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黄志俊

作品数：1 被引量：12H指数：1
供职机构：哈尔滨工业大学材料科学与工程学院先进焊接与连接国家重点实验室更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：理学金属学及工艺更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇理学

主题

  • 1篇等离子
  • 1篇等离子体
  • 1篇等离子体浸没...
  • 1篇子阵
  • 1篇物理量
  • 1篇离子流密度
  • 1篇离子注入
  • 1篇脉冲偏压
  • 1篇PIII

机构

  • 1篇哈尔滨工业大...
  • 1篇香港城市大学

作者

  • 1篇田修波
  • 1篇黄永宪
  • 1篇杨士勤
  • 1篇黄志俊

传媒

  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 1篇2005
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
等离子体浸没离子注入(PIII)过程中初始离子阵鞘层尺度内各物理量的时空演化被引量：12
2005年
等离子体浸没离子注入(PIII)是用于材料表面改性的一种较新的、廉价的、非视线的技术。靶体被浸没在等离子体中,等离子体中的离子在靶体负脉冲偏压的作用下注入靶体而实现材料的表面改性。为了描述等离子体浸没离子注入过程,我们引用了一维粒子模型(PIC)对其进行了数值模拟,该模型通过求解空间电势的Poisson方程,电子的Bolzmann分布以及离子在网格中受力运动的Newton运动方程来完成。本文重点研究了一个初始离子阵鞘层内电势、离子浓度、离子注入靶体的速度和动能以及离子流密度的时空演化规律。
黄永宪田修波杨士勤黄志俊Ricky FuPaul K.Chu
关键词：等离子体浸没离子注入子阵物理量离子流密度脉冲偏压
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