曹晔
- 作品数：4 被引量：6H指数：2
- 供职机构：北京航空航天大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：一般工业技术理学航空宇航科学技术更多>>
- TiO_2/TiN/PI低红外发射率迷彩薄膜制备及其特性研究被引量：3
- 2009年
- 采用多弧离子镀在聚酰亚胺(PI)基底上制备了TiO2/TiN低红外发射率迷彩薄膜,通过控制溅射的时间,使制备出的薄膜在可见波段具有各种丰富的颜色效果,使其具有迷彩特性,通过制备工艺的优化使其在8μm^14μm波段具有较低的红外发射率。采用扫描电镜、红外辐射率测量仪、紫外-可见-近红外光光度计等测试手段对薄膜样品进行了表征。实验结果表明,采用多弧离子镀成功的在PI基底上制备了具有多种颜色的发射率最低0.27的低红外发射率薄膜。
- 曹晔刁训刚孟超陈将乐顾宝霞
- 关键词：迷彩
- 厚度对室温沉积ZnO∶Al薄膜光电特性的影响被引量：3
- 2009年
- 利用直流磁控溅射法,在室温玻璃衬底上制备了具有良好附着性的多晶ZnO∶A l(ZAO)薄膜。比较了室温下获得的薄膜与衬底加热条件下所得薄膜的结晶程度,研究了厚度对室温条件下制备的ZAO薄膜表面形貌、电学性能及紫外-可见-近红外光区透光性的影响。结果表明,室温条件下制备的ZAO薄膜也具有(002)面择优取向,随着膜厚的增加薄膜晶粒化程度提高,载流子浓度和迁移率增大,电阻率下降,薄膜在紫外光区的吸收边发生红移,在可见光区的平均透过率降低,在近红外光区的透过率随厚度的增加而减小。厚度为1200 nm的ZAO薄膜具有最佳光电综合性能,其电阻率为7.315×10-4Ω.cm,方块电阻为6.1Ω/□,可见光区平均透过率达到82%,波长为550 nm处的透过率为87%。
- 孟超王文文顾宝霞曹晔刁训刚康明生
- 关键词：直流磁控溅射透明导电薄膜光电特性
- 可见光迷彩低红外发射率薄膜制备及其特性被引量：1
- 2010年
- 采用多弧离子镀技术,在Al基底上制备了TiO2/TiN多层膜。通过控制基底材料的粗糙度使制备出的薄膜在可见波段具有非镜面反射效果。采用扫描电镜、红外辐射率测量仪、紫外-可见-近红外光光度计等测试手段对薄膜样品进行了表征。结果表明,采用多弧离子镀法在Al基底上制备了结合力良好、具有迷彩效果的低红外发射率薄膜。研究发现,随氧化层厚度增加,薄膜发射率趋向稳定(0.2左右)。薄膜电阻随氧化层厚度的变化无明显变化。
- 王丛刁训刚曹晔
- 关键词：迷彩EMISSIVITY氧化层厚度多弧离子镀薄膜电阻
- 过渡金属钛氮化物/氧化物复合薄膜的红外及可见光谱特性研究
- 曹晔
- 关键词：红外发射率多弧离子镀
