吴忠振
- 作品数：83 被引量：97H指数：7
- 供职机构：北京大学深圳研究生院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金教育部“新世纪优秀人才支持计划”先进焊接与连接国家重点实验室开放课题研究基金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺一般工业技术理学文化科学更多>>
- 高功率复合脉冲磁控溅射离子注入与沉积方法
- 高功率复合脉冲磁控溅射离子注入与沉积方法，属于材料表面处理技术领域，本发明为解决采用通过在工件上施加负高压脉冲的方法存在大颗粒；薄膜沉积效率低的问题。本发明方法包括：一、将工件置于真空室内的样品台上，工件接高压脉冲电源，...
- 田修波吴忠振巩春志杨士勤
- 一种用于锂电池的正极材料及其制备方法
- 本申请公开了一种用于锂电池的正极材料及其制备方法。本申请的正极材料，其的主要活性成份为微米级的高容量活性材料，高容量活性材料的表面均匀的包覆有至少一层纳米磷酸铁锂层。本申请的正极材料，创造性的采用循环稳定性好而容量低的正...
- 吴忠振季顺平林海潘锋
- 文献传递
- 一种超疏水材料及其制备方法
- 本发明公开一种超疏水材料及其制备方法。所述超疏水材料具有荷叶状纳米结构。所述荷叶状纳米结构，类似T型结构，不需要使用有机低表面能物质改性就可直接实现超疏水性，这种仅靠结构调控实现超疏水性的材料具有较好的稳定性。所述具有荷...
- 吴忠振杨超季顺平马正永
- 文献传递
- 一种超疏水材料及其制备方法和应用
- 一种超疏水材料及其制备方法和应用。所述超疏水材料，其疏水表面由正表面能材料、负表面能材料和微纳米空隙组成。所述超疏水材料，通过在疏水表面引入负表面能材料和微纳米空隙设计，在不使用低表面能的有机物质的情况下，具有超疏水性能...
- 潘锋吴忠振刘亮亮李舜宁
- 一种用于微弧氧化的电解液、微弧氧化方法及应用
- 本申请公开了一种用于微弧氧化的电解液、微弧氧化方法及应用。本申请用于微弧氧化的电解液，包括终浓度为5‑50g/L的磷酸盐、1‑15g/L的含铁化合物和1‑10g/L的络合剂，溶剂为蒸馏水；含铁化合物为二价铁化合物和/或三...
- 吴忠振季顺平翁宇昌马正永林海潘锋
- 文献传递
- 高脉冲功率磁控溅射电源及放电特性研究
- <正>高脉冲功率磁控溅射(HPPMS)技术是最近发展起来的一种新型磁控溅射技术。由于在高功率脉冲期间,溅射粒子离化率很高,有时可达70-80%,因此HPPMS模式制备的膜层致密、性能优良,HPPMS可以被看做为'无大颗粒...
- 田修波吴忠振巩春志杨士勤
- 文献传递
- 一种CrN涂层、制备方法及应用
- 本发明公开了一种CrN涂层、制备方法及应用，其中，CrN涂层为纳米孪晶结构。本发明采用筒形金属等离子体源结合磁控溅射技术，对金属离子的纯化和能量的精确控制，可实现高密度纳米孪晶结构在CrN陶瓷涂层中的生成。纳米孪晶结构能...
- 吴忠振李体军肖舒刘亮亮林海潘锋
- 高压耦合高功率脉冲磁控溅射的增强放电效应被引量：5
- 2014年
- 等离子体源离子注入与沉积技术作为一种可生产高结合力、高致密度涂层的真空镀膜技术,具有广阔的应用前景,尤其适用于高载荷工况下服役的功能涂层制备.该技术中金属等离子体源是关键,而现有的脉冲阴极弧源结构复杂,且由于伴随"金属液滴"而需要增加过滤装置.本文研究了另一种简单结构的金属等离子体源备选一高功率脉冲磁控溅射源(HPPMS)的放电特性,采用等离子体发射光谱仪探索了不同的耦合高压对HPPMS放电靶电流特性和等离子体特性的作用.发现耦合高压对HPPMS放电有明显的促进作用,相同靶电压下的放电强度大幅增加,相对于金属放电,耦合高压对气体放电的促进作用更加明显,但在自溅射为主的高压放电阶段对金属放电的促进作用明显增强.讨论了耦合高压对HPPMS放电的增强机制,发现耦合高压自辉光放电、耦合高压和HPPMS电压构成双向负压形成的空心阴极效应,以及耦合高压鞘层改善的双极扩散效应都对HPPMS放电的增强有明显作用.
- 吴忠振田修波潘锋Ricky K.Y.Fu朱剑豪
- 关键词：等离子体发射光谱
- 筒内高功率脉冲磁控放电的电磁控制与优化被引量：5
- 2017年
- 高功率脉冲磁控溅射(Hi PIMS)技术被提出以来就受到广泛关注,其较高的溅射材料离化率结合适当的电磁控制,可产生高致密度、高结合力和高综合性能的涂层,但其沉积速率低、放电不稳定、溅射材料离化率差异较大.我们设计了一种筒形溅射源,通过对结构的设计优化,利用类空心阴极放电效应,使问题得到解决.然而其靶面切向磁场不均匀,电子逃逸严重,进而造成等离子体密度偏低,且放电不均匀.本文通过对其放电和等离子体分布进行仿真,提出电场阻挡和磁铁补偿两种方案,研究了不同电场控制条件下的放电行为和等离子体分布.结果表明:增加电子阻挡屏极可以生成势阱,从而有效抑制电子从边缘的逸出;优化后的磁铁补偿可以显著提高靶面横向磁场的均匀性及靶面利用率.两种方案同时作用时,Hi PIMS放电刻蚀环面积更大、且更加均匀.
- 崔岁寒吴忠振肖舒刘亮亮郑博聪林海傅劲裕田修波朱剑豪谭文长潘锋
- 关键词：磁场补偿
- 一种等离子体源及其用于镀膜的装置、系统和方法
- 本公开提供了一种等离子体源及其用于镀膜的装置、系统和方法，等离子体源包括：中空圆柱筒状外壳，及层设于所述外壳内的冷却系统、绕制线圈、套筒和磁控靶，所述磁控靶嵌于所述套筒内，所述冷却系统靠近所述套筒设置。通过调节绕制线圈电...
- 吴忠振李体军崔岁寒
- 文献传递
