严伟
- 作品数：147 被引量：124H指数：6
- 供职机构：中国科学院光电技术研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划成都市科技攻关计划项目更多>>
- 相关领域：电子电信机械工程理学自动化与计算机技术更多>>
- 纳米光刻中莫尔对准模型与应用被引量：4
- 2008年
- 在纳米光刻中,采用周期相差不大的两光栅分别作为掩模和硅片上的对准标记。当对准光路通过这两个标记光栅时受到两次调制,发生双光栅衍射及衍射光的干涉等复杂现象,最后形成有规律、且呈一定周期分布的莫尔条纹。周期相对光栅周期被大幅度放大,条纹移动可表征两标记的相对位移,具有很高探测灵敏度,可用于纳米级高精度对准。从傅里叶光学角度分析推导了对准应用中,两频率接近的光栅重叠时莫尔条纹振幅空间近似分布规律。并设计了一组对准标记,能继续将灵敏度提高一倍。通过仿真分析,从大致上定量地验证条纹复振幅分布的近似数学模型以及光刻对准应用中的条纹对准过程。
- 周绍林陈旺富杨勇唐小萍胡松马平严伟张幼麟
- 关键词：纳米光刻
- 一种投影光刻调焦的图像处理方法
- 本发明提供一种投影光刻调焦的图像处理方法，所述的方法首先根据列向求和投影的波峰，初步求得中线位置，进行粗调焦。采用波峰识别方法和图像细分算法对目标线条进行精确定位。进而求得目标线条与指定最佳焦面位置的离焦量，控制工件台运...
- 李艳丽严伟陈铭勇杨勇王建
- 文献传递
- 一种适用于投影光刻系统的检焦系统
- 一种适用于投影光刻系统的检焦系统包括：光弹调制系统，对称成像系统，光栅调制系统，偏振调制系统以及光电探测系统，通过光栅以及偏振调制系统将被测面的偏移量转换成信号光的相对强弱变化，应用光弹调制系统来提高信噪比，从而获得高精...
- 陈旺富胡松严伟陈铭勇周绍林徐锋李金龙谢飞
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- 一种逆向照明接近接触纳米光刻装置
- 一种逆向照明接近接触纳米光刻装置包括：基片、光刻胶、金属掩模版和均匀准直照明系统；在基片上面涂有光刻胶，在光刻胶接近接触放置金属掩模版，当均匀准直照明系统逆向照明，从基片侧向入射到基片上，在光刻胶和金属掩模版之间由于介电...
- 杨勇胡松姚汉民唐小萍邢薇赵立新张春梅严伟
- 文献传递
- 一种通用多通道数据采集系统
- 本发明公开了一种通用多通道数据采集系统，包括采集卡和主控卡，采集卡采集传感器传来的模拟信号，并将模拟信号采集转换为数字信号，主控卡对数字信号中的数据进行去噪滤波，完成数据的实时校正，上位计算机与主控卡连接，从主控卡写入配...
- 钟玲娜唐小萍胡松严伟胡博
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- 用于非球面计算全息检测的计算机辅助调整装置及方法
- 本发明公开了一种用于非球面计算全息检测的计算机辅助调整装置及方法，相移干涉仪安装在大理石横梁上；计算全息图通过全息调整架与相移干涉仪固定，通过全息调整架调整计算全息图；由检测工装、轴向位移台以及倾斜调整台组成的测量平台安...
- 张帅侯溪严伟胡小川陈强
- 基于CAN总线的运动控制通讯系统设计被引量：3
- 2015年
- 数字量驱动的运动控制要求通讯系统具有良好的实时性和可靠性;设计了一种基于CAN总线的多节点多通道的运动控制通讯系统,以FPGA为节点控制器,通过SJA1000收发运动控制数据,并行发送到各通道驱动器的数模转换器中;FPGA模块由Verilog HDL编写,通过参数传递和生成块的方法简化代码,提高系统的可移植性,移植时只需改变两个常量值即可适应各个节点不同的通道数和位宽;实验表明,通讯系统每帧耗时约120μs,最高帧频可达8.5 kHz,误码率低于10^(-8),实时性和可靠性较好。
- 马驰飞严伟胡松
- 关键词：CAN总线FPGASJA1000运动控制
- 一种可变矩形窗调节机构
- 本发明是一种可变矩形窗调节机构，是采用四组位置探测器和驱动器构成伺服控制系统，分别驱动四块挡板，由四块挡板不同位置，形成大小任意变化的矩形窗。本发明提出一种闭合环形互联结构，即四块挡板两两互相连接，任意两挡板间可以相对移...
- 严伟胡松李艳丽杨勇王建陈铭勇
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- 纳米光刻对准方法及其原理被引量：2
- 2008年
- 对准技术对光刻分辨力的提高有着重要作用。45nm节点以下的光刻技术如纳米压印等,对相应的对准技术提出了更高的要求。对光刻技术发展以来主要用于接近接触式和纳米压印光刻的对准技术做总结分类,为高精度的纳米级光刻对准技术提供理论研究基础和方向。经过分析,从原理上将对准技术分为几何成像对准、波带片对准、干涉光强度对准、外差干涉对准及莫尔条纹等五种对准方法。最后结论得出基于条纹空间相位的对准方法具有最好的抗干扰能力且理论上能达到最高的对准精度,而其他基于光强的对准方法的精度更易受到工艺涂层的影响。因此,基于干涉条纹空间相位对准的方法在纳米级光刻对准中具有很好的理论前景。
- 周绍林唐小萍胡松马平陈旺富杨勇严伟
- 关键词：纳米光刻
- 一种激光双光束干涉光刻系统
- 本发明公开一种激光双光束干涉光刻系统，结合激光场调制技术，通过一次曝光或者多次曝光实现大面积、多样化周期结构和复杂结构的快速纳米尺度的加工。该系统包括：利用数字微镜元件实现光线选通，空间光调制器或者变形镜调制一路入射光相...
- 严伟高洪涛田鹏李凡星彭伏平刘俊伯何渝杨帆吴云飞
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