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田鑫: 作品数：12 被引量：15H指数：2; 供职机构：上海理工大学更多>>; 发文基金：国家自然科学基金上海市教委科研基金国家科技支撑计划更多>>; 相关领域：理学机械工程电子电信生物学更多>>

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一种光栅光谱仪重叠光谱分级器: 一种光栅光谱仪重叠光谱分级器，包括聚光镜、低色散直视棱镜、电极头光栏、垂直孔径光栏和狭缝楔片，其特征在于：该光谱分级器安装在光栅光谱仪的光源和狭缝之间；在光栅光谱仪的光源之后和狭缝之间依次安装聚光镜A、垂直孔径光栏、聚光...; 刘猛张大伟田鑫倪争技黄元申庄松林; 文献传递

增强硅基成像器件紫外响应无机薄膜的制备方法: 增强硅基成像器件紫外响应无机薄膜的制备方法，其特征在于：在光电器件光敏面基片的光入射面采用旋转镀膜的方法生成Zn2SiO4∶Mn膜层，该膜层将紫外光转化为可见光；步骤如下：首先...; 张大伟刘猛田鑫倪争技黄元申庄松林; 文献传递

CCD紫外敏感Lumogen薄膜制备与光谱表征被引量：11: 2010年; 传统的CCD和CMOS成像传感器对紫外区域响应比较弱,这是因为多晶硅栅对紫外光有强的吸收能力,从而阻碍了紫外光进入CCD沟道。为了提高探测器对紫外辐射的敏感性,可行的一种办法是在器件上镀一层可以将紫外光转化为可见光的变频膜。采用真空蒸发法制备了有机Lumogen薄膜,并用发光官能团分析、椭圆偏振技术研究了Lumogen薄膜的发光原理与光学常数。分析与实验结果表明:Lumogen可连续光致发光原因是其分子具有四类双键结构;椭圆偏振法测得该Lumogen薄膜折射率在1.3左右,说明该膜具有增透效果。同时,通过测量Lumogen薄膜的透射光谱、吸收光谱、光致发光发射谱和激发谱,表征了Lumogen薄膜的光谱性质,发现Lumogen薄膜在可见波段(>470nm)有较好的透过性,用紫外光激发会产生较强的黄绿光(中心波长位于523nm),且激发光谱宽(240～490nm)。结论表明Lumogen薄膜的发射光谱能够与CCD等传统硅基成像器件的响应光谱匹配,是一种符合实际要求的紫外敏感薄膜。; 张大伟田鑫黄元申倪争技庄松林; 关键词：光谱表征

增强硅基成像器件紫外响应的有机金属薄膜制备方法: 增强硅基成像器件紫外响应的有机金属薄膜制备方法，其特征在于：选取经预烘烤的有机金属配价物Alq3粉末作为镀膜材料，采取真空蒸镀法在硅基成像器件光敏元表面将紫外变频材料蒸镀成膜。所述的经预烘烤的有机金...; 张大伟田鑫刘猛倪争技黄元申庄松林; 文献传递

一种基于无机材料增强紫外响应的硅基成像器件: 一种基于无机材料增强紫外响应的硅基成像器件，其特征在于：在光电器件光敏面基片的光入射面镀一层可将紫外辐射转换为可见光的Zn2SiO4:Mn膜层；与硅基成像器件光敏面基片致密结合...; 刘猛张大伟田鑫倪争技黄元申庄松林; 文献传递

基于三(8-羟基喹啉)铝的紫外增强薄膜研究: 2009年; 为了提高硅基成像器件的紫外响应,本文通过对Alq3发光机理与光致发光特性的研究,用真空蒸镀的方法制备出了基于Alq3的有机金属薄膜。通过测量Alq3薄膜的透过率、光致发光光谱和激发光谱,发现Alq3薄膜在可见波段有很好的透过性,用紫外光激发会产生较强的绿光(中心波长位于510nm),且激发光谱宽(250～425nm)。结论表明Alq3薄膜的发射光谱能够与传统硅基成像器件的响应光谱匹配,是一种符合实际要求的紫外增强薄膜。; 田鑫张大伟黄元申倪争技庄松林; 关键词：光致发光真空蒸镀

全局转录机器工程调控微生物代谢的应用进展: 2022年; 全局转录机器工程(global transcription machinery engineering,gTME)采用微生物作为“细胞工厂”从转录水平扰动基因表达,直接或间接操纵全局转录调控网络,是一种在基因和细胞水平改造微生物、强化目标性能的高效方法。近年来gTME在增强菌株耐受性、提高应答反应能力、高产代谢产物等方面被广泛应用,较传统方法具有快速优化代谢途径、显著提高产物效率等优势。该文综述了gTME分子机制、在应变工程和代谢工程中最新进展及相配合的进化手段,以及高通量筛选策略,以期为微生物改造和代谢工程研究提供帮助。; 田鑫戴健欣田园王光强艾连中熊智强; 关键词：转录因子基因改造高通量筛选

有机金属配价物在光电成像传感器中的紫外增强: 2010年; 针对传统光电成像传感器对紫外响应的敏感度不高,通过研究有机金属配价物的发光机理与光致发光特性,用真空蒸镀的方法制备出有机金属配价物三（8-羟基喹啉）铝（Alq3）薄膜。用紫外光激发Alq3薄膜发现有较强的黄绿光产生,中心波长位于510nm左右,并且激发光谱较宽（250nm～425nm）。该薄膜在可见光波段有很好的透过性,这使得可见光可以透射薄膜,基本无损失地到达传感器光敏感窗,从而增强了光电成像传感器的紫外响应。; 田鑫张大伟黄元申倪争技庄松林

成像器件紫外增强薄膜技术研究进展被引量：5: 2008年; 简述了用于成像器件紫外增强方面的薄膜技术研究进展。讨论了成像器件对紫外响应弱的原因,介绍了紫外增强的方案。重点介绍了有机和无机两类变频膜的材料、制备方法和性能。; 田鑫张大伟黄元申倪争技庄松林; 关键词：成像紫外

一种具有紫外响应的硅基成像器件: 一种具有紫外响应的硅基成像器件，其特征在于：在硅基成像器件光敏元基片的一面镀一层可将紫外辐射转换为可见光的Alq3材料的变频薄膜，与硅基成像器件光敏元基片致密结合。所述的变频薄膜，Alq3...; 田鑫张大伟刘猛倪争技黄元申庄松林; 文献传递