吴奎
- 作品数：14 被引量：47H指数：4
- 供职机构：郧阳师范高等专科学校物理系更多>>
- 发文基金：广东省自然科学基金广东省科技攻关计划广州市科技计划项目更多>>
- 相关领域：理学电子电信环境科学与工程机械工程更多>>
- 紫外可见吸收光谱仪与椭偏测厚仪联用测量透明光电子薄膜的厚度被引量：2
- 2006年
- 采用椭偏测厚仪测量薄膜的折射率，用来修正紫外可见吸收光谱仪极值法测量膜厚的数据。通过制备掺铝氧化锌（ZAO）薄膜及SEM断口观察进行实验验证。证实该修正方法有助于提高膜厚测量精度。联用这2种常规仪器，可以方便地获得0～20μm宽范围的透明光电子薄膜的厚度。数据采集与处理简单快捷，可满足大部分薄膜工艺研究和生产的需要。
- 唐振方叶勤吴奎彭舒
- 关键词：厚度测量吸收光谱仪
- 掺碳可见光TiO2光催化薄膜的制备及性能初探
- 采用物理化学方法低温制备了碳掺杂TiO2薄膜.对薄膜的结构和性能做了表征与分析.XRD结果显示薄膜为锐钛矿结构且没有出现非TiO2结构的特征峰;光响应波长已由纯TiO2薄膜的380nm拓宽到425nm的可见光区;从薄膜表...
- 吴奎阮广福叶勤
- 关键词：光催化薄膜物理化学方法
- 文献传递
- 磁控溅射制备纳米TiO_2半导体薄膜的工艺研究与光谱分析被引量：3
- 2009年
- 通过射频反应磁控溅射在玻璃基片上制备TiO2薄膜。采用X射线衍射仪和Raman光谱仪研究退火温度对薄膜晶体结构的影响;还探讨了磁控溅射氧分压对薄膜性能的影响。结果表明:磁控溅射制备的薄膜在不同温度下退火。300℃退火时薄膜没有结晶;400℃退火出现锐钛矿结构;500℃退火后薄膜锐钛矿结构更完善,(101)方向开始优先生长,是因为锐钛矿结构更完整。随着退火温度的升高晶粒长大拉曼光谱出现红移,拉曼光谱所反应的锐钛矿信息增强,500℃退火时197cm-1出现了Eg振动模式。和标准的单晶TiO2体材料相比,拉曼峰位置都略有红移是纳米量子尺寸效应造成的。氩氧比分别为9∶1、7∶3和6∶4溅射制备的薄膜通过400℃退火后的XRD衍射谱没有明显的区别,但拉曼光谱显示氩氧比为7∶3时结晶要完善些。
- 刘亚丽吴奎王安福
- 关键词：射频反应磁控溅射纳米二氧化钛薄膜锐钛矿
- 磁控溅射制备纳米TiO_2半导体薄膜的工艺研究与晶型分析被引量：2
- 2008年
- 通过射频反应磁控溅射在玻璃基片上制备TiO2薄膜。采用X射线衍射仪、Ranman光谱仪和原子力显微镜研究退火温度对薄膜晶体结构和表面形貌的影响;还探讨了磁控溅射氧分压对薄膜性能的影响。结果表明:磁控溅射制备的薄膜在不同温度下退火,发现300℃退火薄膜没有结晶,薄膜表面呈圆形离散的颗粒状;400℃退火出现锐钛矿结构,是连续的致密均匀薄膜;500℃退火后薄膜锐钛矿结构更完善,(101)方向开始优先生长,空隙率变大,且锐钛矿结构更完整。随着退火温度的升高晶粒长大拉曼光谱出现红移,拉曼光谱所反应的锐钛矿信息增强,500℃退火时197cm-1出现了Eg振动模式。和标准的单晶TiO2体材料相比,拉曼峰位置都略有红移是纳米量子尺寸效应造成的。氩氧比分别为9∶1、7∶3和6∶4溅射制备的薄膜通过400℃退火后的XRD衍射谱没有明显的区别,但拉曼光谱显示氩氧比为7∶3时结晶要完善些。
- 刘亚丽吴奎胡毅叶勤
- 关键词：射频反应磁控溅射纳米二氧化钛薄膜锐钛矿
- 反应溅射掺碳二氧化钛(TiO_(2-x)C_x)薄膜可见光激发的亲水性和光催化特性研究被引量：2
- 2006年
- 采用气体反应磁控溅射方法350℃基底温度制备的碳掺杂TiO2-xCx薄膜为样品,测试其可见光激发的亲水性能和光催化特性,并与纯TiO2薄膜的情况进行了比较。研究发现:用模拟太阳光疝灯的照射TiO2-xCx薄膜5min,水的接触角就降低到3°,同样条件TiO2薄膜降低12°;TiO2-xCx薄膜只需要30min的照射,水的接触角接近到0°,而TiO2薄膜需要45min才能达此效果。在苯酚降解实验中,碳掺杂TiO2-xCx薄膜和纯TiO2薄膜在紫外波段有相当的光催化活性,但在可见光波段,前者表现出显著的可见光响应的光催化活性,用模拟太阳光疝灯的照射5h,TiO2-xCx薄膜对苯酚的降解率达到了41%,而TiO2薄膜仅为27%。
- 叶勤吴奎阮广富
- 关键词：TIO2薄膜亲水性
- ZAO透明导电薄膜的制备及其特性初探
- 用射频磁控溅射ZAO陶瓷靶在石英衬底上制备ZAO透明导电薄膜.由XRD、UV-Vis、(SEM)、原予力AFM等手段研究了薄膜的晶体结构、光学禁带宽度、表面和断面形貌与热处理温度的变化关系.结果表明,低温段300℃以下热...
- 叶勤吴奎
- 关键词：射频磁控溅射导电薄膜晶体结构
- 文献传递
- 射频溅射法和电弧离子镀法制备的纳米TiO_2薄膜性能比较被引量：4
- 2006年
- 采用射频磁控溅射法和电弧离子镀法制备了纳米TiO2薄膜,并利用XRD、UV-VIS、AFM及通过亲水性和光催化实验对两种方法制备的TiO2薄膜进行了对比表征.结果表明,磁控溅射法的薄膜生长速率只有电弧离子镀法的1/30;前者仅需较低的退火温度就能形成完善的锐钛矿结构;虽然两者有相近的紫外吸收边,但是前者有较大的紫外吸收;磁控溅射法制备的TiO2薄膜表面呈现针状晶结构和具有较大的比表面积;在暗室中保存5 h后,磁控溅射法制备的TiO2膜水的接触角恢复到1°,而后者达到20°;对于光催化降解苯酚,前者有较大的降解率.
- 吴奎叶勤
- 关键词：射频磁控溅射电弧离子镀TIO2薄膜亲水性
- 射频磁控溅射法制备纳米TiO_2薄膜的拉曼光谱分析被引量：2
- 2007年
- 采用射频磁控溅射法制备纳米TiO2薄膜,并应用显微拉曼光谱和电子显微镜对薄膜进行微区光分析.通过拉曼光谱研究,一方面有力地揭示出TiO2薄膜的晶体结构,另一方面对薄膜的生长方式提供了线索.薄膜聚集点和平常点上有统一的相结构,电子显微镜观察结果显示薄膜致密均匀.
- 吴奎刘亚丽胡毅
- 关键词：TIO2薄膜磁控溅射拉曼光谱
- 钒离子注入改进Pilkington自洁玻璃材料的亲水性研究被引量：5
- 2006年
- ActivTM玻璃是Pilkington公司推出的具有优异光催化性能和光致亲水性的自洁防雾玻璃,是近几年发展起来的新型建筑材料。其表面的Ti O2薄膜的光催化性和亲水性性能都很稳定,但亲水性的光致响应时间较长。采用钒离子注入工艺对ActivTM玻璃进行掺杂改性,研究了钒离子在不同注入能量、浓度和后处理退火温度的条件下对玻璃光致亲水性的影响。研究表明,钒离子注入能够有效改善玻璃表面Ti O2薄膜的亲水性,而且,较高钒离子注入能量(90keV)和掺杂浓度(6×1016ions/cm2),玻璃光致亲水性要好,在紫外光照射1h后接触角均能小于7°,退火温度取500℃为宜。
- 刘欣唐振方叶勤吴奎张楠
- 关键词：光致亲水性TIO2薄膜离子注入工艺玻璃材料钒离子自洁
- 退火温度与ZAO透明导电薄膜晶体结构及特性关系的研究被引量：4
- 2006年
- 用射频磁控溅射ZAO陶瓷靶的方法在石英衬底上成功制备了ZAO透明导电薄膜。用X射线衍射仪(XRD)、紫外可见(UV-Vis)分光光度计、扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)等手段,研究了薄膜的晶体结构、光学禁带宽度、表面和断面形貌与退火温度的变化关系。结果表明,低温段300℃以下退火的薄膜c轴较ZnO体材料有拉长现象;高温度段500℃到600℃退火的薄膜的晶粒直径变化平稳,其中500℃退火时,c轴也有拉长的效应,且形成良好的c轴趋向柱状晶薄膜;250℃退火时薄膜的光学禁带宽度最大,薄膜表面均匀致密,晶粒充分团聚结晶。
- 叶勤吴奎
- 关键词：射频磁控溅射ZAO薄膜退火温度
