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贾晓芳

作品数:7 被引量:16H指数:3
供职机构:西南大学更多>>
发文基金:重庆市科技攻关计划教育部留学回国人员科研启动基金更多>>
相关领域:一般工业技术金属学及工艺理学更多>>

文献类型

  • 5篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇专利

领域

  • 3篇金属学及工艺
  • 3篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 3篇带钢
  • 3篇轧带
  • 3篇冷轧
  • 3篇冷轧带
  • 3篇冷轧带钢
  • 2篇电弧离子镀
  • 2篇离子镀
  • 1篇氮化
  • 1篇氮化钛
  • 1篇氮化钛薄膜
  • 1篇电解
  • 1篇电解清洗
  • 1篇应力
  • 1篇硬质
  • 1篇硬质涂层
  • 1篇数值模拟
  • 1篇数值模拟研究
  • 1篇碳化物
  • 1篇碳化物涂层
  • 1篇涂层

机构

  • 7篇西南大学
  • 2篇中冶赛迪工程...

作者

  • 7篇贾晓芳
  • 6篇聂朝胤
  • 2篇谢红梅
  • 2篇卢春灿
  • 2篇刘晓魁
  • 2篇潘婧
  • 2篇王宇
  • 1篇谭华
  • 1篇杨娟
  • 1篇林华
  • 1篇高鹏飞
  • 1篇聂明
  • 1篇曾志军
  • 1篇徐东
  • 1篇张碧云

传媒

  • 2篇表面技术
  • 1篇金属学报
  • 1篇材料导报
  • 1篇材料热处理学...

年份

  • 1篇2012
  • 2篇2011
  • 3篇2010
  • 1篇2009
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
基于分光光度法的冷轧带钢表面残油量检测与分析被引量:1
2011年
利用石油醚提取带钢表面轧制油,采用紫外分光光度法测定带钢表面含油量。利用CCl4提取带钢表面油脂,用红外分光测油仪测出油类物质在2 930,2 960,3 030cm-1谱带处的吸光度,根据三个吸光度计算得出带钢表面总的含油量。结果表明,红外分光光度法和紫外分光光度法均能测定冷轧带钢表面的含油量,两种方法简单、快速,测定结果可靠,相比而言,红外分光光度法测得的数据可靠性更强,且操作更为方便。
贾晓芳谭华徐东王宇聂朝胤
关键词:紫外分光光度法红外分光光度法冷轧带钢
阳极线性离子源辅助磁控溅射沉积氮化钛薄膜的研究被引量:5
2010年
采用阳极线性离子源辅助磁控溅射技术,通过改变氮气流量以及离子源功率,在低温(150℃)条件下以不锈钢为基体制备了氮化钛薄膜。采用X射线衍射技术、显微硬度计、球盘式摩擦磨损仪、压痕法研究了薄膜的结构、硬度、耐磨性和结合强度,结果表明,采用阳极线性离子源辅助磁控溅射法在150℃低温条件下能制备出具有良好特性的金黄色的氮化钛薄膜。当氮气流量为20sccm、离子源功率为300W时,制备的薄膜硬度达到2039HV,且薄膜的耐磨性与结合强度最佳。离子的轰击作用使薄膜的力学性能得到了较大改善。
卢春灿聂朝胤潘婧贾晓芳谢红梅杨娟
关键词:磁控溅射氮化钛
冷轧带钢表面残污物检测方法的研究现状被引量:3
2010年
综述了冷轧带钢表面残污物的主要成分及其检测方法,主要包括称量法、有机溶剂浸洗-质量法、反射率法、接触法、循环伏安法、水滴法等。对比了各种方法的优缺点,提出了目前带钢表面残污物检测手段存在的主要问题及解决方法。
王宇贾晓芳刘晓魁高鹏飞曾志军聂明聂朝胤
关键词:冷轧带钢清洁度
冷轧带钢电解清洗工艺及其数值模拟研究
冷轧带钢电解清洗是一个多参数综合作用的过程。目前,国内外的研究基本局限于单因素的定性或是半定量分析,实际工况中主要依靠试验和经验控制工艺参数的调节。冷轧带钢电解清洗工艺的计算机模拟研究,对研究冷轧带钢电解清洗过程以及合理...
贾晓芳
关键词:冷轧带钢电解清洗数值模拟清洗工艺
文献传递
一种提高硬质涂层与基体界面结合强度的方法
本发明公开了一种提高硬质涂层(薄膜)与基体界面结合强度的方法,该方法将硬质涂层/基体复合体系于-50℃~-273℃的低温或超低温下处理5~48小时实现。硬质涂层包括TiN、CrN、TiAlN、TiSiN、CrAlTiN、...
聂朝胤张碧云谢红梅贾晓芳刘晓魁林华
文献传递
电弧离子镀CrSiN薄膜的内应力控制与厚膜化被引量:1
2010年
采用电弧离子镀技术在不锈钢SUS440C基片上沉积了CrSiN薄膜,并在此基础上通过引入Cr应力缓和层制备了CrSiN/Cr多层薄膜,研究了Cr应力缓和层对缓解CrSiN薄膜内部应力、增强膜基结合力、提高薄膜沉积厚度的作用。利用X射线衍射仪及sin2ψ法测试计算了薄膜的内部应力、采用扫描电镜及透射电镜观察了薄膜的显微结构,采用微米划痕仪测试了膜基结合强度。结果表明:20~30 nm极薄Cr层的导入,缓解了CrSiN薄膜内部应力的积累,降低了薄膜整体的内部应力,选择合适的Cr层数,最大可降低内部应力1/2。CrSiN/Cr多层膜仍保持了原有的连续柱状晶生长模式,CrSiN层与Cr层间,界面完整清晰,Si-N非晶部分缓解了CrSiN中CrN晶格与Cr层中Cr晶格间的失配,使得层间结合紧密牢固。划痕仪测试结果表明膜基结合强度与薄膜内部应力呈现出高度的相关性,Cr应力缓和层的导入改善了薄膜的膜基结合力、提高了薄膜可沉积厚度。
聂朝胤安藤彰朗潘婧贾晓芳
关键词:电弧离子镀内部应力
电弧离子镀法制备高硬度Cr-Si-C-N薄膜被引量:5
2009年
采用电弧离子反应沉积技术在SCM415渗碳淬火钢基片上沉积了Cr-Si-C-N薄膜,三甲基硅烷(TMS)反应气体作为Si和C掺杂源,通过改变TMS流量实现了薄膜中Si和C含量的调节.利用XPS,XRD,HRTEM和显微硬度计研究了Cr-Si-C-N薄膜的化学状态、显微组织和显微硬度.Cr-Si-C-N薄膜中的Si和C含量随TMS流量的增加而单调增加.在TMS流量小于90 mL/min时,薄膜中Si和C含量较少,薄膜由Cr(C,N)纳米晶与Si_3N_4非晶(nc-Cr(C,N)/a Si_3N_4)组成,薄膜硬度随流量的增加而单调增大,最大至4500 HK.硬度的增加源于固溶强化及薄膜中纳米晶/非晶复合结构的形成;当TMS流量大于90 mL/min时,薄膜中Si和C含量较多,多余的C以游离态形式存在,且随TMS流量的增加而增多,薄膜硬度下降.
聂朝胤Akiro Ando卢春灿贾晓芳
关键词:电弧离子镀纳米晶显微硬度
共1页<1>
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