王琼
- 作品数：10 被引量：14H指数：2
- 供职机构：兰州理工大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金甘肃省自然科学基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术理学化学工程机械工程更多>>
- 一种Ti-Si-C纳米复合薄膜的制备方法
- 一种Ti-Si-C纳米复合薄膜的制备方法，其目的是提供一种在大气和水环境中都具有低摩擦系数的Ti-Si-C纳米复合薄膜的制备方法，利用非平衡中频磁控溅射技术，使用TiSi条和石墨条按不同比例拼装成靶材，以氩气为溅射气体，...
- 姜金龙朱维君黄浩陈娣王琼杨华魏智强
- 文献传递
- 电化学沉积石墨烯/TiO2掺杂类金刚石碳膜的场发射性能研究
- 利用液相电化学沉积技术，以分析纯的N,N-二甲基甲酰胺(DMF)为电解液在单晶硅上制备了石墨烯(graphene)和TiO2掺杂的类金刚石(DLC)薄膜，探讨了沉积电压、TiO2含量和紫外光辐照对薄膜的表面形貌、微结构以...
- 王琼
- 关键词：电化学沉积类金刚石薄膜石墨烯二氧化钛场发射
- 文献传递
- 基于3D打印网络结构预制体的SiC/Al-Mg复合材料制备工艺
- 三维互穿网络结构Si C/Al复合材料以其独特的微观结构和卓越的综合性能而备受重视。不同于Si C颗粒弥散分布于Al基体相中的常规复合材料,互穿网络复合材料中Si C相和Al合金相互相渗透形成网络结构,它们之间的协同作用...
- 王琼
- 关键词：SIC/AL复合材料3D打印预制体
- 钛硅多元掺杂类金刚石薄膜在不同气氛环境下的摩擦学性能研究被引量：4
- 2013年
- 采用中频磁控溅射技术在单晶硅表面制备了钛硅多元掺杂的含氢类金刚石薄膜.在球-盘摩擦试验机上考察了不同气氛环境对薄膜摩擦学性能的影响.利用扫描电子显微电镜和拉曼光谱分析了磨损表面形貌和转移层结构,探讨了薄膜的摩擦磨损机理.结果表明:薄膜在真空和氮气环境下摩擦系数较小、磨损率低,表现为磨粒磨损;在氧气和高湿度大气环境下摩擦系数较大、磨损率高,表现为黏着磨损;在低湿度空气环境下薄膜摩擦系数最低,表现为磨粒磨损和黏着磨损混合磨损机理;转移层发生摩擦诱导石墨化和聚乙炔链CC键双氢化两种摩擦化学过程.
- 姜金龙黄浩陈娣王琼冯旺军郝俊英
- 关键词：类金刚石薄膜中频磁控溅射摩擦学性能
- 基于3D打印预制体的SiC/Al-Mg复合材料组织与性能被引量：1
- 2022年
- 以3D打印网络结构SiC预制体结合Al-Mg合金的熔体浸渗工艺,制备出互穿网络结构SiC/Al-Mg复合材料,表征了复合材料的微观组织、力学性能和摩擦性能,分析了浸渗温度的影响。结果表明,在910~950℃,铝合金能完全浸渗3D打印的层级网络结构SiC,复合材料微观组织由互穿的铝合金和“壳-芯”结构网络框架构成。提高浸渗温度促进了反应发生和组织均匀,浸渗温度为930℃时,SiC/Al-Mg复合材料综合性能最佳,抗压强度和硬度(HV)达到425MPa和557,磨损率为3.37×10^(-7)cm^(3)/(N·m)。
- 王琼王琼
- 关键词：互穿网络结构3D打印微观结构
- 甲烷流量对中频磁控溅射制备TiSi-C：H薄膜生长和性能的影响(英文)被引量：1
- 2014年
- 以甲烷为先驱气体通过中频磁控溅射Ti80Si20靶材在硅和不锈钢基底上制备TiSi-C:H薄膜,研究了甲烷流量对薄膜沉积速率、结构、力学和摩擦学性能的影响。结果表明,甲烷流量对薄膜结构、力学和摩擦学性能有显著影响,随甲烷流量增加薄膜从包含约10 nm晶的锥状纳米晶/非晶复合结构向非晶结构转变,在低甲烷流量下沉积的薄膜具有高硬度、高应力和高磨损率;在高甲烷流量下薄膜硬度和应力降低,而摩擦学性能提高。薄膜力学和摩擦学性能的变化被认为是随甲烷流量增加薄膜结构演化的结果。
- 姜金龙陈娣王琼黄浩朱维君郝俊英
- 关键词：中频磁控溅射力学性能
- 紫外光辐照下钛硅共掺杂类金刚石薄膜微结构的演化被引量：1
- 2014年
- 采用中频磁控溅射Ti80Si20合金靶在单晶硅表面制备了钛硅共掺杂的类金刚石薄膜。利用紫外–可见光多波长Raman光谱表征薄膜微结构,并结合FTIR光谱研究了紫外光辐照对类金刚石薄膜微结构的影响,进一步讨论了紫外光辐照下薄膜微结构的演化机理。结果表明:非晶结构的类金刚石薄膜出现反式聚乙炔和聚对苯乙炔类聚合物结构以及sp杂化的线型卡宾碳结构。紫外光辐照诱导薄膜微结构驰豫和重构,薄膜Si–O和C–O键含量增加,C=C和C–H键含量减少;同时薄膜sp2团簇尺寸减小而无序度增大。
- 姜金龙王琼黄浩张霞王玉宝耿庆芬
- 关键词：类金刚石薄膜紫外光辐照
- 石墨烯/类金刚石碳复合薄膜的电化学沉积及其场发射性能
- 2016年
- 采用液相电化学方法在硅基底上制备了石墨烯掺杂的类金刚石碳复合薄膜,探讨了电化学沉积复合薄膜的机理。利用扫描电子显微镜(SEM)、拉曼光谱(Raman)、透射电子显微镜(TEM)和傅里叶变换红外(FTIR)光谱技术对薄膜表面形貌和微观结构进行了分析表征。结果表明,石墨烯片均匀分散沉积在含氢类金刚石碳(a-C:H)基体中,沉积的石墨烯/类金刚石(G/a-C:H)复合薄膜表面相对均匀平整。场发射测试显示石墨烯掺杂使开启电场从4.7 V?μm^(-1)增加至5.8 V?μm^(-1),场发射电流密度从384μA?cm^(-2)显著增加至876μA?cm^(-2)。
- 姜金龙张霞杜金芳王琼戴剑锋魏智强
- 关键词：类金刚石碳膜石墨烯电化学沉积场发射
- 沉积温度对钛硅共掺杂类金刚石薄膜生长、结构和力学性能的影响被引量：6
- 2014年
- 采用中频磁控溅射Ti80Si20复合靶在单晶硅表面制备了共掺杂的类金刚石薄膜.研究了沉积温度对薄膜生长速率、化学成分、结构、表面性质和力学性能的影响.结果表明:随沉积温度升高,薄膜生长速率降低,薄膜Ti和Si原子浓度增加,C原子浓度降低;在高温下沉积的薄膜具有低sp3C含量、低表面接触角、低内应力和高的硬度与弹性模量.基于亚表层注入生长模型分析了沉积温度对薄膜生长和键合结构的影响,从薄膜生长机制和微观结构解释了表面性质和力学性能的变化.
- 姜金龙黄浩王琼王善民魏智强杨华郝俊英
- 关键词：类金刚石薄膜共掺杂沉积温度
- 氩离子溅射刻蚀对Ti-Si-C纳米复合薄膜XPS分析的影响被引量：1
- 2014年
- 通过中频非平衡磁控溅射Ti80Si20复合靶在氩气和甲烷混合气氛中沉积Ti-Si-C复合薄膜。采用X射线衍射仪、Raman光谱和X射线光电子能谱分析薄膜微结构。结果显示:制备的薄膜为非晶碳(a-C:Si:H)包裹约10 nm TiC晶粒的复合结构,氩离子溅射刻蚀对XPS分析结果有显著影响。随氩离子刻蚀溅射刻蚀时间增加,薄膜表面C、O原子含量明显降低,而Ti、Si原子含量增加。氩离子溅射刻蚀导致薄膜非晶碳相发生石墨化转变,即sp3C-C(H)/sp2C-C比率减小,同时,C-Ti*/C-Ti和C-(Ti+Ti*)/C-C强度比明显增加。
- 姜金龙陈娣王琼杨华魏智强
- 关键词：X射线光电子能谱
