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李林松

作品数:4 被引量:0H指数:0
供职机构:武汉邮电科学研究院更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:理学电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 2篇会议论文

领域

  • 2篇电子电信
  • 2篇理学

主题

  • 3篇端面
  • 3篇激光
  • 3篇激光器
  • 3篇发光
  • 3篇发光管
  • 3篇辐射发光
  • 3篇超辐射
  • 3篇超辐射发光管
  • 2篇减反射膜
  • 2篇放大自发辐射
  • 2篇半导体
  • 2篇半导体激光
  • 2篇半导体激光器
  • 1篇通信
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米压印
  • 1篇光通信
  • 1篇DFB激光器
  • 1篇DWDM

机构

  • 4篇武汉邮电科学...
  • 1篇华中科技大学

作者

  • 4篇李林松
  • 4篇王定理
  • 3篇刘涛
  • 3篇甘毅
  • 3篇邬江帆
  • 3篇常进
  • 3篇张军
  • 3篇刘应军
  • 3篇黄晓东
  • 1篇邱飞
  • 1篇刘文
  • 1篇周宁
  • 1篇徐志谋
  • 1篇曹明德
  • 1篇张义文
  • 1篇王磊

传媒

  • 1篇光学仪器
  • 1篇China ...
  • 1篇中国光学学会...

年份

  • 1篇2010
  • 3篇2004
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
超辐射发光管端面AR膜的设计与制备
2004年
在中心波长1310nm的InGaAsP半导体激光器端面设计并镀制了剩余反射率小于0.03%的三层减反射膜,得到了放大自发辐射波纹小于0.5dB的超辐射发光管。
常进张军王定理刘应军甘毅李林松黄晓东刘涛邬江帆
关键词:超辐射发光管放大自发辐射半导体激光器
采用纳米压印技术制作DWDM激光器的研究
2010年
适合DWDM系统应用的高性能DFB半导体激光器是现代光通信系统中发射机的核心光电子器件,光栅的设计和制作是决定器件性能的关键因素之一。目前,基于MOCVD设备的材料外延技术趋于稳定,高速器件封装技术也已经成熟,满足DWDM需求的DFB光栅的加工渐渐成为进一步降低成本的一个瓶颈。本文利用纳米压印技术制作DFB激光器光栅。结果表明,利用纳米压印技术制作出来的DFB激光器性能不逊于用EBL直接制作出的高性能激光器,不仅可以满足DWDM系统的要求,而且还具有生产效率高、成本低的优点。
刘文王磊周宁张义文邱飞徐志谋王定理李林松曹明德
关键词:DFB激光器纳米压印DWDM光通信
超辐射发光管端面AR膜的设计与制备
在中心波长1310nm的InGaAsP半导体激光器端面设计并镀制了剩余反射率小于0.03%的三层减反射膜,得到了放大自发辐射波纹小于0.5dB的超辐射发光管。
常进张军王定理刘应军甘毅李林松黄晓东刘涛邬江帆
关键词:超辐射发光管放大自发辐射
文献传递
超辐射发光管端面AR膜的设计与制备
在中心波长1310nm 的InGaAsP 半导体激光器端面设计并镀制了剩余反射率<0.03﹪ 的三层减反射膜,得到了波纹小于0.5dB 的超辐射发光管。
常进张军王定理刘应军甘毅李林松黄晓东刘涛邬江帆
关键词:超辐射发光管半导体激光器
文献传递
共1页<1>
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