薛虹
- 作品数：48 被引量：21H指数：3
- 供职机构：中国科学院电工研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划国家重点基础研究发展计划更多>>
- 相关领域：电子电信自动化与计算机技术电气工程机械工程更多>>
- 实用化电子束曝光机的真空系统
- 本文简述了实用化电子束曝光机真空系统设计要求、系统组成、真空自动控制及设备所达到的真空指标.
- 薛虹顾文琪刘俊标初明璋唐晖徐彧
- 关键词：电子束曝光自动控制真空系统
- 文献传递
- 基于SEM的纳米级电子束曝光机系统设计
- 本文主要介绍基于扫描电子显微镜(SEM)纳米级实用化电子束曝光机系统的研究内容、主要技术指标及曝光工艺实验的结果.
- 顾文琪薛虹韩立刘俊标初明璋
- 关键词：电子束曝光机系统设计扫描电子显微镜
- 文献传递
- 基于DSP新型图形发生器模数转换器的设计
- 2004年
- 介绍了一种电子束曝光机图形发生器模数转换器的设计方案,该设计方案以ADI公司的模数转换芯片AD9223为核心,根据电子束曝光机背散射信号的特点,设计了合理的前端放大器和驱动电路及基准源。这样,提供了与DSP的无缝接口并提高了转换速度。该模数转换器可用于电子束和离子束曝光机中的图形发生器采集标记数据和图像数据信息,同时也可用于原子力显微镜采集图像数据信息。
- 袁修鹏薛虹方光荣
- 关键词：模数转换器图形发生器仪表放大器
- 基于DSP图形发生器曝光算法的研究
- 2004年
- 新型图形发生器使用DSP控制曝光过程,因此要求DSP程序高效地控制电子束实现图形的高精度扫描。而以往的算法(包括Bresenham算法)无法满足电子束扫描的特殊性,因此提出一种DSP实现曝光的算法。分析了Bresenham算法的缺陷,同时对提出的新算法进行工作效率的理论分析和曝光数据的采集对比,结果证明该算法是一种能够保证精度和效率的算法。同时还探讨了斜矩形不分割的曝光算法。
- 杨浩伟张今朝薛虹
- 关键词：图形发生器DSPBRESENHAM算法
- 电子束退火制备二硼化镁超导薄膜的方法
- 一种电子束退火制备二硼化镁超导薄膜的方法，该方法采用电子束在真空中对二硼化镁先驱膜进行退火，在秒数量级的退火时间内使先驱膜中的镁、硼单质发生化学反应最终生成二硼化镁超导薄膜。退火时电子束参数和退火时间依据不同的前驱膜厚度...
- 孔祥东韩立薛虹初明璋李建国林云生方光荣
- 文献传递
- 电子束缩小投影成像曝光系统研究
- 顾文琪张福安方光荣薛虹靳鹏云彭开武张今朝唐晖初明璋吴桂君王理明
- 该项目通过对电子束缩小投影成像曝光系统的关键技术及相关部件的研究，探索纳米级缩小投影成像曝光、散射型掩模制备及角度限制机理和高精度对准定位等核心技术。项目组制定了详细又切合实际的总体方案和合理可行的技术路线。为加快研究进...
- 关键词：
- ＤＹ－７型深亚微米电子束曝光系统的研究
- 主要介绍深亚微米电子束曝光机的实验研究及各种部件性能指标，并重点论述偏转器的优化设计。
- 王理明张福安薛虹顾文琪
- 关键词：电子束曝光机偏转器
- 文献传递网络资源链接
- 0.1微米电子束曝光实验装置的实用化研究
- 本文主要论述0.1微米电子束曝光机实用化研究的内容.简介系统的组成及达到的主要性能指标.
- 薛虹顾文琪张福安课敏唐晖张今朝
- 关键词：电子束曝光机性能指标系统组成
- 文献传递
- 0.1微米电子束曝光实验装置的研制
- 顾文琪张福安王理明薛虹潭敏唐晖陈志琪安秉谦张今朝王启祥卢维美王岩红
- “0.1微米电子束曝光及实验装置的研制”是中国科学院“九五”应用研究与发展重大项目。该装置也是我国第一台自行研制的0.1微米电子束曝光机。微电子光刻设备是制造大规模集成电路的先导和基础。在众多的微电子设备中，以电子束...
- 关键词：
- 关键词：电子束曝光机光刻技术
- 电子束退火制备二硼化镁超导薄膜的可行性研究被引量：3
- 2012年
- 提出了电子束退火制备MgB2超导薄膜新工艺。在对电子束退火制备MgB2超导薄膜可行性进行理论研究的基础上,使用EBW-6型电子束热处理设备,在真空度5.0×10-3Pa、加速电压40 kV、束流2mA、束斑14.2mm、退火时间1.5 s的条件下对[B(10 nm)/Mg(15 nm)]4/SiC夹层结构前驱膜进行了退火实验,得到了零电阻温度为30.3K、转变宽度ΔTc为0.4K、临界电流密度(5 K、0 T)为5.0×106A/cm2、表面平整的MgB2超导薄膜。证明了电子束退火制备MgB2薄膜是切实可行的。该工艺可以推广到大面积MgB2超导薄膜和MgB2线带材的制备。
- 孔祥东戴倩韩立冯庆荣初明璋薛虹李建国
- 关键词：MGB2超导薄膜SIC衬底
