统(MEMS)和其他纳米结构的图形复制。纳米压印光刻技术主要包括热压印、紫外固化压印和微接触法压印。介绍了在这3种纳米压印光刻技术中,压印模版制作的制作工艺和模版表面的防粘连处理,并且讨论3种压印方法适用的不同领域。
- 范东升谢常青陈大鹏
- 关键词：纳米压印
- 193 nm光刻散射条技术研究被引量：3
- 2005年
- 介绍了193nm光刻中的散射条技术,并利用标量衍射和傅里叶光学理论,对掩模和光瞳平面上衍射图形的空间频率进行了深入的分析,从理论上解释了散射条的工作原理。通过商用光刻模拟软件PROLITH,对散射条的参数进行了优化,并总结出193nm光刻中孤立线散射条的优化方法。
- 康晓辉张立辉范东升王德强谢常青刘明
- 关键词：光刻离轴照明分辨率增强
- 纳米压印光刻模版制作技术
- 纳米压印光刻技术是近年来出现的一种新型微细加工技术，也是下一代光刻技术的候选者之一。采用纳米压印光刻技术进行纳米器件研究也是国内外研究热点之一。本文在国内成功建立了纳米压印模版制作工艺路线，并在工艺中引入X射线镂空掩模来...
- 范东升
- 关键词：纳米压印光刻邻近效应校正X射线光刻纳米压印光刻技术固体电子学
- 热压印光刻技术复制波带片图形研究被引量：3
- 2005年
- 针对只需单次曝光的菲涅尔波带片器件,给出了结合电子束光刻和热压印光刻进行大规模复制的完整工艺路线,即首先采用电子束光刻制作热压印模版,之后用热压印光刻进行波带片的大规模复制,所制得的波带片图形的最外环宽度为250 nm,直径为196μm,环数为196环。初步实验结果表明,这种方法具有很好的重复性和易用性,且可以进行低成本波带片的精确复制。
- 范东升王德强康晓辉陈大鹏谢常青
- 关键词：波带片纳米压印热压印
- 纳米压印光刻机
- 本实用新型一种压印光刻机，涉及微纳加工技术领域，具体地说，涉及用于纳米压印光刻的设备。该机主要由螺栓，上层板，中间板，传动螺栓，传动导向杆，压块和底层板组成，用螺栓、螺母连接固定。本设备结构新颖、简单，易于加工，并采用压...
- 康晓辉范东升
- 文献传递
- 电子束光刻常用的抗蚀剂工艺技术研究
- 电子束光刻技术是推动微电子和微细加工发展的关键技术,尤其在先进掩模制造和纳米加工领域中,起到不可替代的作用.为满足科研和生产的需要,我们中国科学院微电子研究所微细加工与纳米技术研究室长期以来一直开展光学光刻系统的分辨率增...
- 陈宝钦张立辉范东升牛洁斌刘明薛丽君李金儒汤跃科王德强任黎明龙世兵陆晶
- 关键词：电子束光刻电子束直写微细加工微电子
- 文献传递
- 单次纳米压印制作深纳米T型栅的方法
- 一种单次纳米压印制作纳米T型栅的方法，其工艺步骤如下：1.熔石英基片表面上淀积铬薄膜；2.铬薄膜表面上甩电子束光刻胶，电子束光刻宽栅槽图形；3.一次各向异性刻蚀铬薄膜；4.一次各向异性刻蚀熔石英，被刻蚀的熔石英深度等于纳...
- 谢常青范东升刘明
- 文献传递
