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杨伟锋

作品数:7 被引量:24H指数:3
供职机构:厦门大学物理与机电工程学院物理学系更多>>
发文基金:厦门市科技计划项目更多>>
相关领域:理学电子电信机械工程一般工业技术更多>>

文献类型

  • 7篇中文期刊文章

领域

  • 5篇理学
  • 2篇电子电信
  • 1篇机械工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 3篇4H-SIC
  • 2篇导电薄膜
  • 2篇透明导电
  • 2篇透明导电薄膜
  • 2篇退火
  • 2篇光电
  • 2篇SIC
  • 2篇AZO薄膜
  • 1篇电子学
  • 1篇射频磁控
  • 1篇射频磁控溅射
  • 1篇探测器
  • 1篇退火温度
  • 1篇退火研究
  • 1篇紫外光电探测...
  • 1篇响应度
  • 1篇金属
  • 1篇刻蚀
  • 1篇溅射
  • 1篇光电探测

机构

  • 7篇厦门大学

作者

  • 7篇吴正云
  • 7篇杨伟锋
  • 4篇吕英
  • 4篇刘著光
  • 3篇黄火林
  • 3篇陈厦平
  • 3篇张峰
  • 2篇杨克勤
  • 2篇蔡加法
  • 1篇朱会丽
  • 1篇林雪娇
  • 1篇庞爱锁
  • 1篇孔令民

传媒

  • 3篇Journa...
  • 1篇光谱实验室
  • 1篇光电子.激光
  • 1篇量子电子学报
  • 1篇福州大学学报...

年份

  • 4篇2008
  • 1篇2007
  • 2篇2005
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
Structural,Electrical,and Optical Properties of Transparent Conductive Al-Doped ZnO Films Prepared by RF Magnetron Sputtering被引量:2
2008年
Highly conductive transparent Al-doped zinc oxide (AZO) films with highly (002)-preferred orientation were successfully deposited on glass substrates at room temperature by RF magnetron sputtering. Optimization of deposition parameters was based on sputtering RF power and Ar pressure in the vacuum chamber. AZO films of 180nm with an electrical resistivity as low as 2.68 × 10^-3 Ω· cm and an average optical transmission of 90% in the visible range were obtained at RF power of 250W and Ar pressure of 1.2Pa. The effect of chemisorption of oxygen on the grain boundary would capture electrons from conduction band and lead the formation of potential barriers among the crystallites,which will influence the electric property of the AZO thin films. The films have satisfactory properties of low resistance and high transmittance for application as transparent conductive electrodes in light emitting diodes (LEDs) and solar cells.
杨伟锋刘著光张峰黄火林吴正云
RF磁控溅射功率对ZnO:Al薄膜结构和性能的影响被引量:12
2008年
采用RF磁控溅射技术以ZnO2Al2O3(2wt%Al2O3)为靶材在石英玻璃衬底上制备多晶ZnO:Al(AZO)薄膜,通过XRD、AFM、AES以及Hall效应、透射光谱、折射率等手段研究了RF溅射功率(50-300w)对薄膜的组织结构和电学,光学性能的影响。分析表明:所制备的AZO薄膜具有c轴择优取向,并且通过对不同功率下薄膜载流子浓度与迁移率的研究发现对于室温下沉积的AZO薄膜,晶粒间界中的O原子吸附是影响薄膜电学性能的主要因素。同时发现当功率为250W时薄膜的电阻率降至最低(3.995×10^-33Ω·cm),可见光区平均透射率为91%。
杨伟锋刘著光吕英黄火林吴正云
关键词:透明导电薄膜AZO薄膜
不同退火温度下金属/4H—SiC Schottky势垒高度的研究被引量:4
2005年
采用磁控溅射的方法在4H-SiC样品上分别沉积四种金属薄膜(Ag,Cu,Ni,Cr)形成Schottky 接触,研究了不同温度退火对Schottky势垒高度的影响。通过对样品的I-V测试结果的拟合,得到各金属/4H-SiC Schottky接触的势垒高度以及理想因子。在反向偏压100V下,样品的反向漏电流小于10-10A,说明样品的反向特性良好。样品经过不同温度的退火后,发现Cu、Ni与4H-SiC的势垒高度(SBH)随退火温度的升高而提高,超过某一温度,其整流特性变差; Ag、Cr的SBH在退火后降低。SBH与金属功函数呈线性关系(Cr金属除外),斜率为0.11。
杨克勤陈厦平杨伟锋孔令民蔡加法林雪娇吴正云
关键词:光电子学4H-SIC退火
氩气压强对射频磁控溅射ZnO∶Al薄膜结构和性能的影响被引量:5
2008年
以ZnO∶Al2O3为靶材在石英玻璃衬底上射频磁控溅射制备多晶ZnO∶A l(AZO)薄膜,通过XRD、AFM以及H all效应、透射光谱等测试研究了RF溅射压强对薄膜结构、电学与光学性能的影响。分析表明:所制备的薄膜具有c轴择优取向,当压强为1.2Pa时薄膜的电阻率降至最低(2.7×10-3Ω·cm)。薄膜在可见光区平均透射率高于90%,光学带隙均大于本征ZnO的禁带宽度。
刘著光杨伟锋吕英黄火林吴正云
关键词:透明导电薄膜AZO薄膜
不同工作压强下ICP刻蚀对SiC表面损伤的研究
2007年
采用CF4/O2作为刻蚀气体,对不同工作压强下ICP刻蚀SiC材料的刻蚀速率以及随之引入的刻蚀损伤进行了研究.结果表明,随着工作压强的增加,ICP刻蚀S iC材料的速率先缓慢增加,然后急剧降低.通过XPS光电子能谱分析发现刻蚀后样品表面的F、O含量均有所增加,表面污染加剧,刻蚀引入的损伤随着工作压强的增加而增加.
吕英庞爱锁杨伟锋陈厦平朱会丽吴正云
关键词:SICICP刻蚀
一维阵列MSM 4H-SiC紫外光电探测器的研制被引量:2
2008年
采用Ni/Au作为肖特基接触制备了一维阵列MSM4H-SiC紫外光电探测器,并测量和分析了阵列器件的I-V、光谱响应特性.结果表明,阵列探测器性能均匀性好,击穿电压均高于100V.阵列中单器件暗电流小,在偏压为20V的时候,最大暗电流均小于5pA(电流密度为5nA/cm2),光电流比暗电流高3个数量级以上.其光谱响应表明,单器件在电压为20V时的响应度约为0.09A/W,比400nm时的比值均大5000倍,说明探测器具有良好的紫外可见比.
杨伟锋蔡加法张峰刘著光吕英吴正云
关键词:4H-SIC响应度
Cu/,Ni/4H-SiC Schottky势垒的退火研究被引量:1
2005年
采用磁控溅射方法分别在n型4H-SiC上沉积Cu,Ni金属薄膜形成Schottky接触,并进行不同温度下的退火,通过I-V和C-V测试,研究不同退火温度对Schottky势垒高度以及理想因子的影响.研究结果表明,对Cu,Ni金属,适当的退火温度能提高其与4H-SiC所形成的Schottky势垒高度,改善理想因子,但若退火温度过高,则会导致接触的整流特性退化.器件在退火前后,反向漏电流都较小.热电子发射是其主要的输运机理.所制备的金属半导体接触界面比较理想,无强烈费米能级钉扎.
杨伟锋杨克勤陈厦平张峰王良均吴正云
关键词:4H-SIC退火
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