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熊孝东

作品数:7 被引量:10H指数:2
供职机构:西安交通大学机械工程学院机械制造系统工程国家重点实验室更多>>
发文基金:国家自然科学基金长江学者和创新团队发展计划高等学校全国优秀博士学位论文作者专项资金更多>>
相关领域:一般工业技术电子电信自动化与计算机技术理学更多>>

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 2篇专利
  • 1篇学位论文

领域

  • 1篇机械工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 2篇单色仪
  • 2篇压印
  • 2篇荧光
  • 2篇占空比
  • 2篇三维流
  • 2篇三维流场
  • 2篇流场
  • 2篇流体器件
  • 2篇纳米
  • 2篇纳米压印
  • 2篇抗蚀剂
  • 2篇测试仪
  • 1篇动力学
  • 1篇特性分析
  • 1篇相互作用
  • 1篇相互作用能
  • 1篇膜厚
  • 1篇可视化实验
  • 1篇宽厚比
  • 1篇分子

机构

  • 7篇西安交通大学

作者

  • 7篇熊孝东
  • 6篇杜军
  • 6篇魏正英
  • 3篇卢秉恒
  • 2篇丁玉成
  • 1篇唐一平
  • 1篇温聚英
  • 1篇何威

传媒

  • 1篇光学精密工程
  • 1篇中国机械工程
  • 1篇高分子材料科...
  • 1篇浙江大学学报...

年份

  • 1篇2012
  • 3篇2011
  • 3篇2010
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
纳米压印中聚合物界面行为的分子动力学被引量:4
2011年
在纳米压印中,模具和聚合物之间的相互作用能对(?)特征的图型转移质量有着重要影响,文中利用分子动力学分别选择聚二甲基硅氧(PDMS),聚乙烯(PE),聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)研究了他们和模具壁面之间在不同距离时,壁面和聚合物之间相互作用能的变化关系,并考虑聚合物填充过程中压强对模具壁面和聚合物之间相互作用的影响,以及聚合物聚合度对他们之间的影响。通过研究得出,聚合物和壁面之间相互作用能随距离的增大而减小,随聚合物聚合度的增加而增大;对于常温紫外压印,压强在233 kPa左右时聚合物和模具壁面间的相互作用能出现了峰值点。
熊孝东魏正英杜军丁玉成
关键词:纳米压印分子动力学相互作用能
微压印过程中抗蚀剂流动分析被引量:2
2010年
为研究微压印过程中低黏度抗蚀剂流动状态对微压印成形精度的影响,对常温压印过程中抗蚀剂流动进行了有限元分析,系统研究了不同结构的模板占空比、宽厚比等压印工艺条件对抗蚀剂填充的影响,以及抗蚀剂流动对软模具的变形影响,得到了单双峰转换曲线及模具结构对抗蚀剂填充效率的影响曲线,从理论上分析了抗蚀剂流动特性,并进行了实验验证,进一步证明了仿真方法的可行性。
温聚英魏正英熊孝东杜军卢秉恒
关键词:占空比宽厚比
离焦数字三维微流场荧光测试仪
离焦数字三维微流场荧光测试仪,包括倒置的荧光显微镜,在荧光显微镜入口光路中设置有物镜,荧光显微镜的侧面接口连接有冷CCD,且在荧光显微镜与物镜之间设置有针孔掩膜板,物镜的上端设置有圆环形的显微镜载物台,显微镜载物台上设置...
魏正英杜军熊孝东卢秉恒
文献传递
微纳压印中聚合物流动和流变特性分析及实验研究
熊孝东
离焦数字三维微流场荧光测试仪
离焦数字三维微流场荧光测试仪,包括倒置的荧光显微镜,在荧光显微镜入口光路中设置有物镜,荧光显微镜的侧面接口连接有冷CCD,且在荧光显微镜与物镜之间设置有针孔掩膜板,物镜的上端设置有圆环形的显微镜载物台,显微镜载物台上设置...
魏正英杜军熊孝东卢秉恒
常温微压印中抗蚀剂流动的研究及工艺优化被引量:4
2010年
为提高微压印中抗蚀剂的复型精度,利用POLYFLOW,基于流固耦合方法对常温压印过程中抗蚀剂的流动进行了有限元模拟,系统地分析了抗蚀剂的初始厚度,留膜厚度,模具的深宽比,占空比,模具下压速度等因素对抗蚀剂流动填充的影响规律。搭建了压印的可视化实验平台,通过该平台对不同工艺条件(包括抗蚀剂的初始厚度,留膜厚度以及模具的下压速度)及软模具结构(深宽比,占空比)下抗蚀剂的流动填充过程及其填充形貌进行了实时观测,并与数值计算结果进行比较。结果表明,在不影响填充效率的情况下,采用低速下压(≤1μm/s)方式,在占空比>0.375,深宽比<2时,填充度可达到90%以上。仿真和实验验证了优化的压印工艺条件和模具结构。另外,本文还引入了增加模板特征高度预留量的概念,可进一步提高复型精度。
魏正英熊孝东杜军丁玉成
关键词:占空比可视化实验
纳米压印模具及膜厚对抗蚀剂填充特性的影响
2012年
为了揭示模具深宽比、膜厚对抗蚀剂填充特性的影响规律,采用计算流体动力学方法对紫外纳米压印过程进行计算.计算模型考虑了表面张力、接触角等因素,计算分析不同模具凹槽深宽比、抗蚀剂初始膜厚时对应的抗蚀剂填充形貌.通过分析发现,在抗蚀剂初始膜厚一定的条件下,随着模具凹槽深宽比的减小,抗蚀剂倾向以双峰模式填充凹槽,填充廓线峰值点沿水平方向呈阶梯形迁移,深宽比越小,阶梯效应越明显.当抗蚀剂初始膜厚减小时,抗蚀剂填充方式将由单峰模式向双峰模式转换,在双峰模式下抗蚀剂填充率随填充时间的变化率呈明显的非线性特征.通过分析厚宽比TWR发现,单、双峰转换的临界范围为5∶8
杜军魏正英熊孝东何威唐一平
关键词:纳米压印
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