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曹均凯

作品数：2 被引量：0H指数：0
供职机构：重庆光电技术研究所更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 1篇晶闸管
  • 1篇高压晶闸管
  • 1篇光电
  • 1篇光电二极管
  • 1篇光开关
  • 1篇光开关器件
  • 1篇二极管
  • 1篇干法腐蚀
  • 1篇PIN

机构

  • 2篇重庆光电技术...

作者

  • 2篇曹均凯
  • 1篇但伟

传媒

  • 2篇半导体光电

年份

  • 1篇2000
  • 1篇1990
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
高压光开关器件的设计
2000年
详细叙述了一种高压光电晶闸管的结构及参数设计 ,用最优化方法确定出长基区宽度 ,选取了最佳的工艺途径及材料参数。简单介绍了实验研究及结果 ,并进行了简要的讨论。
曹均凯但伟
关键词：光开关高压晶闸管
干法腐蚀损伤研究
1990年
采用 RIE 法,利用 PIN 光电二极管,研究了干法腐蚀损伤机理及引起损伤的主要因素。由于离子轰击及电子、紫外线辐射,形成了腐蚀面的损伤和沾污。射频功率的大小对表面损伤起着主要作用。用退火方法可以降低损伤程度,甚至可以消除小功率作用下的损伤。
曹均凯
关键词：PIN光电二极管干法腐蚀
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