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米文搏

作品数：4 被引量：0H指数：0
供职机构：天津大学更多>>
相关领域：理学一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 4篇中文专利

领域

  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 2篇镀膜
  • 2篇镀膜机
  • 2篇射电
  • 2篇溅射
  • 2篇超高真空
  • 1篇氮化
  • 1篇氮化铁
  • 1篇氮化钛
  • 1篇导体
  • 1篇电压
  • 1篇电压稳定
  • 1篇电子能
  • 1篇电子能谱
  • 1篇多晶
  • 1篇仪器
  • 1篇真空度
  • 1篇射电源
  • 1篇数量级
  • 1篇四氧化三铁
  • 1篇膜厚

机构

  • 4篇天津大学

作者

  • 4篇米文搏
  • 4篇白海力
  • 1篇叶天宇
  • 1篇申俊杰
  • 1篇金晶
  • 1篇刘晖
  • 1篇姜恩永

年份

  • 3篇2010
  • 1篇2007
共 4 条 记 录，以下是 1-4
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排序方式：
掺氮细化薄膜中有序化面心四方结构铁铂颗粒尺寸的方法
本发明涉及一种掺氮细化薄膜中有序化面心四方结构铁铂颗粒尺寸的方法，采用超高真空对向靶磁控溅射镀膜机，在对向的靶头上安装一对纯度为99.99％的石墨靶，在C靶的表面均匀放置Fe和Pt各8片，向真空室通入纯度为99.999％...
米文搏金晶白海力
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铬掺杂氮化钛磁性半导体多晶薄膜的制备方法
本发明涉及铬掺杂氮化钛磁性半导体多晶薄膜的制备方法，采用超高真空对向靶磁控溅射镀膜机，在对向的靶头上安装一对纯度为99.99％的Ti靶，在Ti靶的表面放上Cr片，开启对向靶磁控溅射设备，先后启动一级机械泵和二级分子泵抽真...
米文搏叶天宇白海力
具有大的霍尔效应的氮化铁薄膜的制备方法
本发明涉及一种具有大的异常霍尔效应的氮化铁薄膜的制备方法，采用中科院沈阳科学仪器研制中心生产的KPS450型可调三靶超高真空磁控溅射镀膜机，在强磁性靶头上安装一个纯度为99.99％的Fe靶。靶材的厚度为2.3mm，直径为...
米文搏白海力
多晶四氧化三铁薄膜材料的制备方法
本发明涉及多晶四氧化三铁薄膜材料的制备方法。采用对向靶反应溅射法或一般磁控溅射法，其中选用纯度高于99.99％高纯Fe为靶材，溅射装置真空系统的背底真空要求高于1.0×10<Sup>－5</Sup>Pa；反应气体的流量与...
白海力刘晖申俊杰米文搏姜恩永
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