范芸
- 作品数：4 被引量：8H指数：1
- 供职机构：电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术更多>>
- 氧分量对WOx薄膜红外光谱性能的影响
- 采用射频磁控溅射工艺,在ITO/PET柔性衬底上低温制备氧化钨电致变色薄膜。利用傅立叶红外光谱仪及其附件分析了不同氧分量条件下氧化钨薄膜着色态和退色态的红外特性。实验结果表明:在500～3000 cm区域,氧分量对薄膜的...
- 范芸唐武翁小龙邓龙江
- 关键词：红外光谱磁控溅射
- 文献传递
- 氧分量对柔性衬底上WO_x薄膜性能的影响
- 2008年
- 通过射频磁控溅射方法,在柔性PET衬底上低温沉积电致变色WOx薄膜。利用X射线衍射(XRD)、紫外-可见光分光光度计、X射线光电子能谱(XPS)分析所制备薄膜的微观结构、透光率、O元素的结合状态。结果表明,各氧分量下制备的WOx薄膜均为非晶态;氧分量0时制备的薄膜着、退色态透光率变化范围达到25%左右,具有较好的电致变色性能;XPS分析表明氧分量8%时氧空位含量最低,随着氧分量的继续增大,氧空位含量也增大。
- 唐武范芸李海霞翁小龙邓龙江
- 关键词：电致变色射频磁控溅射
- 柔性衬底WO_x-Mo薄膜电致变色性能研究被引量：8
- 2009年
- 采用射频磁控溅射工艺,在镀有ITO薄膜的柔性PET衬底上低温制备WOx-Mo薄膜,利用电化学工作站测试薄膜的循环伏安曲线和计时电流曲线来分析薄膜的电致变色性能。结果表明:随Mo掺杂量的增加,薄膜的氧化峰峰位往电压正方向移动,并且氧化峰电流峰值增加,薄膜着色响应时间缩短,退色时间延长。当Mo掺杂量为15.4%时,着色时间最短达到4.53s,退色时间最长达到9.8s。薄膜的可逆性与电荷在薄膜中的滞留量有关,在Mo掺杂量为7.6%时,薄膜可逆性最好,达到51.2%左右,电荷滞留量为2.4E-3C。
- 范芸唐武翁小龙邓龙江
- 关键词：电致变色磁控溅射
- 氧分量对WOx薄膜红外光谱性能的影响
- 本文采用射频磁控溅射工艺,在ITO/PET柔性衬底上低温制备氧化钨电致变色薄膜，利用傅立叶红外光谱仪及其附件分析了不同氧分量条件下氧化钨薄膜着色态和退色态的红外特性。实验结果表明：在500～3000cm-1区域,氧分量对...
- 范芸唐武翁小龙邓龙江
- 关键词：电致变色薄膜光学磁控溅射
- 文献传递
