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张瀚

作品数:15 被引量:2H指数:1
供职机构:清华大学更多>>
发文基金:国家科技重大专项更多>>
相关领域:电子电信文化科学自动化与计算机技术机械工程更多>>

文献类型

  • 12篇专利
  • 2篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 1篇机械工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇文化科学

主题

  • 7篇精细化
  • 7篇基台
  • 4篇温度场
  • 3篇调节温度
  • 3篇气相沉积
  • 3篇阻抗
  • 3篇温度
  • 3篇金属
  • 3篇金属基
  • 3篇化学气相
  • 3篇化学气相沉积
  • 3篇功率
  • 2篇电阻
  • 2篇通量
  • 2篇托盘
  • 2篇气流分布
  • 2篇曲面
  • 2篇耦合技术
  • 2篇温度场分布
  • 2篇模块化

机构

  • 15篇清华大学
  • 1篇重庆大学

作者

  • 15篇张瀚
  • 14篇向东
  • 13篇夏焕雄
  • 13篇杨旺
  • 12篇牟鹏
  • 12篇刘学平
  • 10篇王伟
  • 1篇杨为
  • 1篇王伟

传媒

  • 1篇机械设计与制...
  • 1篇人工晶体学报

年份

  • 2篇2017
  • 3篇2016
  • 4篇2015
  • 6篇2014
15 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
一种精细调控PECVD晶圆温度的设计及其仿真分析
2015年
为在等离子增强型化学气相沉积工艺过程中,实现对晶圆平均温度及温度分布轮廓的精细化调控。采用Comsol软件建立热流仿真模型,通过调节冷却气体的进气流量,调节晶圆平均温度;通过调节布气板环形气道宽度,调节晶圆的温度分布轮廓。结果表明,与不通冷却气体时相比,当气体流量为70 000m L/min时,晶圆表面平均温度从430℃降到预设温度220℃;当布气板环形气道宽度从中心到边缘分别为0.5mm、8.0mm、2.0mm、1.0mm、0.5mm时,晶圆表面温度分布变异系数小于2%。该方法实现了在工艺过程中对晶圆平均温度及分布轮廓的有效控制,为薄膜沉积工艺提供了均匀的热场分布。
张瀚向东杨旺
关键词:温度控制晶圆
一种可用于功率场空间分布精细控制的基台及控制方法
本发明涉及一种可用于功率场空间分布精细控制的基台及控制方法,属于化学气相沉积技术领域。在基台金属基底上设置若干个绝缘层,绝缘层将基台金属基底分成不同直径的环形或扇形区域;在基台金属基底内部、各绝缘层分隔的环形或扇形区域内...
向东杨旺夏焕雄张瀚王伟牟鹏刘学平
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用于工艺腔室的基台及其控制方法、托盘及其设计方法
本发明公开了一种用于工艺腔室的基台及其控制方法、托盘及其设计方法。其中所述托盘包括:绝缘隔热层,绝缘隔热层在同一平面上组成多个相互绝缘和/或隔热的子区域;多个子基底,多个子基底分别设置在多个相互绝缘和/或隔热的子区域中,...
向东夏焕雄杨旺牟鹏张瀚王伟刘学平
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一种可快速精细调节温度场空间分布的加热盘及控制方法
本发明涉及一种可快速精细调节温度场空间分布的加热盘及控制方法,属于加热盘的精细控制技术领域。在加热盘金属基体上设置若干个隔热层,隔热层将加热盘金属机体分成不同直径的环形或扇形区域;在加热盘金属基体内部、各隔热层分隔的环形...
向东杨旺夏焕雄牟鹏张瀚王伟刘学平
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用于工艺腔室的基台及其控制方法、托盘及其设计方法
本发明公开了一种用于工艺腔室的基台及其控制方法、托盘及其设计方法。其中所述托盘包括:绝缘隔热层,绝缘隔热层在同一平面上组成多个相互绝缘和/或隔热的子区域;多个子基底,多个子基底分别设置在多个相互绝缘和/或隔热的子区域中,...
向东夏焕雄杨旺牟鹏张瀚王伟刘学平
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一种可用于功率场空间分布精细控制的基台及控制方法
本发明涉及一种可用于功率场空间分布精细控制的基台及控制方法,属于化学气相沉积技术领域。在基台金属基底上设置若干个绝缘层,绝缘层将基台金属基底分成不同直径的环形或扇形区域;在基台金属基底内部、各绝缘层分隔的环形或扇形区域内...
向东杨旺夏焕雄张瀚王伟牟鹏刘学平
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一种用于调节温度和功率空间分布的梯度阻抗模块
本发明属于化学气相沉积工艺腔室物理场耦合技术领域,特别涉及一种用于调节温度和功率空间分布的梯度阻抗模块。该阻抗模块设置在化学气相沉积设备的基台和衬底之间,阻抗模块由阻抗模块绝缘隔热层分隔为若干个阻抗介质区;阻抗模块一侧为...
向东夏焕雄王伟杨旺张瀚牟鹏刘学平
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基于Agent模型的PECVD仿真软件系统设计与开发
等离子增强化学气相沉积(PECVD)在半导体及薄膜材料制备中应用广泛,是重要的薄膜沉积工艺方法之一,其特点为工艺腔室内部系统复杂,涉及温度场、流场、电磁场、等离子场等一系列物理场以及化学反应。随着信息业的发展和产品更新换...
张瀚
关键词:PECVD软件系统开发
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一种用于调节温度和功率空间分布的梯度阻抗模块
本发明属于化学气相沉积工艺腔室物理场耦合技术领域,特别涉及一种用于调节温度和功率空间分布的梯度阻抗模块。该阻抗模块设置在化学气相沉积设备的基台和衬底之间,阻抗模块由阻抗模块绝缘隔热层分隔为若干个阻抗介质区;阻抗模块一侧为...
向东夏焕雄王伟杨旺张瀚牟鹏刘学平
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一种面向工艺腔室气流分布调节的CVD设备喷淋头
本发明涉及一种化学气相沉积设备领域,特别涉及一种面向工艺腔室气流分布调节的CVD设备喷淋头。该喷淋头上设置若干个台阶形的喷淋孔,喷淋孔由上部直径较大的圆孔和下部直径较小的圆孔构成;通过使台阶深度、大孔孔径、小孔孔径中的一...
向东夏焕雄张瀚杨旺王伟牟鹏刘学平
文献传递
共2页<12>
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