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刘永进

作品数:11 被引量:12H指数:2
供职机构:中国电子科技集团公司第四十五研究所更多>>
相关领域:电子电信机械工程化学工程自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 11篇中文期刊文章

领域

  • 8篇电子电信
  • 1篇化学工程
  • 1篇机械工程
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 3篇光刻
  • 3篇光刻版
  • 2篇电路
  • 2篇全自动
  • 2篇集成电路
  • 2篇半导体
  • 1篇单晶
  • 1篇单晶圆
  • 1篇电镀
  • 1篇电镀技术
  • 1篇电化学
  • 1篇电化学沉积
  • 1篇电路制造
  • 1篇电气控制
  • 1篇兆声清洗
  • 1篇软件系统
  • 1篇声波
  • 1篇通信
  • 1篇通信协议
  • 1篇喷头

机构

  • 11篇中国电子科技...

作者

  • 11篇刘永进
  • 5篇宋文超
  • 2篇刘玉倩
  • 2篇杜建科
  • 2篇张伟锋
  • 2篇冯小强
  • 1篇侯为萍
  • 1篇陈仲武
  • 1篇关宏武
  • 1篇刘玉倩
  • 1篇宋伟峰
  • 1篇成龙
  • 1篇王刚
  • 1篇高津平
  • 1篇张利军

传媒

  • 11篇电子工业专用...

年份

  • 1篇2022
  • 1篇2016
  • 2篇2014
  • 4篇2013
  • 1篇2012
  • 2篇2011
11 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
电镀技术在大马士革工艺中的应用研究被引量:2
2022年
电镀是一种良好的实现金属沉积的电化学工艺方法。为探索电镀技术在大马士革工艺中的应用,先介绍了电镀的基本理论,然后阐述了双大马士革的工艺流程,继而从电镀液和脉冲电镀方面分析了电镀对大马士革工艺的影响。结果表明镀液中的Cl-对电镀有催化作用,脉冲电镀比直流电镀所需的时间短,电流密度对镀层的生长方式影响不大,脉冲时间对填充速率有重要影响。最后提出,应该从电镀设备、电镀液、工艺参数各方面进行研发,从而改善电镀效果,促进集成电路产业的快速发展。
林煦呐刘福强刘永进刘一鸣
关键词:集成电路
单晶圆兆声清洗技术研究及兆声喷头方案优化被引量:4
2011年
基于单晶圆兆声清洗的原理,分析了针对单晶圆兆声清洗的多种方案的优缺点,提出了适合单晶圆兆声清洗的优化方案。
刘永进杜建科冯小强
关键词:单晶圆
气动增压泵在单片晶圆清洗过程中的应用被引量:1
2011年
主要分析了气动增压泵的组成和工作原理,描述了气动增压泵在单片晶圆清洗过程中的应用特点和优势。介绍了气动增压泵在应用过程中的控制方法和选用注意事项。
杜建科刘永进冯小强
超声技术在半导体行业中应用探讨
2012年
晶片的洁净程度直接决定了晶片的价值,而晶片最前端工艺就是清洗。现代化超声技术的应用可让晶片更洁净。超声波清洗的功率、频率、尺寸、安装方式的选择都与晶片清洁程度有着密切关系。主要对超声波的原理和频率的选定进行了介绍。
宋伟峰成龙刘永进关宏武
关键词:超声波
全自动光刻版清洗机工艺原理与工作过程介绍被引量:1
2014年
介绍了常用的光刻版清洗工艺,并详细讲解了全自动光刻版清洗机的工作过程。同时,简单介绍了为提高光刻版清洗效果而设计的浸泡系统、药液供给与循环系统和温控系统。
宋文超刘永进王刚张利军侯为萍
关键词:半导体自动设备
基于CAN总线的机械手通信协议的设计与实现
2014年
描述了一种真空吸片式机械手通信协议的设计方案。机械手通信的硬件实现基于CAN总线,具有高精度、实时性和可靠性高等特点,控制软件在Windows下使用VC++6.0编程,具有友好的人机界面和可操作性。概述了机械手的基本功能和应用领域,详细介绍了机械手通信协议的设计思想及软件实现。
刘玉倩刘永进宋文超
关键词:控制器局域网机械手通信协议自动化
光刻版清洗工艺及设备研究被引量:2
2013年
光刻版的洁净程度直接影响到光刻的效果,定期对光刻版进行清洗是保证光刻版洁净的必要手段。根据光刻版污染物的特点介绍了多种光刻版清洗工艺及相关设备的种类及组成,最后通过试验考查了工艺设备的使用效果。
刘永进刘玉倩宋文超
关键词:光刻版
光刻版清洗工艺及设备研究
2013年
光刻版的洁净程度直接影响到光刻的效果,定期对光刻版进行清洗是保证光刻版洁净的必要手段。根据光刻版污染物的特点介绍了多种光刻版清洗工艺,并介绍了相关工艺设备的种类及组成,最后通过试验考查了工艺设备的使用效果。
刘永进刘玉倩宋文超
关键词:光刻版
针对连续式化学镀的清洗技术
2013年
连续式化学液镀的清洗具有连续工作、用水量大的特点,特别对于镀液中含有有毒离子时,废液处理费用昂贵。针对连续式化学镀的这一特点,介绍了一种"三级溢流、六级清洗"的清洗方式,能够在保证清洗效果的同时大大降低废液的产生量。
刘永进张伟锋高津平
关键词:连续式化学镀
电化学沉积设备在集成电路制造中的应用及发展现状被引量:1
2016年
根据集成电路发展的趋势,分析了电化学沉积设备在集成电路行业的应用。通过及国外各主流设备的特点及国内设备的现状阐述,指出了国内在电化学沉积设备及技术方面,与国外水平存在巨大的差距。
刘永进
关键词:电化学沉积集成电路
共2页<12>
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