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崔辉

作品数:5 被引量:15H指数:2
供职机构:中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:机械工程理学更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 2篇专利
  • 1篇会议论文

领域

  • 3篇机械工程
  • 2篇理学

主题

  • 4篇全内反射
  • 2篇照明
  • 2篇照明装置
  • 2篇偏振
  • 2篇偏振态
  • 2篇显微技术
  • 2篇精确控制
  • 2篇激光
  • 2篇激光光源
  • 2篇光源
  • 1篇质谱
  • 1篇熔石英
  • 1篇蚀刻
  • 1篇清晰度
  • 1篇清晰度评价
  • 1篇离子
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米级
  • 1篇棱镜
  • 1篇二次离子质谱

机构

  • 5篇中国科学院上...
  • 2篇中国科学院大...
  • 1篇上海大学

作者

  • 5篇崔辉
  • 4篇杨俊
  • 3篇刘世杰
  • 3篇赵元安
  • 3篇易葵
  • 2篇刘杰
  • 2篇吴建波
  • 1篇魏朝阳
  • 1篇胡国行
  • 1篇刘文文
  • 1篇邵建达
  • 1篇刘杰

传媒

  • 1篇光学学报
  • 1篇强激光与粒子...

年份

  • 1篇2015
  • 3篇2014
  • 1篇2013
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
全内反射原位照明装置及其控制方法
一种全内反射原位照明装置及其控制方法,全内反射原位照明装置,包括激光光源、偏振态转换单元、第一反射镜、第二反射镜、直角导光棱镜和计算机,本发明通过计算机的控制所述的一维电机平移台和一维电机转动台的组合来精确控制第二反射镜...
崔辉刘世杰赵元安易葵吴建波杨俊刘杰
文献传递
全内反射显微技术探测亚表面缺陷新方法
<正>随着强激光系统中激光通量的逐渐提高,强激光辐照造成的元件损伤直接影响了元件的寿命和强激光器系统的运作。提高光学元件的抗激光损伤能力是光学元件制备和使用过程中最关键和最重要的挑战。研究发现,位于表面以下的亚表面缺陷是...
刘世杰崔辉孔钒宇张博
文献传递
熔石英再沉积层结构的纳米级表征和杂质分析被引量:3
2014年
利用原子力显微镜观察熔石英不同蚀刻时间的表面形貌,结合二次离子质谱分析,研究了熔石英的再沉积层结构和杂质分布。结果表明,熔石英表面深度10nm的再沉积层内存在大量微裂纹和杂质,经蚀刻展开形成nm级划痕和坑点,其分布随着深度增加呈指数衰减。根据nm级划痕密度、宽深比随蚀刻深度变化的规律,估算出再沉积层厚度,估算结果与二次离子质谱测得的杂质嵌入深度基本一致。杂质元素嵌入深度与抛光微裂纹分布特征的关联性表明,杂质很有可能藏匿在抛光微裂纹中。
杨俊易葵魏朝阳胡国行崔辉邵建达
关键词:熔石英蚀刻二次离子质谱
全内反射原位照明装置及其控制方法
一种全内反射原位照明装置及其控制方法,全内反射原位照明装置,包括激光光源、偏振态转换单元、第一反射镜、第二反射镜、直角导光棱镜和计算机,本发明通过计算机的控制所述的一维电机平移台和一维电机转动台的组合来精确控制第二反射镜...
崔辉刘世杰赵元安易葵吴建波杨俊刘杰
文献传递
全内反射显微技术探测亚表面缺陷新方法研究被引量:12
2014年
亚表面缺陷的检测和去除对于提高光学元件的激光损伤阈值至关重要。结合全内反射显微技术和数字图像处理技术获得光学元件亚表面缺陷信息的新方法,利用显微镜系统的有限焦深,对亚表面缺陷沿深度方向扫描,可以获得不同离焦量下的散射图像,通过数字图像处理技术,建立缺陷散射图像清晰度评价值与离焦量的关系,通过清晰度曲线得到亚表面缺陷的深度位置及深度尺寸。模拟全内反射显微平台的成像过程,讨论微调焦过程中全内反射显微成像的特点。缺陷深度位置及深度尺寸的测量精度主要由载物台精密调焦机构的精度以及显微镜的焦深决定,一般可达微米量级。利用飞秒激光加工技术制备尺寸和位置已知的微结构,使用该方法准确获得了微结构信息,验证了该方法的有效性。
崔辉刘世杰赵元安杨俊刘杰刘文文
关键词:清晰度评价
共1页<1>
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