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尤伟伟

作品数:4 被引量:56H指数:3
供职机构:国防科学技术大学机电工程与自动化学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:机械工程化学工程一般工业技术更多>>

文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 2篇机械工程
  • 1篇化学工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 4篇磁流变
  • 3篇磁流变液
  • 2篇抛光
  • 1篇去除率
  • 1篇流变性
  • 1篇流变性能
  • 1篇光学零件
  • 1篇非球面
  • 1篇非球面光学
  • 1篇非球面光学零...
  • 1篇测试系统
  • 1篇磁流变抛光

机构

  • 4篇国防科学技术...

作者

  • 4篇彭小强
  • 4篇尤伟伟
  • 3篇戴一帆
  • 1篇石峰
  • 1篇李圣怡

传媒

  • 2篇国防科技大学...
  • 1篇光学精密工程
  • 1篇航空精密制造...

年份

  • 1篇2006
  • 1篇2005
  • 2篇2004
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
磁流变抛光液的研究被引量:23
2004年
介绍了磁流变抛光的原理和特点,并由此提出了适于抛光的磁流变液的评价标准,根据这一标准选取了磁流变液的各组分,配制出了标准的光学抛光用磁流变抛光液。通过自行研制的磁流变仪测得该磁流变液在磁场为600mT,剪切率为110rad/s时的剪切屈服应力达到70kPa。用所配磁流变液对K9玻璃进行抛光实验,试验结果表明,磁流变抛光的材料最大去除率为0.4μm/min。
尤伟伟彭小强戴一帆
关键词:磁流变液抛光去除率
磁流变液流变性能测试系统的研究被引量:3
2005年
介绍了一种专门用于磁流变液流变性能测试的装置,该装置能满足磁流变抛光中不同磁场方向下的剪切屈服应力的测量,并通过实验验证了该装置的可靠性。
戴一帆尤伟伟彭小强
关键词:磁流变液流变性能
回转对称非球面光学零件磁流变成形抛光的驻留时间算法被引量:22
2004年
介绍了一种基于代数算法的回转对称非球面计算机控制表面成形的驻留时间算法。该算法将驻留时间转化为工件自转的整数圈数,并且将抛光模对工件的材料去除效率体现到材料去除矩阵上进行计算。利用非负最小二乘法求解驻留时间向量。最后,利用该算法在自研的磁流变抛光实验装置上对一回转对称光学零件进行3次迭代加工,使其面形精度从8μm提高到0.5μm以内。
彭小强戴一帆李圣怡尤伟伟
关键词:磁流变抛光非球面
磁流变液剪切屈服应力模型的理论分析与实验被引量:11
2006年
剪切屈服应力是评价磁流变液流变性能的最重要参数,建立全面、准确的磁流变液剪切屈服应力模型对于反映磁流变液的流变学本质及磁流变液的工程应用都具有重要意义。在分析磁流变液微观结构的基础上,采用电磁力学与流体动力学相结合的方法,建立了磁流变液的剪切屈服应力模型,并在自行研制的磁流变液剪切屈服应力测试装置上对自制的磁流变液进行了实验测试,验证了模型的正确性。
彭小强尤伟伟石峰
关键词:磁流变液
共1页<1>
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