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聂昆深

作品数:4 被引量:2H指数:1
供职机构:广东工业大学材料与能源学院更多>>
相关领域:一般工业技术轻工技术与工程理学更多>>

文献类型

  • 2篇会议论文
  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇轻工技术与工...
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 4篇导电墨水
  • 4篇纳米
  • 4篇纳米铜
  • 1篇导电
  • 1篇导电率
  • 1篇化学还原法
  • 1篇活性剂
  • 1篇分散剂
  • 1篇PVP
  • 1篇CTAB
  • 1篇表面活性
  • 1篇表面活性剂

机构

  • 4篇广东工业大学

作者

  • 4篇聂昆深
  • 3篇黄钧声

传媒

  • 1篇材料研究与应...
  • 1篇2013广东...

年份

  • 4篇2013
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
应用于导电墨水的纳米铜胶体粒径的影响因素分析
近年来导电墨水的应用优势得到广泛的关注。采用喷墨打印的方法代替光刻蚀传统工艺技术制作导电线路的全印制电路技术,是电子工业和电子信息产业的迫切需求。而纳米铜胶体的制备是导电墨水制备的基础和瓶颈。结果与讨论使用液相化学还原一...
黄钧声聂昆深
文献传递
纳米铜导电墨水的研制
本文采用化学还原一步法制备纳米铜胶体,以还原剂硼氢化钾(KBH4),前躯体硫酸铜(CuS04·5H2O为主要反应物,添加乙二胺四乙酸二钠(EDTA-2Na)作为铜离子络合物,通过添加氢氧化钾(KOH)调节反应体系pH值,...
聂昆深
关键词:分散剂导电率
文献传递
应用于导电墨水的纳米铜胶体粒径的影响因素分析
黄钧声聂昆深
应用于导电墨水的纳米铜胶体的研制
2013年
以硼氢化钾(KBH4)为还原剂、硫酸铜(CuSO4.5H2O)为前驱体,乙二胺四乙酸二钠(EDTA-2Na)为络合剂,十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)为反应场表面活性剂,KOH为pH值调节剂,制备纳米铜胶体.对影响纳米铜胶体粒径以及分散稳定性的因素进行了研究,结果表明:当CTAB,KOH,EDTA-2Na的用量分别为0.22,1.5,0.3~0.4mol/L时,纳米铜胶体的粒子粒径为30nm左右,胶体的分散稳定性较好;用该化学还原法可制备出最小粒径为1.09nm的纯净纳米铜.在聚乙烯吡咯烷酮(PVP)的保护下,可有效防止纳米铜粉末氧化.
聂昆深黄钧声
关键词:导电墨水纳米铜化学还原法表面活性剂CTABPVP
共1页<1>
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