杨树敏
- 作品数：14 被引量：1H指数：1
- 供职机构：中国科学院上海应用物理研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金中国科学院知识创新工程国家重点基础研究发展计划更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术电子电信机械工程更多>>
- 一种同步辐射X射线大面积干涉光刻系统
- 本发明涉及一种同步辐射X射线大面积干涉光刻系统，其包括：依次排列的波荡器光源、多个反射聚焦镜、掩膜光栅、具有光阑孔的级选光阑、具有观察孔的样品台、铝膜以及CCD探测器。本发明通过在掩膜光栅与样品之间增设级选光阑，并通过C...
- 薛超凡吴衍青刘海岗杨树敏王连升赵俊邰仁忠
- 离子束诱导碳圆锥室温生长锥角的可控性研究
- 2007年
- 采用荷能Ar^+束室温倾角溅射石墨的方法制备可控锥角的碳纳米纤维/圆锥结构。扫描电子显微镜结果表明样品表面产生的圆锥密度达1×10~9—1×10^(10)·cm^(-2),沿离子束方向排列,且在每个圆锥上都有碳纳米纤维长出。随着入射倾角由30°增大到60°,碳圆锥的锥角从33°降到20°、长径比从250nm/150nm增大到1200nm/400 nm。随着入射角度的增加,离子束诱导的表面原子有效扩散系数减小和溅射速率增大是碳圆锥的长径比增大、碳圆锥的锥角减小及其密度增加的原因。随着离子束流强度由200μA·cm^(-2)增加到800μA·cm^(-2),碳圆锥的锥角从90°降到20°、碳圆锥的高度从100nm增加到1200nm。相同时间内,随束流强度的增大,碳圆锥表面单位面积内离子的注入剂量增大,导致溅射出来的碳原子数目增多。这是随离子束流强度增大形成碳圆锥的锥角变小且高度增加的原因。
- 李勤涛倪志春杨树敏巩金龙朱德彰朱志远
- 关键词：锥角
- 金刚石、纳米、超纳米金刚石薄膜的生长与刻蚀研究
- 由于金刚石、纳米、超纳米金刚石薄膜独特的物理化学性质及与此相关的潜在应用前景，金刚石相关薄膜的化学气相沉积(CVD)成为近年来金刚石合成研究的热点。同时，基于金刚石薄膜刻蚀技术的一维金刚石纳米阵列的研究，成为近年来实现其...
- 杨树敏
- 关键词：化学气相
- 低压促进的金刚石薄膜的低温生长
- 2009年
- 本文研究了气压对热丝化学气相沉积金刚石薄膜沉积温度的影响。扫描电子显微镜(SEM)结果表明,同常规热丝化学气相沉积的气压(5.32kPa)相比,采用较低的气压(0.67kPa)、在500℃的低温下可获得常规气压下不大容易获得的、小颗粒的金刚石薄膜。Raman结果进一步证实了这种薄膜具有同5.32kPa、700℃条件下沉积的薄膜的可比拟的质量。低温低压下高质量的金刚石薄膜的获得同气压在决定衬底表面的碳氢分子活性基团浓度的两种相反的作用密切相关。同相同温度其它气压条件相比,在500℃的衬底温度、0.67kPa气压下到达衬底表面的碳氢分子活性基团具有较高的浓度,从而导致了常规气压下不大可能获得的高质量,小颗粒金刚石薄膜的低温沉积。
- 杨树敏谢巧玲周兴泰朱德彰巩金龙
- 关键词：金刚石薄膜热丝化学气相沉积
- 一种原位光通量监测及曝光剂量补偿方法
- 本发明涉及一种原位光通量监测及曝光剂量补偿方法，该方法通过采用光电二极管在光刻实验开始前对经过出射狭缝进入真空腔体内的主光束的光通量进行测量，并在进行实验曝光时对经过出射狭缝进入真空腔体内的强度与主光束成正比的杂散光的光...
- 薛超凡胡纯刘平吴衍青王连升杨树敏赵俊郑丽芳邰仁忠
- 文献传递
- 压力对热丝化学气相沉积的CH_4/H_2/Ar气氛中的纳米金刚石薄膜生长的影响(英文)
- 2009年
- 在热丝化学气相沉积体系中,系统研究了气压对CH4/H2/Ar气氛中纳米金刚石薄膜生长的影响。研究发现,体系气压对纳米金刚石的生长有很大的影响。在40 torr的气压下,在CH4/H2/Ar气氛中的Ar气含量需高达90%才能保证纳米金刚石薄膜的生长,但降低气压至5 torr时,50%的Ar气含量即可保证纳米金刚石薄膜的生长。压力对薄膜生长表面的气体浓度的影响是这个转变的主要原因。在同样的Ar含量下,在5 torr下的C2活性基团的浓度高于40 torr的浓度,因而低的Ar含量会保证纳米金刚石薄膜的生长。
- 杨树敏贺周同朱德彰巩金龙周兴泰
- 关键词：纳米金刚石薄膜热丝化学气相沉积
- 一种制备表面增强拉曼光谱基底的方法及其基底
- 本发明提供一种制备表面增强拉曼光谱基底的方法，包括：提供基片层；在基片层上通过蒸镀或溅射形成粘附层；在粘附层上通过蒸镀或溅射形成金属薄膜层；在金属薄膜层上通过蒸镀或溅射或化学气相沉积或薄膜湿法转移形成绝缘层；在绝缘层上通...
- 刘星邰仁忠吴衍青杨树敏赵俊王连升薛超凡
- 文献传递
- 金刚石薄膜为掩膜离子束室温溅射可控制备硅纳米圆锥阵列被引量：1
- 2009年
- 以金刚石薄膜为掩膜,采用低能Ar+束室温倾角溅射的方法制备密度和形貌可控的硅纳米圆锥阵列。扫描电子显微镜(SEM)结果表明,离子束溅射后得到的硅纳米圆锥密度与作为掩膜的金刚石薄膜颗粒密度相当;硅纳米圆锥的形貌与离子束入射角有密切关系,随着入射倾角由30°增大到75°,得到的硅纳米圆锥的锥角由73°减小到23°,其长径比从500nm/360nm增大到2400nm/600nm。由于金刚石比硅材料的溅射速率更低,因此以金刚石薄膜为掩膜可以制备较大长径比的硅纳米圆锥阵列;随着入射角的增大,离子束溅射诱导的表面原子有效扩散系数减小和溅射速率增大是硅纳米圆锥的锥角减小、长径比增大的主要原因。
- 谢巧玲李勤涛杨树敏贺周同周兴泰朱德彰巩金龙
- 关键词：离子束溅射金刚石薄膜
- X射线干涉光刻方法制备表面增强拉曼散射基底
- 2017年
- 表面增强拉曼散射(Surface-enhanced Raman Scatting,SERS)是一种非常重要的化合物分析技术,在光谱分析、生物传感等领域有着广泛的应用。理想的SERS基底需要同时具有高灵敏度和高均一性,这就需要制备一种大面积并且周期小于100 nm的金属纳米阵列。同步辐射X射线干涉光刻技术具有很高的光刻分辨能力和均匀性,可以制备高密度的金属纳米阵列。利用X射线干涉光刻方法制备了区域面积为320μm×440μm和周期为100 nm的二维周期结构,同时保持了高复制性和优异的均匀性。金属纳米阵列作为表面增强拉曼散射基底时可以提供很好的灵敏度和重复性。对于R6G染料,最低探测极限可达10-9 mol·L-1。在单片样品内的均匀性良好,相对标准偏差为6.72%。此外,表面拉曼增强基底能重复利用,可进一步降低成本。
- 刘星陶旭磊王春鹏周晓娟杨树敏吴衍青邰仁忠
- 关键词：表面增强拉曼散射
- 一种用于不同平面样品对准的装置
- 本实用新型提供一种用于不同平面样品对准的装置，包括：竖向设置的支架；上基板和下基板，上基板和下基板在水平方向上平行布置且通过支架连接为框架结构，上基板和下基板上分别设置有上对准十字线与下对准十字线，上对准十字线与下对准十...
- 赵俊薛超凡吴衍青杨树敏王连升邰仁忠
- 文献传递
