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刘园园

作品数:5 被引量:8H指数:2
供职机构:重庆大学更多>>
发文基金:国家留学基金国家大学生创新性实验计划国家科技支撑计划更多>>
相关领域:一般工业技术金属学及工艺电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 2篇学位论文
  • 1篇专利

领域

  • 3篇一般工业技术
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇电子电信

主题

  • 5篇溅射
  • 5篇磁控
  • 5篇磁控溅射
  • 2篇晶态
  • 2篇光催化
  • 2篇非晶
  • 2篇非晶态
  • 2篇WO3薄膜
  • 2篇催化
  • 1篇挡板
  • 1篇低辐射
  • 1篇氧化铈
  • 1篇汽车
  • 1篇汽车玻璃
  • 1篇转盘
  • 1篇铝合金
  • 1篇铝合金表面
  • 1篇耐腐蚀
  • 1篇耐腐蚀性
  • 1篇耐腐蚀性能

机构

  • 5篇重庆大学

作者

  • 5篇刘园园
  • 3篇黄佳木
  • 1篇张兴元
  • 1篇尹军
  • 1篇柳红东
  • 1篇赵培
  • 1篇董思勤
  • 1篇吴萌
  • 1篇李璐
  • 1篇何国庆

传媒

  • 1篇化工进展
  • 1篇实验室研究与...

年份

  • 1篇2016
  • 1篇2013
  • 1篇2012
  • 1篇2011
  • 1篇2010
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
JGP-560B磁控溅射仪基片台的改进被引量:1
2013年
针对JGP-560B型磁控溅射仪存在基片台可放置基片的数量及尺寸有限、同批不同样品成分的一致性难以保证等问题,将设备的基片挡板转盘改进成了一次可放置较多数量基片,并能实现连续旋转的新基片台。结果表明:通过优化可编程控制器端口的接线,既保留了JGP-560B磁控溅射仪的原设计功能,又实现了挡板转盘的软件可控连续旋转,且可通过LED灯指示挡板转盘的旋转状态;在挡板转盘上,根据靶离子的有效溅射范围设计的5个基片位,满足了一次最多可放置20片载玻片基片的实验需求。该技术改进有效满足了多基片一次性沉积均一多元薄膜的实验要求,为JGP-560B磁控溅射仪基片台的技术改进提供了改进思路和有效方案。
张兴元何国庆刘园园黄佳木
关键词:磁控溅射可编程控制器
一种氮化铝钛介质层低辐射薄膜及其制备工艺
一种氮化铝钛介质层低辐射薄膜及其制备工艺,属于功能薄膜技术领域。本发明采用磁控溅射法制备一种氮化铝钛介质层低辐射薄膜,其膜层结构从衬底基片往上依次为:内层氮化铝钛介质层、银层、外层氮化铝钛介质层。该膜层可见光透过率高,红...
黄佳木尹军香承杰吴萌柳红东刘园园
文献传递
2024-T3铝合金表面磁控溅射沉积氧化铈基涂层的制备及耐腐蚀性能研究
金属材料的腐蚀与防护一直是航空航天、汽车等工业领域的研究热点。国内外大量研究集中于采用表面涂层工艺增强铝合金的耐腐蚀性能。其中,铝合金表面沉积铬基涂层是过去80年里在航空航天和汽车工业领域应用最广泛的、耐腐蚀效果最好的、...
刘园园
关键词:氧化铈铝合金磁控溅射耐腐蚀性能
非晶态WO3薄膜的制备及光催化性能研究
随着工业的发展,大量的废水废物带来严重的环境污染问题,而传统的治理方法已不能满足人们的需求,在治理过程中如何利用清洁能源、避免产生二次污染成为人们关注的热点。光催化氧化技术能完全矿化目标污染物、无二次污染,从而在废水治理...
刘园园
关键词:光催化活性表面形貌
文献传递
磁控溅射制备非晶态WO_3薄膜的光催化性能被引量:3
2010年
采用射频反应磁控溅射工艺在玻璃基片上沉积了非晶态WO3薄膜。通过光催化降解亚甲基蓝和罗丹明B溶液实验,研究了所制WO3薄膜的光催化活性和使用寿命。X射线衍射(XRD)分析表明:所制备的WO3薄膜为非晶态。光催化实验表明:紫外光照3h后,薄膜对亚甲基蓝和罗丹明B溶液的最大降解率分别为83.26%和72.73%。重复使用3次后,薄膜对亚甲基蓝的降解率保持在75%以上,7次使用后薄膜基本丧失光催化活性。采用去离子水超声处理30min的方法可使已失活薄膜对亚甲基蓝的降解率从20%恢复至81%。
黄佳木李璐刘园园赵培董思勤
关键词:WO3薄膜光催化非晶态磁控溅射
共1页<1>
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