唐雄贵
- 作品数：86 被引量：162H指数：8
- 供职机构：湖南师范大学更多>>
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- 相关领域：电子电信机械工程理学文化科学更多>>
- 一种适用于GPON系统的DPS QKD加密系统
- 本发明公开了一种适用于GPON系统的DPS QKD加密系统，包括光线路终端OLT和至少一个光网络单元ONU，所述光线路终端由时钟同步控制器、脉冲相干光源、1：n分束器、相位调制器、可调衰减器依次连接构成，光网络单元包括分...
- 廖进昆段毅邢飞杨晓军唐雄贵
- 文献传递
- 可变双焦微透镜设计与模拟被引量：4
- 2012年
- 变焦微透镜是一种新型的微光学元件,在诸多领域有着广阔的应用前景。基于折射率调控原理,提出了一种新型的可变双焦微透镜的实现方法。利用有限元方法,对可变双焦微透镜的调控全过程进行了数值模拟,具体包括电场空间分布、折射率空间分布以及光场空间分布。数值模拟表明,在不同调控电压下,可变双焦微透镜的焦点位置能够实现有效调控。这种微透镜具有结构简单、工艺制作简便、易于实现阵列型结构和易于与其它光子器件进行集成等特点,能够实现快速变焦调控,且不存在偏振依赖性。
- 唐雄贵童伟廖进昆李和平陆荣国刘永智
- 关键词：光学器件微光学变焦数值模拟
- 一种波导型偏振光分束器
- 一种波导型偏振光分束器，属于集成光子器件技术领域。该波导型可调偏振分束器基于全内反射原理和模场耦合原理，采用具有大双折射率差的液晶材料，不同偏振态的光信号在分支处自动选择特定分支波导进行传播，从而实现不同偏振态的光信号有...
- 唐雄贵张林廖进昆陆荣国李和平刘永智刘永
- 一种高精度液体折射率传感器
- 本发明所提出的一种基于亚波长光栅结构的液体折射率传感器，属于生物光子传感领域。该传感器是由基片、亚波长光栅与微流体通道所构成，利用亚波长光栅导模共振现象，实现液体折射率的高精度测量。当微流体通道内的液体折射率发生变化时，...
- 唐雄贵毛强孟方陈明梁珊
- 文献传递
- 纳米压印技术的研究进展被引量：4
- 2013年
- 纳米压印技术由于具有操作简单、高分辨率、成本低、重复性高等优点,近年来受到国内外研究机构的高度重视。本文主要介绍了目前主流的几种纳米压印技术,并简要概述了纳米压印技术的研究现状和应用前景。
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- 关键词：纳米压印光刻高分辨率
- 聚合物脊形光波导的变分有效折射率法分析被引量：13
- 2008年
- 聚合物脊形光波导是聚合物集成光电子器件的重要构成单元。利用有效折射率法计算聚合物脊形光波导的横向折射率分布及有效折射率,将各区域中的光场分布近似用分段函数表达。基于导模满足的标量波动方程,利用变分法确定变分参量,以求得准确的横向光场分布。对聚合物脊形多模光波导基模和高阶模的色散特性与横向场分布进行分析,研究了波导结构参数对色散特性的影响,计算出TM基模和高阶模的光场分布,得出了聚合物脊形光波导的单模传输条件。研究表明,该方法计算量小、精度高,对聚合物光电子器件中脊形光波导的理论分析与设计优化提供了简单高效的方法。
- 廖进昆唐雄贵陆荣国李和平刘永智
- 关键词：脊形光波导有效折射率法变分法
- 一种焦距可调的双焦点非球面微透镜
- 一种焦距可调的双焦点非球面微透镜，属于光学元器件技术领域。包括上、下透明玻璃基片，上、下ITO电极，液晶层和液晶密封层；液晶密封层与液晶层接触的表面为凹形非球面形状，所述凹形非球面形状由高度较高但曲率半径较小的旋转对称曲...
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- 文献传递
- 一种基于动态光谱压缩的全光量化系统及其方法
- 本发明涉及一种基于动态光谱压缩的全光量化系统及其方法。包括依次连接的用于将全光采样后的光信号转变为频移后光脉冲信号的高非线性光纤，用于对光脉冲信号的不同波长的光脉冲进行功率均衡并得到功率均衡后光脉冲信号的动态功率均衡单元...
- 李和平李胜男夏汉定唐雄贵张尚剑廖进昆陆荣国刘永
- 厚胶光刻中光敏化合物浓度空间分布研究被引量：2
- 2005年
- 厚胶光刻过程是一个复杂的非线性过程,其光刻胶内光敏化合物(PAC)浓度空间分布是影响显影面形的主要因素。根据厚层胶光刻的特点,结合光化学反应机理,利用角谱理论,分析了在曝光过程中光刻胶内衍射光场和PAC浓度的空间分布随时间的动态变化,以及后烘(PEB)过程对PAC浓度空间分布的影响。该方法数值计算结果准确,且速度快。数值模拟表明,其内部衍射光场分布与PAC浓度分布是一个动态的、非线性的相互影响过程;后烘工艺可平滑PAC浓度空间分布;PAC浓度空间分布是影响浮雕面形边沿陡度的一个重要因素。
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- 关键词：光刻
- 烘焙工艺条件对厚胶光刻面形的影响被引量：14
- 2005年
- 采用厚层正性光刻胶AZ P4620进行光刻实验,考察了在前烘和坚膜阶段不同的工艺参数条件下的光刻胶浮雕面形的变化。实验表明,完全显影后光刻胶的浮雕面形受前烘工艺参数的影响很小,但其显影速率有一定差别;当坚膜烘焙后,不同前烘条件下的浮雕面形差别较大;当前烘条件相同时,坚膜参数的变化对光刻胶的浮雕面形影响较大。由此得出,在前烘阶段应采取较高温度、较短时间的烘焙,而在坚膜阶段应采取较低温度、较长时间的烘焙,这样可提高厚胶光刻面形的质量。
- 唐雄贵姚欣郭永康杜惊雷温圣林刘波刘倩董小春
- 关键词：厚胶光刻
