周礼书
- 作品数：42 被引量：117H指数：6
- 供职机构：成都精密光学工程研究中心更多>>
- 发文基金：国家重点实验室开放基金国家高技术研究发展计划国防科技技术预先研究基金更多>>
- 相关领域：电子电信机械工程理学核科学技术更多>>
- ICF系统多用途光栅的分析模拟被引量：2
- 2006年
- 多用途光栅的使用可以尽可能减少光学系统中的元件数量,降低系统光路的复杂程度,有利于光束质量的保证。本文介绍了这种光栅的性质,利用严格耦合波方法等方法模拟计算了多用途光栅的主要光学性质,如聚焦特性、衍射效率等。通过计算得出光栅的多项功能都能满足使用要求。
- 杨春林许乔周礼书杨李茗
- 关键词：全息
- 二元位相匹配衍射透镜的研究与应用被引量：1
- 1998年
- 针对大数值孔径衍射透镜制作难、衍射效率低的问题，探讨了用位相匹配原理对元件结构参数优化设计的方法，研制出８台阶二元衍射位相匹配透镜列阵，达到了预期的效果。采用该方法设计的大数值孔径红外锗透镜作为光聚能器，应用在提高红外探测器性能的实验中。
- 杜春雷安晓强邱传凯邓启凌周礼书
- 关键词：数值孔径衍射效率二元光学
- 亚波长超微细减反射结构研究被引量：1
- 2002年
- 当光栅周期小于所使用的波长时，亚微米的表面微结构可以具有减反射作用。西方报导率了理论研究和制作技术，成功地制作了周期为400nm等的超微细结构，测量结果与理论值具有良好的一致性。
- 杨李茗柴立群周礼书杨春林
- 关键词：亚波长光栅刻蚀衍射光学
- 光学元件面形修复的刻蚀装置
- 本实用新型提供了一种对光学元件的面形进行高精度修复的刻蚀装置，包括装架、刻蚀头、三维移动平台和计算机，所述刻蚀头安装在三维移动平台上，三维移动平台通过控制线与计算机相连，所述刻蚀头由放置易挥发有机溶剂的容器和刻蚀液容器组...
- 许乔侯晶张清华王健雷向阳周礼书陈宁
- 文献传递
- 用于光束匀滑的连续相位板近场均匀性被引量：9
- 2011年
- 为降低高功率激光系统中连续相位板(CPP)后续元件的强激光损伤风险,综合考虑入射光强调制、干涉及衍射作用等多种影响因素,建立了CPP近场计算分析模型,模拟和分析了这些因素对CPP后的近场均匀性的影响。理论分析结果表明:CPP后的光束近场均匀性主要受入射光调制、CPP表面剩余反射率和衍射传输距离的影响;当入射光束质量较差时,CPP后的近场均匀性主要由入射光束质量决定,CPP剩余反射率和衍射传输距离对近场均匀性影响相对较小;但当光束质量比较理想时,干涉和衍射作用会破坏CPP的近场均匀性,衍射传输距离影响尤为突出。
- 温圣林侯晶杨春林颜浩马平周礼书
- 关键词：近场光束质量惯性约束聚变
- 一种制作微透镜列阵的方法
- 本发明公开了一种制作微透镜列阵的方法。该方法包含设计、制作二元掩模,将掩模经光学系统投影在光刻材料上,在曝光过程中移动掩模,刻蚀、复制等步骤。该方法克服了二元光学方法、激光直写技术、光刻热熔法等方法存在的缺陷和上述方法在...
- 陈波曾红军杜春雷郭履容潘丽邓启凌周礼书邱传凯
- 文献传递
- 用湿法刻蚀技术制作衍射光学元件
- 研究了氢氟酸(HF)湿法刻蚀石英玻璃的化学机理,探索了针对衍射光学元件制作的刻蚀工艺,得到相关实验规律和工艺参数.最后对实验误差进行定量分析,得到湿法刻蚀的可控精度.
- 周礼书敬守勇杨李茗杨春林
- 关键词：衍射光学元件湿法刻蚀刻蚀速率氢氟酸
- 文献传递
- 衍射微透镜列阵应用技术研究
- 杜春蕾邱传凯白临波邓启凌潘丽陈波周礼书周崇喜王永茹候德胜
- 该项目首次将微透镜阵列成功集成在256×290元PtSi红外焦平面探测器芯片上。在红外成像测试系统中对集成芯片进行红外成像实验，结果良好，为提高大面阵红外探测器的探测性能提供了一个全新的技术。红外焦平面探测器的性能直接决...
- 关键词：
- 关键词：微透镜列阵红外焦平面探测器集成芯片
- 折射型微透镜列阵制作的一种新途径被引量：1
- 2000年
- 介绍了一种制作折射型微透镜列阵的新方法，其主要思想参考了灰阶掩模法。所用掩模板用激光直写制作，通过一次曝光即可在光刻胶上形成折射型微透镜的轮廓，并给出了微透镜轮廓的测试图样。
- 李学民卢国纬周礼书
- 关键词：微透镜列阵激光直写微光学
- 亚波长超微细减反射结构研究
- 当光栅周期小于所使用的波长时,亚微米的表面微结构可以具有减反射作用.本文报导率了理论研究和制作技术,成功地制作了周期为400nm等的超微细结构,测量结果与理论值具有良好的一致性.
- 杨李茗柴立群周礼书杨春林
- 关键词：亚波长微细结构衍射光学
- 文献传递
