叶小燕
- 作品数：28 被引量：79H指数：6
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- 相关领域：理学化学工程机械工程一般工业技术更多>>
- Ar离子束作用下C_(60)薄膜的结构稳定性研究被引量：2
- 1995年
- 利用XPS和AES研究了在Ar离子束作用下C60薄膜的分子结构的稳定性．研究发现C60分子与Ar离子束作用后，C1s结合能从284．7eV逐步下降到284．4eV，CKLL俄歇动能从270．0eV增加到271．3eV．并且C60薄膜在与氩离子束作用后，其C60分子结构特征的C1s携上峰及价带峰均消失．表明Ar离子束可以促使C60分子的C＝C双键断裂，离域π键消失，C60分子分解为单质碳．C＝C双键断裂过程与离子束的能量和辐照时间有一定的函数关系．
- 朱永法叶小燕姚文清陈德朴曹立礼
- 关键词：离子束碳60氩稳定性
- 电子能谱的指纹峰分析方法及在功能碳材料研究中的应用
- 随着材料科学的迅猛发展,新型功能材料的研究开发越来越受到重视,特别是一些同素异性体材料,如碳物种(C,碳纳米管,金刚石薄膜等)材料以及具有特殊结构和性能的简单化合物材料,如碳化物、硅化物、氮化物及硼化物等功能材料。由于这...
- 朱永法姚文清叶小燕曹立礼
- 文献传递
- 俄歇电子能谱在薄膜催化剂材料研究中的应用
- 俄歇电子能谱具有很高的表面灵敏度,适用于表面元素定性和定量分析及表面元素化学价态的研究,具有很强的深度分析和界面分析能力。因此,对研究薄膜材料与基底的界面化学状态和相互作用起到了关键作用。目前,对于利用俄歇电子能谱研究T...
- 朱永法姚文清叶小燕曹立礼
- 文献传递
- 离子束辅助淀积钴硅化合物薄膜的结构研究
- 叶小燕杨杰
- 关键词：硅化合物钴化合物
- Ａｒ＃+[+]离子束与Ｃ＃-[60]薄膜的相互作用
- 朱永法叶小燕
- 关键词：化学分析电子谱法表面性质离子束相互作用(物理)俄歇电子谱法表面化学
- 俄歇电子能谱在金刚石金属化研究中的应用
- ＜正＞近年来随着纳米材料科学的迅猛发展,金刚石表面金属化的研究越来越受到重视。金刚石虽然是一种超硬材料,并具有很多优异的性能,但由于其表面能高及化学惰性,金刚石与金属胎体的结合较弱,使得金刚石工具的性能和寿命大大降低。由...
- 朱永法姚文清叶小燕曹立礼
- 文献传递
- 镍－磷非晶镀层的表面研究被引量：7
- 1994年
- 应用ＸＲＤ、ＡＥＳ和ＸＰＳ研究了晶态和非晶态Ｎｉ－Ｐ镀层的表面结构和体相结构。结果表明：Ｎｉ－Ｐ非晶态镀层的形成与电镀工艺条件有关，碱式碳酸镍的使用对非晶态的形成和镀层耐蚀性的提高起着重要作用。样品表面的磷以两种化学态存在，分别为Ｎｉ－Ｐ合金的磷和磷酸根的磷。为了形成非晶态镀层，Ｍｉ／Ｐ原子比应控制在３．３６以上。此外，Ｎｉ－Ｐ非晶态合金镀层的腐蚀实验还表明：非晶态合金镀层的耐蚀性能要比晶态镀层高得多。
- 叶小燕曹立礼朱永法沈光球
- 关键词：非晶态合金电子能谱仪耐蚀性镍磷合金
- 电场对Au-Ag薄膜结构影响的AFM和VAXPS研究被引量：2
- 1998年
- 利用原子力显微镜（ＡＦＭ）和变角Ｘ射线光电子谱（ＶＡＸＰＳ）技术研究了Ａｕ－Ａｇ／ＳｉＯ２体系在直流电场作用下，Ａｕ、Ａｇ电迁移的特点及所引起的薄膜结构的变化。观察到较低温度下Ａｕ、Ａｇ聚集状态的显著变化。发现电迁移过程中Ａｕ－Ａｇ薄膜与ＳｉＯ２基底之间存在界面化学反应，膜层中Ａｕ、Ａｇ、Ｓｉ等元素的化学状态发生了相应的变化。这些结果表明ＳｉＯ２表面上Ａｕ－Ａｇ复合薄膜电迁移不只是一个水平方向的扩散，而是一个复杂的物理化学过程。在此基础上提出了电场作用下Ａｕ－Ａｇ薄膜迁移扩散反应机制。
- 时方晓叶小燕姚文清曹立礼董宇辉
- 关键词：电迁移AFM银
- Ｃ６０薄膜与Ｓｉ的界面相互作用
- 朱永法叶小燕
- 关键词：扩散
- Raney Cu-Nd催化剂的XPS研究
- 1997年
- 采用ＸＰＳ能谱方法和甲酸甲酯氢解反应对ＲａｎｅｙＣｕ－Ｎｄ和ＲａｎｅｙＣｕ催化剂进行了研究。发现加入适量的钕能够显著地提高甲酸甲酯氢解活性，而且合成气氢解活性略高于纯氢氢解活性，说明ＲａｎｅｙＣｕ－Ｎｄ催化剂具有一定的抗ＣＯ毒化的能力。还原后反应前样品表面铜主要是Ｃｕ０物种；在反应过程中，Ｃｕ０物种被部分氧化，而使反应后样品表面铜以Ｃｕ０和Ｃｕ＋物种存在。反应气氛不同Ｃｕ０被氧化的程度也各异，合成气气氛下表面Ｃｕ＋的百分含量明显大于Ｈ２气氛下的；由于稀土元素钕的作用，ＲａｎｅｙＣｕ－Ｎｄ催化剂表面Ｃｕ＋的百分含量小于ＲＣｕ催化剂，明显减缓了Ｃｕ０被氧化的速度，使ＲａｎｅｙＣｕ－Ｎｄ催化剂表面保持较高的Ｃｕ０分布，这可能是它具有较高反应活性的原因。
- 杨儒钟炳叶小燕
- 关键词：XPS催化剂甲酸甲酯氢解
