宋道颖
- 作品数：4 被引量：7H指数：1
- 供职机构：北京工业大学材料科学与工程学院新型功能材料教育部重点实验室更多>>
- 发文基金：国家重点基础研究发展计划更多>>
- 相关领域：理学更多>>
- a-Si:H薄膜的MW ECR CVD沉积与FTIR分析
- 采用Si和石英玻璃为衬底,微波功率为300W.气体采用SiH<,4>和H<,2>,沉积时间为60分,工作气压为0.5pa制备了a-Si:H薄膜,并用FTIR1020傅立叶转换红外光谱仪对其进行了测...
- 宋道颖宋雪梅陈蔚忠冯贞健芦奇力鲍旭红陈光华
- 关键词：化学气相沉积红外光谱
- 薄膜生长的Monte Carlo模拟被引量：7
- 2002年
- 利用Monte Carlo方法模拟了薄膜的二维和三维生长,引入Morse作用势描述了粒子间的相互作用,并根据势中的作用范围α详细考虑了近邻粒子的影响.研究发现,在:二维生长中各粒子团生长过程曲线存在多重线性分布,且在某一阶段各分布直线满足二分角关系.三维模拟结果表明,随着沉积粒子数的增加,成团粒子数所占百分比下降,这与二维结果相符.
- 陈光华杨宁宋道颖
- 关键词：薄膜生长
- MWECRCVD法高速沉积α-Si:H薄膜的红外光谱研究
- 2002年
- 应用微波电子回旋共振化学气相沉积 (MWECRCVD)方法 ,在较高速度下沉积了α Si:H薄膜 ,用FTIR红外谱仪研究了α Si:H薄膜的结构特性随H2 /SiH4 、沉积温度和沉积速率变化关系 ,并对 2 0 0 0cm-1附近的特征吸收峰用高斯函数进行了拟合分析 ,获得了沉积高质量α Si:H薄膜的最佳工艺条件。
- 宋雪梅宋道颖陈蔚忠芦奇力冯贞健鲍旭红邓金祥陈光华
- a-Si:H薄膜的MWECR CVD制备及特性研究
- 氢化非晶硅薄膜(a-Si：H)以其优越的特性在薄膜太阳能电池、薄膜晶体管和大面积平面显示等技术领域起着日益重要的作用，但过低的沉积速率严重限制了它的进一步产业化。为了在较高的沉积速率下获得器件级质量的a-Si：H薄膜，人...
- 宋道颖
- 关键词：氢化非晶硅薄膜沉积速率光电性能微波功率
- 文献传递
